Способ формирования субмикронной электродной системы затворов
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Описание
2. Способ формирования субмикронной электродной системы по п.1, отличающийся тем, что при одновременном осаждении пленок на несколько полупроводниковых пластин, на этапе формирования токоведущей части электродной системы, полупроводниковые пластины сдвигают к центру подложкодержателя настолько, чтобы направление осаждаемого молекулярного потока было параллельным направлению молекулярного потока, создаваемого на этапе формирования управляющей части электродной системы.
3. Способ формирования субмикронной электродной системы по пп.1 и 2, отличающийся тем, что управляющую часть электродной системы выполняют в виде двухслойной пленки из тугоплавких металлов Ti-V или Ti-Mo.
4. Способ формирования субмикронной электродной системы по пп.1-3, отличающийся тем, что токоведущую часть электродной системы выполняют в виде многослойной пленки V-Au или TI-TIN-Au или Ti-Pt-Au.
Заявка
4847386/25, 05.07.1990
Научно-исследовательский институт "Пульсар"
Лихтман А. Е, Смирнов В. К, Егудин А. Б
МПК / Метки
МПК: H01L 21/28
Метки: затворов, системы, субмикронной, формирования, электродной
Опубликовано: 10.07.1999
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1779202-sposob-formirovaniya-submikronnojj-ehlektrodnojj-sistemy-zatvorov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ формирования субмикронной электродной системы затворов</a>
Предыдущий патент: Способ получения монокристаллов вольфрамовых бронз
Следующий патент: Способ реактивации катализатора для разрушения активного хлора
Случайный патент: Отопительный агрегат