Устройство для измерения параметров тонких диэлектрических пленок

Номер патента: 557521

Опубликовано: 05.05.1977

Авторы: Мухин, Панков

МПК: H05K 3/00

Метки: нанесения, покрытия, равномерного, слоя, тонкого

...конца,Для получения тонко гесметри кросна р яр 1 ее рабочего участк сквозных прорезеУстройство раб", Перед началом ра ют в ванне с расплав557 521 Фиг, 1 ют ее в объеме расплава над выходящей из ванны подложкой микросхемы 5.Указанной подложкой захватывают и поднимают фольгу 1 из расплава припоя 8 над поверхностью глицерина 9, Эта операция обеспечивает совмещение рабочего участка 6 фольги с припоем на подложке и их молекулярное сцепление. При этом капиллярная система 10, образованная молекулярным сцеплением., остается связан- щ ной с расплавом. припоя в ванне. За счет сил сцепления подложкой поднимают фольгу над уровнем глицерина на высоту рабочего участка 6,Перемещение фольги ограничивается на И указанной высоте держателем, после чего...

Номер патента: 574757

Опубликовано: 30.09.1977

Авторы: Петрулис, Фомич, Шарафанович

МПК: G11B 5/46

Метки: головки, загрязнения, магнитной, обнаружения, поверхности, рабочей

...а также последовательно соединенными интегрирующей цепочкой и компаратором, включенным между выходом мультивибратора и входом ключевой схемы.На чертеже представлена структурна схема устройства, реализующа описываемый способ.Усилитель 1 записи связан с выходом генератора 2 контрольного сигнала и с входом магнитной головки 3 записи. С магнитной головки 4 воспроизведения через предварительный усилитель 5 сигнал проходит на выходной звуковой усилитель б и на головку 7. Одновременно сигнал поступает на последовательную электрическую цепь, состоящую из узкополосного усилителя 8, детектора 9, формирователя 10, мультивибратора 11, интегрирующей цепочки 12, компаратора 13, ключевой схемы 14 и светового индикатора 15.Генератор 2...

Номер патента: 1397264

Опубликовано: 23.05.1988

Авторы: Веткасов, Ефимов, Федотов

МПК: B24B 55/02

Метки: круга, поверхности, рабочей, шлифовального

...шлифовального круга.Целью изобретения является повышение эффективности очистки.На чертеже приведена схема устройства для осуществления способа.Устройство содержит емкость 1 для очищающего вещества (ОВ), установленное на емкости 1 сопло 2 с обратным клапаном, трубопровод 3 подачи ОВ в емкость 1 с обратным клапаном 4, нагревательный элемент 5, установленный в нижней части емкости 1, и электромагнитный клапан 6.Способ осуществляется следующим образом.ОВ по трубопроводу 3 под давлениемР, =О, 5 - 0,2 МПа подается в емкость 1 через обратный клапан 4. После заполнения емкости 1 включа 1 от нагревательный элемент 5, который нагревает ОВ до температуры 210 - 240 С с интенсивным образованием пара. Пары ОВ повышают давление ем кости 1 до...

Номер патента: 588668

Опубликовано: 15.01.1978

Авторы: Лобенцов, Мухин

МПК: H05K 3/00

Метки: нанесения, покрытия, равномерного, слоя, тонкого

...только на тех участках, где она больше требуемой нормы, это приводит к появлению отдельных участков с заниженной высотой покрытия, что отрицательно сказывается на качестве выполнения последующих операций,На гибкой фольге 1 со сквозными отверстиями 2 выполнены опорные выступы 3, высота которых соответствует заданной максимальной толщине покрытия припоем платы 4.Гибкая фольга 1 закреплена при помощимеханизма 5 на ванне б, заполненной расплавленным материалом покрытия, например припоем 7 и глицерином 8, Плата 4 микросхемы с облуженными контактными пло щадками и проводниками установлена в держателе 9.Гибкая фольга 1 соприкасается с платой 4в зоне выхода ее из расплавленного материала покрытия и сцепляется с ней за счет дей ствия сил...

Номер патента: 273552

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Евдокимов, Легкой

МПК: G05B 11/58

Метки: покрытия, слоя, толщины

...пневмоприводе 2 б,Для того, чтобы предотвратить погрешности от непостоянства состава раствора, наносимого наносным устройством 2 и контролируемого вместе с подложкой датчиком 3, применяется корректирующее устройство, работающее по результатам измерения толщины готового покрытия (без подложки) по выходе материала из наносного агрегата.Корректирующее устройство работает следующим образом.Сигналы от датчика 1 контроля толщины подложки поступают к элементам памяти 27 и 28. При подходе фиксатора реле выдержки, представляющего собою диск 29, кинематически соединенный с,роликом 30,:вращающимся от трения с движущейся подложкой, и таким образом синхронно движущимся с ней, к клапану Л последний через логическую переклю 5 10 15 20 25 30 35...