Способ заварки герметизированных колб с контактами

Номер патента: 146322

Опубликовано: 01.01.1962

Авторы: Коптев, Соркин

МПК: B01D 53/18

Метки: аппаратах, барботажного, газом, газораспределительное, жидкостью, контакта, между, типа

...жидкости пространство, наполненное сжатым газом, проникающим из отверстия снизу кольца и вызывающим барботаж, Стенки конуса, выделяя часть объема ванны, служат направляющими для нисходящих и восходящих циркуляционных токов всего количества жидкости, заполняющего сатуратор. Отличительная особенность предлагаемого устройства состоит в том, что в нижней части центральной газоподводящей трубы укреплено газораспределительное перфорированное кольцо с патрубками прямо.Ы 14 б 322угольного сечения для прохода циркулирующей жидкости и с вертикальной перегородкой, закрепленной по наружному краю, препятствующей проходу жидкости через линию наружного периметра.На фиг,показано устройство - продольный разрез; на фиг. 2 - то же, поперечный...

Номер патента: 865946

Опубликовано: 23.09.1981

Авторы: Золотой, Милицын, Позднякова, Федечкин

МПК: C22B 9/05

Метки: «и—или», газами, инертными, парами, рафинирования, солей, сплавов

...расположенных трубок с отверстиями.На фиг. 1 изображено предлагаемоеустройство, разрез; на фиг. 2 - сече- оние А-А на фиг. 1,Устройство из цилиндрического испарителя 1 с герметичной крышкой 2.В корпус испарителя вварена отводнаятрубка 3, оканчивающаяся газораспредеЛителем 4 в виде лучеобразно расположенных трубок с отверстиями. Такоевыполнение газораспределитвля 4 позволит увеличить контакт расплава сгазом и, как следствие, повысить вгорафинирование (например, для алюминиевых сплавов от газов и немвталличвских включений).Для подачи инертного газа служиттрубка 5, плотно прилегающая к внешней стороне корпуса испарителя, что 5 обеспечивает предварительный подогрев поступающего в испаритвль инертного газа.Интенсивность возгонки соли в...

Номер патента: 1701354

Опубликовано: 30.12.1991

Авторы: Булах, Друз, Евтухов

МПК: B01D 53/14, B01D 53/34

Метки: азота, газов, глубокой, инертных, кислорода

...тэк, что основная часть парогазовой смеси проходит через их отверстия и металл конденсируется на их внешних и внутренних поверхностях, после чего он стекает через отверстия или по конической поверхности конденсаторон и попадает в зону источника металла, где вновь испаряется, таким образом в реакторе реализована циркуляция паров и жидкой фазы металла. К поверхности источника металла попадает по трубке 3 очищэемый газ и он на пути прохождения через реактор контактирует как с газовой, так и с жидкой фазами металла, В реакционной зоне протекает ряд гомогенных и гетерогенных реакций в диапазоне температур от температуры испарения до температуры конденсации, приводящих к образованию трудно диссоциирующих окислов.Процесс очистки продолжается...

Номер патента: 475157

Опубликовано: 30.06.1975

Авторы: Гаврилов, Голубев, Кривошеева, Кудрявцев, Мазюк, Попов

МПК: A62C 39/02

Метки: газов, инертных, нефтеналивных, системой, судах

...открытия парового клапаца 18 и запуска вентилятора 7 в случае, если це работает насос 13 раствора. При неработающем насосе 13 подогрев раствора паром может привести к вскииацшо раствора и аварии регевератора 6. 4 ОРеле времени 34 через 5 - 10 сек снимает сигнал ца запуск вентилятора 7 и открытие парового клапаца 18 с целью защиты этих механизмов от самопроизвольного пуска при остывации теплового реле после его срабаты вация (аналогичное назначение реле времени 31 оццсаио выше).Выключение вецтилятора 7 и закрытие парового клапана 18 (окоцчацие регенерации раствора) происходят по срабатывании датчи- БО кд-сигцализатора 26 ии;кцего уровця, свидетельствующего об удалении влаги из раствора хлористого лития, т, е. восстановлении...

Номер патента: 1394258

Опубликовано: 07.05.1988

Автор: Фельмецгер

МПК: H01H 11/04

Метки: вакуумного, высоковольтного, контакт-деталь, контакта, контактного, магнитоуправляемого, нанесения, покрытия

...(обычно катода), генерирует интенсивные потоки металлической плазмы, степень ионизации которой в случае вольфрама до достигает 807 При этом энергия ионов, экстрагируемых из плазмы разряда, может регулироваться в широких пределах путем приложения отрицатель ного потенциала к обрабатываемому изделию, При бомбардировке покрытия ускоренными ионами происходит не только распыление микронеровностей на поверхности, но и интенсивный нагрев (преимущественно приповерхностных слоев), стимулирующий удаление из покрытия адсорбированных газов, При последующем осаждении низкоэнергетичнык ионов из плазмы вакуумного ду гового разряда идет зарастание пор и формирование плотного текстурированного поверхностного слоя. Полученный в результате достаточно...