Способ изготовления ртутногаллиевой металлогалогенной лампы
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(55 Н 0 395 ЕН ТОРС КОМУ ДЕТЕЛ ЬСТВУ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ.ПРИ ГКНТ СССР САНИЕ ИЗО(71) Ереванский электроламповый завод (72) А.А.Абрамян, В,Р,Погосян и А.Г.Галстян (53) 621,327,9(088.8)(56) Авторское свидетельство СССР М 1127021, кл, Н 01,3 9/395, 1984.АвторСкое свидетельство СССР М 1583993, кл. Н 019/395,(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РТУТНОГАЛЛИЕВОЙ МЕТАЛЛОГАЛОГЕННОЙ ЛАМПЫ(57) Изобретение относится к технологии электровакуумных приборов и может использоваться для изготовления газоразрядных ламп, применяемых в фотохимических процессах, полиграфии и электротехнике, Цель изобретения - повышение эффективности лампы за счет увеличения выхода излучения, Способ Изобретение относится к технологии электровакуумных приборов и может использоваться для изготовления газоразрядных ламп, йрименяемых в фотохимических процессах, полиграфии и электротехнике,Целью изобретения является повышение эффективности лампы за счет увеличения энергетического выхода излучения.Способ изготовления ртутно-галлиевых металлогалогенных ламп включает последовательное введение в лампу через дозирую- щиЕ краны ртути, йодида свинца, сплава галлия с одним из металлов Ч, Ч, Ч групп Периодической системы, например цирконием. хромом, ниобием, танталом, гафнием,1661866 А 1 И1 включает последовательное введение в лампу ртути, йодида свинца, сплава галлия с одним из металлов Ч, Ч, Ч групп Гериодической системы элементов, обладающим хорошими поглощающими свойствами и реагирующим с кислородом, водородом и водными парами, в количестве 10 - 30 ат. , с удельной дозировкой 0,015 - 0,15 мг/см, и индия с удельной дозировкой 0,02 - 0,2 мг/см, откачку и отпайку, Аргон дозируется в лампу при давлении 2 - 4 кПэ, Лучшие результаты при изготовлении ламп типа ДРТИполучены при дозировании циркония, хрома или ниобия. Использовали следующие дозировки, мг/см, ртуть 2,96,3иодид свинца 0,4, сплав галлия с хромом от 0,015 до 0,15 и индий 0,02 - 0,2, Энергетический выход излучения в диапазоне 360 - 420 нм возрастает в 1,2 - 1,3 раза и составляет 31 - 350/, э затраты энергии сокращаются примерно в 2 раза. кобальтом, обладающими хорошими поглощающими свойствами и реагирующими с кислородом, водородом и водяными парами, в количестве 10 - 30 ат.% с удельной дозировкой 0,015 - 0,15 мг/см и индия с3удельйой дозировкой 0,02 - 0,2 мг/см , откачку и отпайку.Аргон дозируется в лампу и ри давлении 2 - 4 кПа,Нижний предел выбранных удельных дозировок сплавов 0,02 мг/см ограничен3практическими возможностями введения дозировки в лампу малой мощности и объема, снижение КПД лампы.Верхний предел 0,2 мг/см ограничен3явлениями нестабильности разряда и свя1661866 сократить при их эксплуатации время экспозиции диазо- и везикулярных пленок, а также затраты энергии примерно в 2 раза. 5 . Формула изобретения СОставитель Д.РауРедактор Л,Гратилло Техред М,Моргентал Корректор О,Кравцова Заказ 2130 Тираж 319 ПодписноеВИИИПИ государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раугвская наб., 4/5 Производственно-издательСКИй КОМбинатПатент", г. Ужгород, ул,Гагарина, 101 заннцми с ним ухчдшениями эксплуатационных характеристик ламп,СЛОсОб р 8 злизовзн нз лампах типа ДРТИ 400,Лучши 8 р 8 зультзты были пОлучены с такими элементами, как цирконий, хрОм и ниОбий,ИзпОлнение Йзмп контрольной пззтии Включалоследующиедозировки, мг/см: ИО 2,96; РЫ 2 0,4; сплав Оа-Сг 0,015 - 0,15. При этом энергетический Выход излучения в диапазоне 360 - 420 нм составлял 25,5 -рт 2 о/При Дозировке ДОПОлнительнО индия В количестве 0,02 - 0,2 мг/см эн 8 ргетический3ВыхОД излучения В диапззОн 8 360 - 420 нм ВОзрастает ДО 31 - 35 .Таким образом, использование данного способа изГОтОвл 8 ния ртутнО-Галли 8 ВОЙ ме- тзллОГзлОГ 8 ННОЙ лампы пОзвОля 8 т повысить эн 8 рГ 8 тическии Вьфхол излучения и Способ изготовления ртутно-галлиевойметаллогалогенной лампы, включающий последовательное введение в лампу ртути,10 ЙОдиДЗ сВинца и сплаВЗ Галлия с ОДним изметаллов В или У или Ч 1 группц Периодической системы в количестве 10 - 30 ЗТ.0 приудельной дозировке сплава, равной 0,015 -0,15 мг/см", откачку и отпайку, о т л и ч а ю 15 щ и й с я тем, что, с целью повышенияэффективности лампы эа счет увеличенияэнергетического выхода излучения, одноВр 8 менно со сплавом Галлия с Одним изметаллов 11/ или У или Ы группы Вводя 120 индий при удельной дозировке, равной0,02 - 0,2 мг/см,
СмотретьЗаявка
4681086, 19.04.1989
ЕРЕВАНСКИЙ ЭЛЕКТРОЛАМПОВЫЙ ЗАВОД
АБРАМЯН АШОТ АРЦРУНОВИЧ, ПОГОСЯН ВАЛЕРИЙ РОБЕРТОВИЧ, ГАЛСТЯН АШОТ ГЕНРИКОВИЧ
МПК / Метки
МПК: H01J 9/395
Метки: лампы, металлогалогенной, ртутногаллиевой
Опубликовано: 07.07.1991
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1661866-sposob-izgotovleniya-rtutnogallievojj-metallogalogennojj-lampy.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления ртутногаллиевой металлогалогенной лампы</a>
Предыдущий патент: Способ неразрушающего контроля массы ртути в люминесцентных лампах
Следующий патент: Позиционер образца
Случайный патент: Композиция для изготовления выплавляемых моделей