Способ изготовления измерительного растра

О П И С А Н И Е 297088ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ сов Соеетйм Социалистических Республикетельстваавцсимое от авт. сваявлено 25.Ч 1.1968 12585892 01, 29/34 присоединением заявкиКомитат по зобратений и при Совете М СССРрцорит ткрцт УДК 621,3,032088,8 Опубликовано 02.11.19Дата опубликования о Бюллетеньписания вторыобретения. В. Ирлин и В. П, Поп явител СОВ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИЗМЕРИТЕЛЬН АСТРА ения измериостью исклюсчет измеряе Изобретение относится к радиоизмеритель. ной технике.Известен способ изготовления измерительного растра на поверхности экранов осциллографических и индикаторных электроннолучевых трубок, основанный на вакуумном нанесении пленки.Известный способ, будучи трудоемким, в то же время не позволяет полностью избавиться от параллакса ввиду сравнительно большой 10 высоты линий. Кроме того, необходимость в спайке частей электроннолучевой трубки предъявляет определенные требования к температуре плавления материала для изготовления растра. Этот материал должен быть туго плавким и химически стойким, так как на него непосредственно наносится слой люминофора. Кроме того, толщина линий растра должна быть минимальной, но они должны быть хорошо видны как в отраженном, таки в 20 проходящем свете, Температура размягчения должна быть на 120 - 180 С выше температуры отжига стекла экрана, Это предъявляет жесткие требования к температуре отжига стекла экрана, а также к температуре спайки 25 частей экрана после нанесения измерительного растра,Предлагаемый способ изготовлтельных растров позволяет полнчить влияние параллакса на от мых величин, упростить их изготовление и резко увеличить производительность труда.На предварительно очищенное и подогретое до 380 С полированное стекло 1, которое в дальнейшем будет служить отсчетной частью электроннолучевого индикатора, с помощью электронного луча в вакуумной установке наносят первый слой 2 тантала толщиной около 100 А. Напуском воздуха под колпак вакуумной установки этот слой подвергают термическому окислению для создания прозрачной и в то же время защищающей стекло от воздействия плавпковой кислоты пленки окисла тантала. Затем откачивают рабочий объем вакуумной установки ц напыляют второй сплошной слой 3 тантала толщиной 0,1 - 0,5,чл 1 к.После извлечения стеклянной детали из вакуумной установки слой тантала покрывают светочувствительной эмульсией (фоторезцстом), экспонируют через фотошаблон измерительньш растр, проявляют фоторезист, дубят его и травят не защищенные фоторезистом слои тантала в травителях для тантала, содержащих плавиковую кислоту. При этом слой окиси тантала защищает прозрачные участки стекла между линиями масштабной сетки от травления (матированця) плавиковой кислоВ результате проведенных операций полу- ают цзмерительньш растр любой наперед заСоставитель Н. ТаборкоРедактор Б. Б, федотов Текред Е. Борисова Корректор О. М. Ковалева Заказ 1102/1 Изд,442 Тираж 473ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при СоветМосква, Ж.35, Раушская наб., д. 45 Подписное министров СССРипографпя, пр. Сапунова,данной конфигурации с количеством отсчетных делений, определяемым желанием изготовителей. Количество делений ограничивается в основном только разрешающей способностью оптики фотоустановки, на которой отснимается фотошаблон, и примененным фоторезистом.Полученные таким образом измерительные растры хорошо выдерживают температурные режимы стойки с колбой трубки (т, пл, тантала около 3000 С). Высокая химическая стойкость тантала дает возможность наносить люминофоры непосредственно на масштабную сетку, находящуюся на внутренней стороне экрана электроннолучевого индикатора. Способ изготовления измерительного растрана поверхности экранов осциллографических и 5 индикаторных электроннолучевых трубок, основанный на вакуумном нанесении пленки, отличаюи 4 ийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности, химической и термической стойкости растра, нанесенную на по верхность экрана танталовую пленку окисляютдо пятиокиси тантала, напыляют на нее второй сплошной слой тантала и на нем получают, например, методом фотолитографии, измерительный растр.