Номер патента: 257050

Авторы: Новак, Степнов

ZIP архив

Текст

257050 ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯХ АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Сома Советскна Социалистических РеспубливЗависимое от авт. свидетельствач. 42 с, 11 О 1.1968 ( 1252225/18-1 Заявлен с присоединением заявкиМПК Ст 01 с Комитет по делам изобретениЯ н открыти при Совете Министров СССРоритет ДК 528,541,82(088.8 Х 11969. Бюллетеньия описания 8.1 Ч.1970 Опубликован ата опуолик Авторы зобретения В. Е. Новак, В. Н. Степнов и Н. Н. Степи Заяви РЕЙКА НИВЕЛИРНА устроистнастях,и должно базовой п р меньшеУсловитребован 10 Й 2= сопзтпри рФОУсловие (2) выполняется конструкц15 устройства в силу того, что рейка с шариным креплением к подставке занимает отное положение за счет противовеса.Условие (3) выполняется так же,Действительно Й 2=р сов р20 где р=с зеср (5), так как опорная повеность подставки выполнена исходя из эусловия. При этом, с - расстояние от ценшарнира до внешней образующей корпусаего оси симметрии.25 Накладывая условие, чтоса=в - =с й ир 4),тог тр попэк и подставив вместо р в выражение (4 чение р из условия (5), получим0 Й 2=с сов р вес р=с=сопз 1 на Изобретение относится к области измериельных приборов, в частности, к приборам принадлежностям для геодезической съемВ настоящее время при монтаже и эксплуатации различных установок, где требуется высокая точность установки оборудования в проектное положение по высоте, применяются нивелирные рейки с подставкой и укрепленными на,ней установочными микрометрическими винтами и втулкой, в которую проходит шток рейки.Однако для установки рейки в вертикальное положение в известном устройстве необходимо произвести продолжительное по времени выравнивание рейки по уровню при помощи микрометрических винтов.Для исключения влияния наклона поверхности нивелирования на волотное положение рейки подставка нивелирной рейки имеет опорную поверхность, форма которой образована .по секансной кривой, а рейка с противовесом укреплены на подставке при помощи шарнира, причем, центры тяжести подставки и противовеса находятся на одинаковом расстоянии от шарнира и от касательной, проведенной к опорной поверхности в точке пересечения последней с осью симметрии подставки. оторому должно удовлетворя о при работе на наклонных повеыражается в том, чтоЙ = Й 1+ Й 2= сопз 1быть независимо от угла наклоноверхности (имеется ввиду, что уугла рр, равного углу трения)е (1) складывается из следующйЗаказ 72818 Тираж 480 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква )К, Раушская наб., д. 4/5 пография, пр. Сапунова, 2 Таким образом, Й=сопз 1 и не зависит от угла наклона базовой поверхности.Конструкция устройства в разрезе предстаалена на чертеже.Устройство состоит из подстановки 1, на которой укреплена рейка 2 со шкалой, шарнира 3, к которому крепится противовес 4. При установке устройства на базовую по верхность какой-либо установки или оборудования, рейка 2 занимает вертикальное поло. жение независимо от угла наклона базовой поверхности, а так как опорная поверхность выполнена по секансной кривой, изменения положения высоты рейки от угла наклона базовой поверхности не происходит, в то время как сама подставка наклонится к горизонтуна какой-то угол. Предмет изобретенияРейка нивелирная, состоящая из корпуса спротивовесом, шарнирно установленного на подставке, отличающаяся тем, что, с целью исключения влияния наклона поверхности нивелирования на высотное положение рейки, опорная поверхность подставки выполнена ло секансной кривой, а центры тяжести противовеса и опорной подставки расположены на одинаковом расстоянии от центра шарнира, равном половине расстояния от центра шар пира до внешней образующей опорной подставки по оси ее симметрии.

Смотреть

Заявка

1252225

В. Е. Новак, В. Н. Степнов, Н. Н. Степнов

МПК / Метки

МПК: G01C 15/06, G01C 5/00

Метки: нивелирная, рейка

Опубликовано: 01.01.1969

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-257050-rejjka-nivelirnaya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Рейка нивелирная</a>

Похожие патенты