Способ выполнения знаков совмещения на полупроводниковой пластине
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
414658 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН Ия К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республик(61) Зависимое от авт. свидет ьства -01 г 19 О 051 3/00 22) Заявлено 10.07.72 (21) 1812264/2 присоединением заявки-осударственныи комитетСаввта Министров СССРоа делам изобретенийз открытий 32) ПриоритетОпубликовано 0 53) УДК 621 382 002.02.7 ень Ле 3.10.74 юлле та опубликования описани 2) Авторы обретения. Колегаев и Г. Ф. Кравченк Г. В. уд ганрогский радиотехнический институт 71) Заявите ОСОБ ВЫПОЛНЕНИЯ ЗНАКОВ СОВМЕЩЕНИА ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ПЛАСТИ НЕ ет изобретенлнения знаковковой пластине,чающий предвариление паверхностм, что, с цельюсовмещения к оысокой контрастн Предм1. Способ выпо 25 на полупроводнкремниевой, вклю лированпе и окис отличающийся те стойкости знаков зо обеспечения их в совмещениянапример тельное пои пластины, повышения кислению и ости по отИзобретение относится к технологии производства компонентов радиоаппаратуры, в частности интегральных микросхем.Известен способ выполнения знаков совмещения на полупроводниковой пластине, например кремниевой, включающий предварительное полирование и окисление поверхности пластины, а затем сквозное избирательное травленис пленки двуокиси кремния по определенному рисунку. При совмещении фотошаблона с пластиной используют оптический контраст разности отражения светового потока от поверхности пленки двуокиси кремния и микроуглублений.Однако сполученные известным способом знаки совмещения не выдерживают длительной высокотемпературной обработки в окислительной среде, причем из-за окисления размеры знаков совмещения изменяются, что приводит к изменению расстояний между ними и изменению оптического контраста знаков.Цель изобретения - повышение стойкости знаков совмещения к окислению и обеопечение их высокой контрастности по отношению к окисному слою.Предлагаемый способ отличается тем, что в приповерхностных слоях пластины формируют дислокационные области путем электроннолучевой обработки пластины но заданному рисунку, затем методом фотолитографии вскрыдают в окисном слое окна по заданному рисунку и матируют обнаженные участки поверхности пластины путем вытравливания на них дислокаций.Согласно данному способу предварительнополированные и окисленчые полупроводниковые пластины, например кремниевые, подвергают местному электроннолучевому нагреву по заданному рисунку. Режим электроннолучевой 10 сбработкп подбирают таким образом, чтобыв припозерхностных слоях пластины формировались днслокационные области с плотностью дислокаций выше 1.10 см -. Затем методом фотолитографии в обработанных электронным 16 лучом областях пластины в окисном слоевскрывают по заданному рисунку окна и обнаженные участки поверхности пластины матируют путем вытравливания на них дислокаций. Травитель может быть составлен из 20 1 вес. ч. НГ и 2 вес. ч, 25,/о-ного раствора СгОзв воде.414658 Составитель Г ЧелейРедактор Б. федотов Техред Т, Уск":Заказ 397 Изд. ЛЪ 475ТиражЦНИИПИ Госудгрственного комитета 1,. Министрови о,скрытийМосква, Ж, Раугпская наб., д,Корректор Л, Царькова 760 Подписное СССР по делам изобретений 4/5 Тигографпя ЛЪ 4 Союзполиграфпрома, Мзсьза. 121019, ул. Маркса - Энгельса, 4 ношению к окисному слою, в приповерхностных слоях пластины формируют дислокационные области, затем методом фотолитографии вскрыва 1 от в окисном слое окна по заданному рисунку и матируют обнаженные участки позерхности пластины путем вытравливания наних дислокаций.2. Способ по и. 1. отличающийся тем, чтодислокационные области формируют путем5 электронно-лучевой обработки пластины позаданному рисунку.
СмотретьЗаявка
1812264, 10.07.1972
Таганрогский радиотехнический институт
Г. В. Дудко, М. А. Колегаев, Г. Ф. Кравченко
МПК / Метки
МПК: H01L 21/302
Метки: выполнения, знаков, пластине, полупроводниковой, совмещения
Опубликовано: 05.02.1974
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-414658-sposob-vypolneniya-znakov-sovmeshheniya-na-poluprovodnikovojj-plastine.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ выполнения знаков совмещения на полупроводниковой пластине</a>