Йосоюзная

Номер патента: 886101

Опубликовано: 30.11.1981

Авторы: Агафонов, Матвеев, Острецов, Привезенцев, Слобода, Чунихин, Шуркалина

МПК: H01M 2/08

Метки: герметизации, жидким, источника, малогабаритного, химического, электролитом

...герметизации, уменьшение брака и повышение надежности источника тока.Поставленная цель достигается тем, 25 что во время нращения замораживают электролит и заварку ведут послезамерзания воронки электролита.При замораживании электролита во время вращения источника тока фиксируется воронка, при которой поверхность электролита отделена от отверстия, подлежащего заварке. Эта фиксированная воронка электролита сохраняется на период, достаточный для осуществления заварки, который определяется теплоемкостью источника тока, скоростью теплопередачи и разницей между предельной температурой заморозки и температурой перехода электролита из твердои фазы в жид кую. Такой подход обеспечивает разделение операции вращения и замораживания от операции...

Номер патента: 1247635

Опубликовано: 30.07.1986

Авторы: Бронфенбренер, Бычин, Гурин, Исаев, Ломовских, Николаев, Пулин, Синицын, Тихомиров, Хайкин

МПК: F25B 49/00, G05D 27/00

Метки: жидкого, процессом, хладагента

...в емкости-накопителе 11 и расходуется в технологическуюустановку для низкотемпературного охлаждения продуктов (при этом происходит дросселирование жидкости до давления 1,25 кгс//см (процесс показан на фиг, 2 линией Д - Л - М), газообразная фаза хладагента направляется на рекуперацию холода в теплообменник 15, Образующийся в емкости- накопителе 11 газ дросселируется на клапане 10 до давления 1,25 кгс/см (процесс показан на фиг. 2 линией Д - Е - Ж) и, объединяясь с потоком, идущим из технологической установки, выводится через теплообменник 15 и блок 13 теплообменников в коллектор всасывания компрессоров 12, 10 Давление в емкости-накопителе 11 обеспечивается регулятором 4 давления, воздействующим на дроссельно-регулирующий клапан 10....

Номер патента: 501660

Опубликовано: 30.01.1976

Авторы: Жан-Пьер, Жером, Майер

МПК: B01S 10/00

Метки: газообразной, жидкой, между, проведения, реакции, фазами

...перфорированным днищем 11 геометрической поверхности, которое может иметь форму перевернутой пирамиды, большее основание которой близко по размеру к внутреннему диаметру реактора, и вертикальными лопастями 12.Устройство для питания жидкой фазой представлено вертикальными трубками 13, которые крепятся к реактору соответствующими устройствами, снабженными перфорационными отверстиями 14.Система, подающая газообразную фазу в реактор, представлена в виде трубчатых колец 15, расположенных над успокоителем на соответствующем расстоянии от последнего.Пластинки 16 служат перегородками и расположены в верхней части реактора, Они могут крепиться либо на трубки 13, либо к стенкам реактора, либо любым другим соответствующим образом.Циркуляция...

Номер патента: 1778470

Опубликовано: 30.11.1992

Авторы: Баранов, Устенко

МПК: F25D 3/10

Метки: жидким, объекта, охлаждения, хладагентом

...в резервуаре 1 контролируется манометром 10,сброс паров производится через вентиль 11,Устройство работает следующим образом.Резервуар 1 заполняют хладагентом,например, жидким азотом. Открываютдроссельный вентиль 7, закрывают вентильгазосброса 11 и поднимают давление в резервуаре 1 до рабочего, подавая жидкийхладагента в испаритель 8 при открытомвентиле 9. Жидкий хладагент из резервуара1 поступает по трубопроводу 2 в камеру 3 иохлаждает объект 4. Пары хладагента отводятся в окружающую среду по трубопроводу5 и теплообменник 6, После охлаждения устройства при появлении жидкости на выходе из теплообменника б вентиль 9закрывается. Прикрывается дроссельныйвентиль 7 и устанавливается проходное сечение этого вентиля, обеспечивающее рабочее...

Номер патента: 577444

Опубликовано: 25.10.1977

Авторы: Белицкий, Илюшин, Ковалевский, Урсуляк

МПК: G01N 25/02

Метки: жидкой, исследования, компонента, между, подготовки, пробы, распределения, твердой, фазами

...растрескивения от термоудара) вводят затравочныйкристалл, В качестве зетревочного кристал-ла может служить монокристалл, выращенныйиз этого раствора, или кристалл соединения,ца котором может происходить эпитаксиальцси наращивание выпадающей фазы, Затравоч-тный кристалл имеет паз шириной 0,5-1,0 ммМс высотой и длиной в 5-10 раз большей.Затравочный кристалл подвешивается на проволке из устойчивого к денному раснлеву итемпературе материала.Введенный в лечькристалл распопагается над отверстием вкрышке тигля и выдерживается в таком нсложении це менее 10 миц, чтобы температура кристалла и раствора выровнялисьПосле снижения температуры в печи дозаданной величины (циже температуры нече- Ола кристаллизации),и непродслжительцой выдержки...