Способ определения износостойкостиинструментальных материалов

Номер патента: 872978

Опубликовано: 15.10.1981

Авторы: Ильинский, Ишанин

МПК: G01J 3/10

Метки: заданным, излучения, оптического, составом, спектральным

...сферических зеркалах отражателя. При этом растр одинаковым образом воздействует на спектральный состав освещенности в различныхпо высоте точках выходной щели двойного монохроматора. Следствием устранения разноспектральности излучения по высоте выходной щели является независимость точности воспроизведения заданного спектрального состава излучения от высоты выходной щели двойного монохроматора,01520 40 На чертеже приведена оптическаясхема устройства для получения оптического излучения с заданным спектраль. ным составом.Устройство имеет источник излу- чения 1 (ленточная лампа накаливания или черное тело) с конденсором 2, служащим для освещения входной щели 3 двойного монохроматора излучением .источника 1, Линза 4, установленная перед...

Номер патента: 1368848

Опубликовано: 23.01.1988

Авторы: Годлевская, Дрибас, Нехорошков, Резников, Твердохлебов, Шолух

МПК: G03B 27/72

Метки: заданным, излучения, оптического, составом, спектральным

...7 токнапряжение подключены к инвертирующимвходам соответствующих операционныхусилителей 9, выходы которых подклю"чены к соответствующим источникам 1света, Коэффициенты передачи преобразователей 7 ток-напряжение могут регулироваться эа счет изменения напряжения Б на управляющих входах,поступающего от соответствующих выходов задатчика 5. Такая регулировка45обеспечивает изменение вклада каждого источника 1 света в интегральныйсветовой поток на выходе аддитивногосмесителя 3.Выходы преобразователей 8 токнапряжение, коэффициеты передачи которых регулируются напряжениями Бот эадатчика 5, подключены к соответствующим входам сумматора 10. Выходное напряжение сумматора 10 сравнивается в разностном устройстве 11 снапряжением Бэадатчика 5,...

Номер патента: 1126832

Опубликовано: 30.11.1984

Авторы: Зябкин, Плахов

МПК: G01N 3/04

Метки: испытания, крепления, крутящих, нагрузках, образец, образца, осевых, прочность

...пазом, а устройствоснабжено подпружиненными в осевомнаправлении клиновыми плашками,предназначенными для силового контак.тирования с лысками хвостовика образца и установленными в полости корпуса. 2Однако известные образец и устройство характеризуются недостаточнойвеличиной прилагаемых крутящих нагрузок, обусловленной приложением крутящих нагрузок по площади совместногоконтакта подвижного элемента с головкой образца, что позволяет прикладывать крутящие нагрузки, только равныепо величине силам трения между поджимным элементом, поверхностью установочного паза и головкой образца.Цель изобретения - расширение диапазона крутящих нагрузок.Цель достигается тем, что образецдля испытания материалов на прочностьпри осевых и крутящих...

Номер патента: 976341

Опубликовано: 23.11.1982

Авторы: Земская, Моношков, Пашков

МПК: G01N 3/08

Метки: испытания, испытательной, машине, раздачу, труб

...участок 4,который может быть изготовлен в видесамостоятельной детали, жестко связанной с оправкой 2, калибрующий участок 5 и рабочий участок 6. На образующей поверхности заходного участка 4 выполнена канавка 7, в концекоторой закреплен резец 3 таким образом, что его режущая кромка 8 совпадает с образующей поверхностью калибрующего участка 5,Устройство работает следующим образом.Образец 9 сварной:трубы с гратом10 на его внутренней поверхности устанавливают торцом на опорную плиту 1. Коническую оправку 2 устанавливают на второй торец образца 9 такимобразом, что заходный участок 4 по,мещен внутри образца 9, а грат 10попадает в канавку 7 на оправке 2,Сдвигают захват испытательной машины,и вдавливают оправку 2 в образец 9.На...

Номер патента: 1775602

Опубликовано: 15.11.1992

Автор: Гуров

МПК: G01B 21/00

Метки: геометических, интерференционный, образца, параметров

...расширением номенклатуры геометрических параметров образца.Предлагаемый интерференционный способ измерения геометрических параметров образца, использующий измерения при последовательном изменении положения образца путем его вращения и поступательного перемещения в эталонном интерферометре, заключается в том, что помещают образец в эталонный интерферометр, получают две интерференционные картины при отражении света от отражателей эталонного интерферометра и каждого из двух противоположных участков поверхности образца, осуществляют фотоэлектрическое преобразование одновременно двух интерференционных картин. восстанавливают распределения фазы в интерференционных картинах, по которым определяют величины зазоров по всей площади каждой...