Источник иоиов с полевой ионизацией

Номер патента: 140918

Опубликовано: 01.01.1961

Автор: Зинченко

МПК: H01J 3/04

Метки: интенсивный, ионный, источник

...положительных ионов в объеме электроййого пучка увеличивается по мере приближения к коллектору 3 электрона(это происходит потому, что потенциалы диафрагмы 2 и коллектора 3 выбираются такими, чтобы потенциал максимальной удельнойиМизации молекул газа лежал между ними, причем существенно ближе к потенциалу коллектора 3).Вследствие нейтрализации объемного заряда в пучке движение создаваемых таким путем ионов происходит в направлении движения электронов, т. е. к коллектору 3 электронов, а затем и дальше - через центральное отверстие 4 в коллекторе 3 в . к коллектору 5 ионов, находящемуся под отрицательным потенциалом, При этом происходит необходимое разделение электронного и иончого пучков и в пространстве между коллекторами 3 и 5...

Номер патента: 1674289

Опубликовано: 30.08.1991

Авторы: Мартынов, Чекалин

МПК: H01J 49/12

Метки: изотопов, ионный, источник, разделения

...щели, Это достигаетсяприменением электродов цилиндрическойформы, радиус которых подобран таким образом, чтобы пересечение всех отдельныхпучков или их продолжений, если пересече у+( -- 0,2) Уо В = 0,625 (С + с 3+ д 2 )30 у+- -0,7Зо где - = 4,6710 о Я 1 - толщина эмиссионного электрода;01 - зазор между эмиссионным и промежуточным электродами;д 2 - полуширина щели в промежуточном электроде;40 М - усредненная масса иона данногоэлемента;Е - заданная энергия иона;О - заданная производительность источника,45 3 - полная площадь эмиссионных щелей.При использовании известной конструкции ионно-оптической системы, которая позволяет формировать пучки ионов водорода с плотностью тока до 0,5 А/см и углом2расходимости пучка около 1,3(полный угол 2,6...

Номер патента: 1473724

Опубликовано: 15.04.1989

Авторы: Бернар, Жорж, Франсуа

МПК: H01J 27/24

Метки: ионизацией, ионов, источник, поверхностной

...в твердом состоянии в системе 1 подачи. Выполнение ионизатора описанным способом обеспечивает высокую вероятность столкновения атомов со стенками канала и их ионизацию. Особенно эффективно использование эмиттера ионов, выполненного в виде центральной части элемента 9. Форма поверхности эмиттера должна выбираться с учетом действия извлекающего электрического поля и поля простран" ственного заряда ионов. Выполнение центральной части 11 элемента 9 выпуклой (фиг.5) повьппает эффективность.Пространственный заряд ионов может быть вызван электронами, эмиттируемыми специально установленным эле- . ментом 17 из гексаборида лантана,Это позволяет повысить интенсивность ионного пучка и яркость источника. При высоких энергиях ионов (порядка .10...

Номер патента: 397984

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Калыгин, Прокопьев

МПК: H01J 3/04

Метки: ионизацией, ионов, источник, поверхностной

...к источникам ионов и может быть использовано в масс-спектрометрии, а также в технологии электромагнитного разделения изотопов.Известен ,источник ионов с поверхностной 5 ионизацией, содержащий испаритель и ионизатор, выполненный в виде закрытой с одного конца трубки из материала с большой работой выхода. Закрытый конец трубки соединен с выводом источника питания той же полярности, что и полярность ионов, эмиттируемых источником.В этом устройстве протекающий по корпусу ионизатора ток нагревает его до рабочей температуры и создает внутри трубки однородное осевое электрическое поле, служащее для вывода ионов из источника.Наиболее существенными нелсстатками известного источника ионов являются низкий коэффициент использования пробы и большой...

Номер патента: 470012

Опубликовано: 05.05.1975

Автор: Малышев

МПК: H01J 3/04

Метки: ионного, источника, юстировки

...перемещения в двух взаимно перпендикулярных направлениях, Промежуточная подвижная платформа 4, имеющая одну степень свободы перемещения, связана с помощью двух упругих элементов 5, расположеццых по обе стороны от штанги, с основанием и с помощью аналогичных двух элементов - с цесуцей платформой. Упругие элементы соединены с платформами жестко (сваркой5 цлц пайкой).Регулировочные механизмы 6 и 7, служащиедля взаимно перпендикулярного независимого перемещения штанги источника, расположены: один - между опорной и промежуточцоц 10 платформамц, дру гой - между п 1 зомежуточцой ц несущей платформами.Устройство работает следующим образом.При работе регулировочного механизма 7платформа 2 перемещается относительно про межуточной платформы...