Способ маскирования растровых негативов

Номер патента: 121027

Автор: Проосо

ZIP архив

Текст

И. К. Проосо ПОСОБ МАСКИРОВАНИЯ РАСТРОВЫХ НЕГАТИВОня 1958 г. за601277/28 в Комитет п и открытий ири Совете Министров С делам изобретСР аявлен бликовано в Бюллетене изобретенийа 1959 гол,. Известны способы маскирования растровых негативов копированием на фотопленку негатива, маскированного двумя полутоновыми масками, одна из которых изготовлена съемкой оригинала с передержкой, а другая - съемкой оригинала с недодержкой. Описываемый способ отличается от известных тем, что копирование осуществляют с двумя экспозициями. При этом первую экспозицию проводят с проложенной между маскированным негативом и фотослоем прозрачной пленкой, а вторую - без прозрачной пленки и без маски, изготовленной съемкой оригинала с передержкой.Последовательность проведения операций при осуществлении способа следующая. Прежде всего изготовляют две полутоновые маски, Одну из них (так называемую маску светов) получают путем съемки орихинала с недодержкой, вторую 1 так называемую маску теней) - съемкой оригинала с передержкой. Обе маски изготовляются без растра или с растром, отодвинутым в крайнее далекое положение. После этого маски совмещают с оборотной стороной маскируемого негатива: сначала маску светов, а поверх нее - маску теней. Поверх масок накладывают тонкую прозрачную пленку, размеры которой несколько меньше размеров негатива. Поверх пленки накладывают светочувствительный материал, приклеивая его уголками к негативу таким образом, чтобы прозрачная пленка под ним осталась свободной.Копирование осуществляют с двумя экспозициями. Первую экспозицию проводят, подвергая светочувствительный материал освещению, интенсивность которого в 10 - 20 раз превышает интенсивность освеще ния, потребного для нормальной экспозиции. Перед второй экспозицией вынимают из-под светочувствительного материала, не сдвигая последнего, прозрачную пленку и маску теней. Вторую экспозицию проводят при нормальном освещении.121027 Пред м е т изобретения Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР Редактор Р. Б. Кауфман Гр, 235Информационно-издательский отдел.Объем 0,17 п. л. Зак. 4453 Типографии Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР Москва, Петровка, 14, Способ маскирования растровых негативов путем копирования на светочувствительный материал, например фотопленку, негатива, маскированного двумя полутоновыми масками, одна из которых изготовлена съемкой оригинала с недодержкой, а другая - съемкой оригинала с передержкой, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью улучшения качества репродуцирования, копирование осуществляют с двумя экспозициями, причем первую из них проводят с проложенной между маскированным негативом и светочувствительным материалом прозрачной пленкой, а вторую - без прозрачной пленки и без маски, изготовленной съемкой оригинала с передержкой,

Смотреть

Заявка

601277, 06.06.1958

Проосо И. К

МПК / Метки

МПК: G03F 3/06

Метки: маскирования, негативов, растровых

Опубликовано: 01.01.1959

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-121027-sposob-maskirovaniya-rastrovykh-negativov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ маскирования растровых негативов</a>

Похожие патенты