Устройство рабочей поверхности аппарата для облучения растворов в тонкой пленке

Номер патента: 79275

Автор: Брайнес

ZIP архив

Текст

гасс 12 р, 17 о Ю 79275 СССР ФффОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ1 УСТРОЙСТВО РАБОЧЕЙ ПОВЕРХНОСТИ АППАРАТА ДЛЯ ОБЛУЧЕНИЯ РАСТВОРОВ В ТОНКОЙ ПЛЕНКЕ Л, Н, Ьрайнес За 5 алово 1 О;ро.5 194 ь года в омвтот о 51 эобротевя ц открвтя вр: Гово)о М С-.ров Г:ГЛ.Р зв М 376797 О.бликов,Ко 3 явввря 1950 годаПредмет изобретения Г 1 редхетом изобретен;1 я яв:1 ястся устройство, и коором различныс рас воры поди ргаются улыраф 1 олетовому облу снбо в аппаратах по прогзводствч вита.,ц 11 Д.Отличительцой Особенностью предлагаемого устроиства рабочей повспхцост 1 а 1 ц и) 51 та дл 51 Облучеци 51 Оастворов является то, что оцо нов зво)151 с 1 Освсща 1 ь цсирсрывц) дв:1- жуиуюся пле 1 гд втам гносодсржащих расво 1)ов, гОисремсццО с разлых сторон, Это увсличивае. выход продукт 1 и у;1 сшевляет его стоимость,На чертеже схематически изображено устройство, которое состоит изотдсльцыхсегментов (Л, А, и А) рабочей поверхности и источников ультрафиолетового облучения (Б. Б ц Б.).Просвет шсли, по которой непрсрь 1 вцо дв:жется оолучаемый раствор, регулируется микрометрическим ви 51 том. Устройс 1 во ра 1)О 1 ей поверхности аппарата для Облученя р;Створов в тонкой плсцкс, О тл ц ч а ю щ е ее я тем, гго протскающу 1 о по поВерхцост.1 пг 1 сцкм напр.1 вл 51 к)т через регулируемые цсл. попеременно то на одну, то ца другую Облучаемую поверхность прибора,

Смотреть

Заявка

376797, 10.04.1948

Брайнес Л. Н

МПК / Метки

МПК: A61K 31/59, A61K 41/00

Метки: аппарата, облучения, пленке, поверхности, рабочей, растворов, тонкой

Опубликовано: 01.01.1949

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-79275-ustrojjstvo-rabochejj-poverkhnosti-apparata-dlya-oblucheniya-rastvorov-v-tonkojj-plenke.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство рабочей поверхности аппарата для облучения растворов в тонкой пленке</a>

Похожие патенты