Машина для очистки решеток гидростанции

Номер патента: 84511

Опубликовано: 01.01.1950

Автор: Кузьмин

МПК: E02F 3/54, E02F 3/64, E02F 3/78

Метки: землеройный, ковш, подвижной

...(фиг. 1 и2), пои )ем передняя стенка 12 перейдет из по,)ожеия Л в положение Б.Так как передняя стенка 12 внутреннего корпуса имеет большуюдлину, нежели ограниченная очертанием днища наружного корпуса задняя стенка 12, она у)прется в положении Б в режущую кромку ковша ипрекратит тем самым дальнейший доступ грунта в ковш.Грунт, заполняк)щий ковш, сзади закрыт задней решетчатой стенкой 12, а спереди - передней решетчатой стенкой 12 и потому не будетвысыпаться при транспортировке.ЕЕри включении соответствующего оарабана лебедки наматываетсяканат 27 и посредством канатов 21 приводятся во вращение бараоаны20, а вместе с ними и шестерни, укрепленные на одних с ними осях исцепляк)щиеся с зубчатыми венцами 25.Влагодаря такому устройству передние...

Номер патента: 1157098

Опубликовано: 23.05.1985

Авторы: Борц, Гаркуша, Ксендзовский, Кудрин, Островский, Семенов, Уланов

МПК: C22B 1/20

Метки: газопроницаемости, конвейерной, машине, подвижной, решеткой, слоя

...газопроницаемости слоя материала на конвейерной машине с подвижной решеткой;на фиг. 2 и 3 - блок-схемы блокавыравнивания давления и блока вычисления соответственно,Устройство содержит датчик 1 давления газа над слоем материала, нулевую вакуум-камеру 2 с датчиком 3давления газа, измерительный газоход 4с датчиками .5 давления и 6 расходагаза и дросселем 7, исполнительныймеханизм 8, блок 9 выравниваниядавления и блок 10 вычисления.Блок-схема блока 9 выравниваниядавления (фиг. 2) содержит элемент 11сравнения и регулятор 12 расхода газа, причем первый и второй входы элемента 11 сравнения являются соответственно первым и вторым входами блока 9 выравнивания давления, выходэлемента 11 сравнения соединен с регулятором 12 расхода газа, а...

Номер патента: 143193

Опубликовано: 01.01.1961

Авторы: Воробьев, Левин

МПК: D01B 1/12

Метки: волокна, выделения, льнотресты, например

...вершинами по ходу движения. За первым слоем стеблей укладывают второй слой таким образом, чтобы вершины стеблей этого слоя несколько перекрывали комли первого слоя.На выходе питающего транспортера 1 льнотреста 17 прижимается прижимным валиком 2 и подается на игольчатый цепной транспортер 3, скорость которого несколько выше, чем питающего транспортера 1.Когда треста 17, двигающаяся с игольчатым полем транспортера 3, проходит на его вторую половину, подвижные планки 9 входят пазом 12 своего выступа 11 на вибрирующую пластину 13, вследствие чего планки 9 начинают получать возвратно-поступательное движение перпендикулярно движению транспортера 3. При этом происходит промин льнотресты 17 и отделение от нее костры.Так как с удалением от...

Номер патента: 546287

Опубликовано: 05.02.1977

Авторы: Ален, Жан-Люк

МПК: C22B 1/00

Метки: агломерационной, подвижной, решеткой, установкой

...выборок, запоминаютсявычислителем 9 в целях, которые будут пояснены далее.Для облегчения понимания процесса выборки в дальнейшем предполагается, что термопары расположены вдоль решетки на одинаковом расстоянии с друг от друга. При этомвыборка осуществляется с шагом , определяемым как=/Ч, значение 3 вводитсяв вычислитель 9 в виде константы. Следовательно,. между двумя последовательнымивыборками, осуществляемыми вычислителем9, соответствующие элементы шихты, расположенные над датчиками, осазываются перемещенными на расстояние о,Кривая температур для одного и того жеэлемента шихты (фиг, 2) содержит прямолмнейчый участок А, соответствующий постоянным температурам, за которым следует участок повышения температуры В, горизонтальТаким...

Номер патента: 930382

Опубликовано: 23.05.1982

Авторы: Иевенко, Кожухарь, Ходосов

МПК: G11C 11/14

Метки: доменов, коллапса, магнитных, напряженности, поля, решетки, цилиндрических

...полеНо, и сканирующий узел 5, позволяющий перемещать образец 6 относительно плоского высокочастотного контура 1, который плотно прилегаетк поверхности диска образца 6 состороны исследуемой ТИП,Определение напряженности поляколлапса решетки ЦМД протекает следующим образом.Образец 6 занимает исходное положение в кювете сканирующего узла 5.Высокочастотный контур 1 вводитсяв начальное положение отсчета сканирующего узла 5. Обычно площадь контура выбирается равной площади чйпазапоминающего устройства (ЗУ), Если необходимо аттестовать образец в це.лом, выбирают контур площадью10 -10 мм , равной площади исслед 4дуемого образца. Для аттестации пленки на однородность контур должениметь меньшую площадь ( 1 мм ).В зазоре полюсных наконечников3...