Способ определения профиля концентрации примесей в полупроводниках и устройство для его осуществления
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1646390
Авторы: Бобылев, Добровольский, Овсюк, Усик
Описание


где Vго - измеряемая амплитуда квадратурных составляющих напряжений комбинационных частот;
q - заряд электрона;


Q - интенсивность светового потока;
Nм(



2. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью повышения точности определения профиля мелкой примеси, регистрируют синфазную составляющую напряжения суммарной или разностной частоты в зависимости от напряжения смещения при постоянной температуре, при которой величина синфазной составляющей напряжения минимальна.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что, с целью повышения разрешающей способности к глубоким уровням примеси, регистрацию напряжения в зависимости от глубины производят при постоянной температуре, при которой величина квадратурной составляющей максимальна.
4. Устройство для определения профиля концентрации примесей в полупроводниках, содержащее первый и второй генераторы высокой частоты, выходы которых соединены с входами одноименных источников света, оптически связанных с первым и вторым входами световода с полупрозрачным металлическим электродом, установленным на выходе световода, направленного на полупроводниковый образец, изолированный от полупрозрачного металлического электрода и подключенный к выходу источника смещения, первый и второй селективные усилители, входы которых объединены, выход первого селективного усилителя соединен с входом амплитудного детектора, выход которого является первым выходом устройства, отличающееся тем, что, с целью повышения точности измерений, в устройство введен смеситель, узкополосный фильтр, первый и второй логарифмические усилители, повторитель напряжения, сумматоров, вычитатель, первый и второй синхронные детекторы, первый и второй переключатели, RC-фильтр, линейно регулируемый усилитель, нуль-орган и фазовращатель, а полупроводниковый образец и выход световода помещены в криостат с блоком управления температурой, выход которого является вторым выходом устройства, полупрозрачный металлический электрод через повторитель напряжения подключен к входу второго селективного усилителя, выход которого соединен с первым входом сумматора, выход которого подключен к первым входам синхронных детекторов, первый и второй входы смесителя подключены к выходам первого и второго генераторов высокой частоты, выход смесителя через узкополосный фильтр соединен с вторыми входами синхронных детекторов и первым входом первого переключателя, второй вход которого подключен к шине нулевого потенциала, выход первого переключателя через фазовращатель соединен с информационным входом линейно регулируемого усилителя, выход которого подключен к второму входу сумматора, выход первого синхронного детектора соединен с входом первого логарифмического усилителя, выход которого подключен к первому входу вычитателя и является третьим выходом устройства, выход второго синхронного детектора соединен с первым входом второго переключателя и входом нуль-органа, выход которого через RC-фильтр соединен с управляющим входом линейно регулируемого усилителя и вторым входом второго переключателя, выход которого подключен к входу второго логарифмического усилителя, выход которого соединен с вторым входом вычитателя и является четвертым выходом устройства, выход вычитателя является пятым выходом устройства.
Заявка
4469873/25, 05.08.1988
Новосибирский государственный университет, Институт физики полупроводников СО АН СССР
Бобылев Б. А, Добровольский П. П, Овсюк В. Н, Усик В. И
МПК / Метки
МПК: G01R 31/26, H01L 21/66
Метки: концентрации, полупроводниках, примесей, профиля
Опубликовано: 10.11.1999
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1646390-sposob-opredeleniya-profilya-koncentracii-primesejj-v-poluprovodnikakh-i-ustrojjstvo-dlya-ego-osushhestvleniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ определения профиля концентрации примесей в полупроводниках и устройство для его осуществления</a>
Предыдущий патент: Инертный электродный материал для химического источника тока
Следующий патент: Способ эпитаксиального наращивания полупроводников типа a iiibv
Случайный патент: Многоместное приспособление для зажима деталей