Способ электрохимического осажденияметаллов1пlt; й

ZIP архив

Текст

Союз Советских Социалистических Республик4950/222) Заявлено 01.02,72 (2 присоединением Государственный комитет Совета Министров СССР оо делам иэооретений и открытийиорите УДК 621.357,1;669, .337,132 (088.8 публиковано 30.04.74. Б летень та опубликования описания 08.10.74 72) Авторы изобретения Р. А. Пономарева, О. В. Фридман, К кова, Э. А. Симкин, А. А. Егизаров, Р и В. Б. Мейерович ордена Ленина горнометаллургическт ени 50-летия Октябрьской революции. И. ДернейкоН. С, Синельн ахмутова, Исламов 71) Заявител омбина алхашск 54) СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕН МЕТАЛЛОВИзобметаллуму осаИзвесдения мности эОсобечаетсякрываюона мо цветнои ическообласти ект ох ретение относится кргии, в частности к эл р и ждению металлов.тен способ электрохимическог еталлов, включающий укрытие лектролита.нность предлагаемого способа в том, что поверхность электро т силиконовым маслом, Допол кет быть покрыта минеральн о осаж поверх заклюита поительно м маслом. Это позволяе лита и улучшитлектр испаре труда. снизит услови соба заключается в том, что ое осажение металлов ведут, ность электролита слоем жиднического вещества, например сла. С целью удешевления поыть использовано минеральствляется следующим образом. ть электролита заливают сио марки ПМСА толщиной слой силиконового масла толи и минерального масла марой 1 - 5 мм.т на процесс электро рению электролита, с ли- нивлияю т испа Сущность споэлектро химическукрывая поверхкого кремнеоргасиликонового макрытия может бное масло.Способ осущеНа поверхносликоновое масл0,1 - 10 мм либощиной 0,1 - 1 мки ЛтолщинПокрытия неза, препятствую жают расход пара на его подогрев, нс затрудняя обслуживание ванн.П р и м е р 1. Предлагаемый способ испытанна промышленных растворах электролитиче ского рафинирования меди, содержащих, г/л:медь 46,7, серная кислота 154,35, мышьяк 13,2, сурьма 0,84.Электролиз проводят при 60 С и плотноститока 240 а/м 2 в течение четырех суток. Аноды 10 отлиты из промышленной анодной меди, катоды вырезаны из матричной основы электролитного производства.Электролит покрывают слоем силиконовогомасла марки ПМСА толщиной 0,1 - 10 мм.15 По сравнению с неукрытой ванной испарениепри укрытии силиконовым маслом толщиной 10 мм уменьшается в 9,25 раза, при толщине слоя 1 мм - в 4,65 раза, при толщине слоя 0,1 мм - в 1,93 раза; при укрытии же ванн 20 одним слоем полипропиленовых поплавковдиаметром 10 мм испарение уменьшается в 1,96 раза.П р и м е р 2. Электролиз проводят в условиях, аналогичных примеру 1, В первой ванне 25 электролит покрывают слоем силиконовогомасла толщиной 0,1 мм, во второй - слоем масла Лтолщиной 1 мм, в третьей - комбинированным слоем силиконового масла толщиной 0,1 мм и масла Лтолщиной 1 мм.425970 Составитель С. Колотушкина Техред 3, Тараненко Корректор А. Степанова Редактор Е. Шепелева Заказ 2701/11 Изд, Мо 1540 Тираж 651 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Типография, пр, Сапунова, 2 Комбинированное укрытие уменьшает испарение в 6,5 раза, в то время как укрытие силиконовым маслом или минеральным в отдельности снижает испаряемость соответственно в 1,93 и 2,25 раза.Основным веществом, снижающим испарение электролита, является силиконовое масло. В тех случаях, когда допустимо использование минеральных масел, процесс электрохимического осаждения металлов выгоднее вести, покрывая поверхность электролита и силиконовым, и минеральным маслом. Однако во многих случаях применение минеральных масел недопустимо (например, при получении металлов в виде фольги в барабанных электролизерах), В этих случаях целесообразно применение одного силиконового масла. Предмет изобретения1. Способ электрохимического осажденияметаллов, включающий укрытие поверхности электролита, отличающийся тем, что, с целью снижения испарения электролита и 10 улучшения условий труда, поверхность электролита покрывают силиконовым маслом.2. Способ по п, 1, отличающийся тем,что поверхность электролита дополнительно покрывают минеральным маслом.

Смотреть

Заявка

1744950, 01.02.1972

В. И. Дернейко, Р. А. Пономарева, О. В. Фридман, К. Махмутова, Н. С. Синельникова, Э. А. Симкин, А. А. Егизаров, Р. С. Исламов, В. Б. Мейерович, Балхашский ордена Ленина горнометаллургический комбинат имени лети Окт брьской революции

МПК / Метки

МПК: C25C 1/00, C25C 1/12

Метки: осажденияметаллов1пlt, электрохимического

Опубликовано: 30.04.1974

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-425970-sposob-ehlektrokhimicheskogo-osazhdeniyametallov1plt-jj.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ электрохимического осажденияметаллов1пlt; й</a>

Похожие патенты