Фотосопротивление
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
Заказ 5226/467 Тираж 963 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5филиал ППП фПатентф, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 подзонами валентной зоны дырочных материалов. Под действием света, падающего на фотодатчик, меняется, вследствие изменения подвижности, его сопротивление, что приводит к изменению тока в цепи. Это изменение тока регистрируется по .изменению напряжения, снимаемого с нагрузочного сопротивления. Размеры плошади датчика могут варьироваться в зависимости от ве личины пятна падающего на него излучения. щ Концентрация свободных носителей материала фотосопротивления не должна в случае СО- лазера превышать уровень в 10 см , так как при более высоких концентрациях существует опасность появления тепловых сигна- ц лов, конкурирующих с сигналами фотэпроводимости. Оптимальной концентрацией с точки зрения чувствительности для длины волны 10,6 мхм является концентрация 6Ц10 см , Эксперимент при длительности 20 лазерного импульса 10 сек для этой концентрации следующую величину относительной фотопроводимости 0,1 при инЬбтенсивности падающего на образец света Э = 1 мвт/см, что неплохо согласуетсяс теоретическими оценками. Формула изобретения 1. фотосопротивление для измерения временных и энергетических характеристик инфракрасного излучения, выполненное из полупроводника с шириной запрещенной зоныболее чем в два раза превышающей энергиюкванта излучения, о т л и ч а ю ш е е с ятем, что, с целью повышения временногоразрешения и обеспечения возможности работы при комнатной температуре, фотосопротивление выполнено из дырочного полупроводника с ионизированными примеснымицентрами,2, Фотосопротивление по и. 1, о т л ич а ю ш е е с я тем, что оно выполненоиз дырочного германия, легированного элементами П группы, например Ьа, 1 й, с концентрацией свободных носителей в диапазоне10 - 2 10 см ,
СмотретьЗаявка
1899516, 02.04.1973
ОРДЕНА ЛЕНИНА ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ ИМЕНИ А. Ф. ИОФФЕ
ВАЛОВ П. М, РЫВКИН Б. С, РЫВКИН С. М, ЯРОШЕЦКИЙ И. Д
МПК / Метки
МПК: H01L 31/00
Метки: фотосопротивление
Опубликовано: 25.08.1976
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-457407-fotosoprotivlenie.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Фотосопротивление</a>
Предыдущий патент: Способ балансировки
Следующий патент: Способ очистки хлористого этила
Случайный патент: Делитель напряжения