Способ получения отражающего покрытия

СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИ 05137 А СПУВЛИК(51)5С 114,602 В 1 ГОСУДАРСТВЕННОЕ ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ТЕНТН САНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯАВТОРСКОМУ .СВИДЕТЕЛЬСТВУ ОПИ К 1 2(21) 4835456/21 (57) Использование: технология получения . (22) 07.06 90 . , высокоотражающих металлических покры- (46) 30;03.93. Бюл, М 12тий (П), стойких к оптическому излучению, (71)Институтатомнойэнергииим, И. В.Кур- . Сущность изобретения: осаждение отражачатова ющего П осуществляют в установке катод- (72)В.М,Голянов,Е.Д.ОльшанскийиД,И.Долгий ного распыления. снабженной ячейками (56) Панов В, А. Справочник конструктора Пеннинга. На подложки, охлаждаемые жидоптико-мехайических приборов, Л "Маши-ким азотом, последовательно наносят подностроение", 1980,.с, 541 - 547, слой магния толщиной 1,5 й 0,1 нм и металлотражающего П, Способ. обеспечйвает по- (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОТРАЖАЮЩЕ- вышение лучевой стойкости П при предель- ГО ПОКРЫТИЯном для металлических пленоккоэффициенте отражения. 1 табл. Изобретение относится к технологии получения металлических покрытий и может быть использовано для нанесения адгезионно-прочных, высокоотражающих покрытий, стойких к оптическому излучению.: Целью изобретения является повыше-ние лучевой стойкости отражающего металлического покрытия на прозрачной подложке.П р и м е р, Осаждение отражающего покрытия осуществляют методом катодного распыления с использованием ячейки Пеннинга.Подложки из стекла КУпомещают в вакуумную камеру, которую откачивают и" .обезгаживают с помощью термического нагрева, После достижения давления в камере (6,65-66,5) 10 Па включают сйстему охлаждения с использованием жидкого азота. . Подложки при этом находятся при температуре жидкого азота. Затем включается пода-.ча инертного газа (криптона). По достижении в камередавления(2;66-7,98);10 Па последовательно подают электропитание (напряжение 3 - 5 кВ) на две независимые секции адля катодного распыления магния и меди(или серебра) и осаждают последовательноподслой магния толщиной 1,5 нм и основнойслой меди (или серебра) толщиной 0,2. - 15мкм,Перемещение кассеты с. подложками отсекции к секции производят с помощью ме-,:ханического привода. Толщину подслоя. и йметаллического покрытия регулируют по.0 фвремени распыления материала, . СЭкспериментально было установлено у,что М 9 образует:максимально прочные свя-зи на границе раздела подложка (кварц) -отражающее покрытие при толщине Ы1,501 нм. ЧСпособ нанесения подслоя позволяетполучитъсплошную пленку даже при толщи-не моноатомного слоя и получить плотно ьупакованный аморфный материал,Полученные образцы. были подвергнутылазерному облучению со стороны подлож- .ки; Длина волны А 1,055 мкм. длительность импульса 1 - 10 з с, Зона облучения1805137 10После 50 импульсовпокрытия. юдается Составитель Н,ОвсянниковаРедактор С.Кулакова Техред М.Моргентал Коррек Коро акаэ 926 Тираж Подписное, ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 зводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород; ул.Гагарина ограничивалось диафрагмой площадью 3.Величины энергии лазерного излучения Е 1,Ег, отраженного соответственно от входной(ненапыленной) и напыленной граней .образца, измеряли калориметрами типа ИМО2 Н,Коэффициент отражения В рассчитывали по формуле.,";,У= 3,6. - ,.; . Лучевую стойкость М/ определяли поформуле: И 1 - 29,6 - , Дж/см,где Е 1 пр - значение Е 1, при котором наблюдается разрушение покрытия,Результаты испытаний образцов приве дены в таблице. Таким образом; отражающее металлическое покрытие с подслоем, изготовленное согласно изобретению, отличается высокой адгезией, предельным для металлических пленок коэффициентом отражения и повышенной лучевой стойкостью, что значительно улучшает технические характеристики иэделий (зеркала, призмы), увеличивает ресурс их работы,Формула изобретения Способ получения отражающего покрытия, включающий осаждение в вакууме металла покрытия на прозрачную подложку методом катодного распыления, о т. л и ч аю щ и й с я тем, что, с целью повышения лучевой стойкости покрытия, перед осаждением металла покрытия на подложку наносят подслой магния толщиной 1,5 + 0,1 нм, причем нанесение подслоя осуществляют методом катодного распыления в ячейке Пеннинга,чное отслоение и разрушение отражающего