Патенты с меткой «осажденияметаллов1пlt»

Способ электрохимического осажденияметаллов1пlt; й

Загрузка...

Номер патента: 425970

Опубликовано: 30.04.1974

Авторы: Балхашский, Дернейко, Егизаров, Исламов, Махмутова, Мейерович, Пономарева, Симкин, Синельникова, Фридман

МПК: C25C 1/00, C25C 1/12

Метки: осажденияметаллов1пlt, электрохимического

...ванн.П р и м е р 1. Предлагаемый способ испытанна промышленных растворах электролитиче ского рафинирования меди, содержащих, г/л:медь 46,7, серная кислота 154,35, мышьяк 13,2, сурьма 0,84.Электролиз проводят при 60 С и плотноститока 240 а/м 2 в течение четырех суток. Аноды 10 отлиты из промышленной анодной меди, катоды вырезаны из матричной основы электролитного производства.Электролит покрывают слоем силиконовогомасла марки ПМСА толщиной 0,1 - 10 мм.15 По сравнению с неукрытой ванной испарениепри укрытии силиконовым маслом толщиной 10 мм уменьшается в 9,25 раза, при толщине слоя 1 мм - в 4,65 раза, при толщине слоя 0,1 мм - в 1,93 раза; при укрытии же ванн 20 одним слоем полипропиленовых поплавковдиаметром 10 мм испарение...