Способ изготовления прозрачных дифракционных решеток

Номер патента: 1799161

Опубликовано: 10.05.1995

Авторы: Балясников, Варфоломеев, Лукашевич, Стрельников

МПК: G02B 5/18

Метки: вогнутых, дифракционных, профилем, решеток, ступенчатым, штрихов

...в вакууме и последующего формования в нем штрихов пластической деформацией материала алмазным резцом, согласно изобретению, на стеклянную подложку наносят подслой переменной толщины, твердость которого не менее чем в пять раз больше твердости основного слоя, который наносят также переменной толщины, при этом слои ориентируют клином в противоположные стороны, толщину слоев наносят в соответствии с соотношением:г 035. гУ . ИИ, -1/г +1 У+Цгде Е - расстояние от начала нарезки до точки, в которой определяется толщина слоя, мм;И - число штрихов на один миллиметр," В - радиус кривизны решетки, мм;и - глубина штриха, определенная для плоского слоя, мм;- припуск на толщину основного слоя, для подслоя припуск равен нулю,штрихи решетки...

Номер патента: 49373

Опубликовано: 31.08.1936

Автор: Бурмистров

МПК: G02B 5/18

Метки: дифракционных, отражательных, решеток

...обойти, воспользовавшись методом химико-физической копировки металлических поверхностеи с стеклянных поверхностей.ФМетод изготовления металлических отражательных дифракционных решеток копировкой заключается в том, что штрихи йеобходимой частоты, ширины и длины наносят на стеклянную оптическую поверхность, имеющую равную, но обратную кривизну заданной решетки (или плоскость для плоских решеток). Затем стеклянную поверхность натирают тончайшим порошком талька, обрабатывают раствором хлористого олова и серебрят обычными растворами для серебрвния зеркал. Поверх серебряного слоя электролитическим путем наносят толстый (от 1 до 5 мм) слой меди; при этом регулируют осаждение меди так чтобы она легла слоем равной толщины по всей поверхности...

Номер патента: 943625

Опубликовано: 15.07.1982

Авторы: Стрежнев, Файзрахманов, Функ, Хайбуллин

МПК: G02B 5/18

Метки: дифракционных, копирования, реплик, решеток-матриц

...производят путем бомбардировки поверхности решетки ионами кислорода с энергией, превышающей 1 кэВ, перед упрочнением на поверхность решетки наносят слойФормула изобретения Составитель В.КравченкоРедактор Л.Авраменко Техред М, Тепер Корректор Ю.Макаренко Заказ 5101/51 Тираж 5 18 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений иоткрытий 113035, Москва,.Ж, Раушская наб., д. 4/5щФилиал ППП "Патент", г, Ужгород, ул. Проектная,94362 родия,абомбардировку проводят при до эе, не превышающей 6 У ион/смйДифракционные решетки-матрицы изготавливают следующим образом.На полированную поверхность подложки решетки из стекла наносят термическим испарением в вакууме любым из известных методов слой алюминия с подслоем хрома толщиной,...

Номер патента: 1631493

Опубликовано: 28.02.1991

Авторы: Герасимова, Денисов

МПК: G02B 5/18

Метки: вакуумной, дифракционных, области, решеток, спектра, ультрафиолетовой

...М,Моргентал Корректор Т.Палий Заказ 544 Тираж 327 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5 Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагарина, 101(Ее), кремний (31), тяжелые металлы (Сц, РЬ, Мп), щелочность (М 90).Для сохранения высокого коэффициента отражения алюминиевых слоев конструкцией вакуумного аппарата ВАпредусмотрена возможность покрытия их сразу же после испарения в вакууме слоем фтористого магния, который защищает их от окисления, Вакуумный аппарат имеет специальное фотометрическое устройство, позволяющее производить контроль отражения во время испарения алюминия и фтористого магния при длине волны 121,6 нм. Слой фтористого...

Номер патента: 924650

Опубликовано: 30.04.1982

Авторы: Куинджи, Петров, Стрежнев, Функ

МПК: G02B 5/18

Метки: амплитудных, дифракционных, прозрачных, решеток

...граней штрихов к поверхности подложки. При этом толщина слоя алюминия выбирается равной глубине штрихов и составляет, например, 2,5 мкм. Нагрузку на алмазный резец подбирают так, чтобы глубина погружения резца при формировании штрихов ограничивалась поверхностью подложки. Затем по вышеуказанной формуле определяют напряжение и осуществляют электрохимическое оксидирование в 0;53-ном (ИБ)НРО. 650 1ности решетки создается прозрачныйокисный слой. При этом на дне штрихов образуются прозрачные участкишириной Я, Заданное соотношение между прозрачными и непрозрачными участками штрихов по ширине решетки достигается за счет равномерного окисления слоя алюминия при оксидировании.Наиболее широко используются проз.10 рачные амплитудные дифракционные...