Прибор для определения твердости металлов методом вдавливания

Номер патента: 117154

Опубликовано: 01.01.1958

Авторы: Петецкий, Струнников, Табаков

МПК: G01N 21/13, G02B 21/18, G02B 21/26, G04D 7/00

Метки: баланса, например, оптического, осей, прибор, цапф, часового

...баланса, например, после их термической обработки, что способствует повышению качества продукции и уменьшению брака производства.Сущность изобретения заключается в том, что объектив и окуляр микроскопа прибора выполнены из парных линз, сошлифованных по хорде немного меные, чем до оптического центра, и, соответственно, соединенных между собой сошлифованнымп сторонами г, одной трубе.Устройство прибора показано на фиг, 1Прибор представляет собой микроскоп, в трубе 1 которого расположены объектив и окуляр, состоящие соответственно из парных линз 2 и 3, 4 и Б. Линзы сошлифованы по хорде немного меньше, чем до оптического центра, так как это показано на фпг. 2, 3, .1 и 5.Ыо 117154- 2 -При установке в трубу 1 микроскопа линзы...

Номер патента: 1338968

Опубликовано: 23.09.1987

Автор: Серебряков

МПК: B22D 13/04

Метки: вертикальной, вращения, литья, осью, форма, центробежного

...с частотой, соответствующей К= 0,5-1,5 на среднем радиусе прибыли 25 отливок, и заливают в форму расплав до уровня заполнения части прибыли как показано на фиг. 1 до уровня 1-1. После затвердевания лопаток 3 и кольца 1 производят остановку формы на ЭО 0,5-1 с, в течение которой расплав из радиальных литников 5 сливается по С-образным каналам 8 в прибыль 7, Затем вновь форму приводят во вращение, при этом обратный перелив расплава из прибыли в литник предупреждается наличием С-образного изгиба канала 8.В случае, если остановку формы произвести на время, меньшее 0,5 с, 4 О расплав из радиальных литников не успевает перелиться в прибыль и экономия металла не достигается.В случае остановки формы на время более 1 с эатвердевание...

Номер патента: 1589059

Опубликовано: 30.08.1990

Авторы: Заболотский, Подобрянский, Путилин, Хлебников

МПК: G01B 21/22

Метки: базовых, излучателя, оптического, оси, основания, относительно, поверхностей, узла, юстировки

...диафрагму 11, координатно-чувствительной фотоприемник 12, блок 13 обработки, вход кото рого подключен к координатно-чувствительному фотоприемнику 12, индикатор 14, вход которого подключен к выходам фотоприемного блока и блока 13 обработки.30Устройство работает следующим сбразом.На основание устанавливают платформу 4 с,закрепленными на ней диаф. - рагмой 5, зеркалом 8, ирисовой диафрагмой 9, фотоприемником 10, диафрагмой 11, координатно-чувствительным фотоприемником 12, блоком 13 обработки и индикатором 14, а на подставку 2 устанавливают оптический узел 3 в40 виде линз, призм, зеркал: с излучателем. Пучок лучей от излучателя направляют через диафрагму 5 на фотоприемный блок 10, от которого сигнал поступает на индикатор 14, который45...

Номер патента: 67876

Опубликовано: 01.01.1947

Автор: Казанский

МПК: G01N 21/21, G02B 27/28

Метки: исследования, микроскопа, минералов, оптического, поляризационного, прибор, столике, федорова

...будет больше, и в цепи фотоэлементов возникнет электрический ток. Направление тока и величина его будет определяться отношением разности потенциалов фотоэлементов, т. е. разностью освещенностей последних, иначе говэряотклонением главного сечения оптической индикатрисы от положения биссектрисы угла а в плоскости Я.Аналогичное явление будет иметь место, если линия пересечения главного сечения с горизонтальной плоскостью Р не будет делить пополам угол между проекциями осей 2 и Р на плоскость Р, т. е. не будет совпадать с биссектрисой угла 201Для определения угла оптических осей минерала поворотом столика на 45 главное сечение индикатрисы совмещается с вертикальной плоскостью, проходящей через ось Р. 1 отоэлемент тубуса с осью Я...

Номер патента: 962826

Опубликовано: 30.09.1982

Авторы: Гуиенот, Хопфе

МПК: G02B 7/00

Метки: зоне, оптических, оптической, оси, поверхностей, позиционирования, прерывностями, узлов, функциональных

...этом гможно выбирать независимо от В так, чтобы можно было З использовать, с одной стороны, согласование центров кривизны С, и М,необходимое для систематическои юстировки как описано на примере вООВ-ЧР 80998, и, с другой стороны,оптимальную зону чувствительности 3применяемого для выявления ошибок метода анализа, Кольцо 22 соединяетсяс кольцом 15 посредством резьбы. Врезультате этого на первом этапе согласно способу центр кривизны С+,.сферической Функциональной поверхности 11 оптического элемента 1 ицентр кривизны С, сферичнской контактной поверхности 21 центрировочного эталона 2 совмещаются, так как 4 Робе поверхности имеют один и тот жерадиус кривизны ВНа следующем этапе объединенная,система из оптического элемента 1...