Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме
Формула | Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Формула
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, содержащее рабочую камеру с окном, катодным узлом, содержащим электрод с закрепленной на нем диэлектрической мишенью, соединенный с ВЧ генератором и подложкодержатель, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции и повышения надежности в работе, мишень закреплена герметично в окне, а электрод расположен вне рабочей камеры.
Описание
Цель изобретения упрощение конструкции и повышение надежности в работе путем устранения изоляции и экранировки ВЧ-электрода.
На чертеже изображено предлагаемое устройство, продольный разрез.
Оно содержит вакуумную камеру, состоящую из колпака 1 и основания 2, и расположенные соосно распыляемую диэлектрическую мишень 3 из горячепрессованной керамики, например Рb(ZrO 52, TiО 48) О3, и электрод 4. Вакуумное уплотнение между колпаком 1 и основанием вакуумной камеры 2 обеспечивается с помощью резиновой прокладки 5. Откачка вакуумного объема осуществляется через вакуумопровод 6, напуск рабочего газа через трубку 7. ВЧ-напряжение подается на электрод 4 от ВЧ-генератора 8. Подложка 9, на которой производится осаждение пленки, помещена над распыляемой мишенью в подложкодержателе 10. Мишень 3, имеющая форму диска приклеена эпоксидной смолой к охлаждаемому водой цилиндрическому электроду 4 для обеспечения механического и теплового контакта. Вакуумное уплотнение между мишенью 3 и основанием 2 вакуумной камеры обеспечивается с помощью кольцевой прокладки 11, изготовленной из силиконовой резины. Зажатие прокладки мишенью осуществляется с помощью внутренней гайки 12 через фторопластовую шайбу 13, служащую для центровки мишени 3 и изоляций ее от корпуса 2.
Устройство работает следующим образом.
После откачки вакуумного объема через вакуумопровод 6 производится напуск кислорода через трубку 7. Необходимое давление (
200 Па) в вакуумной камере устанавливается регулированием скорости откачки системы и скорости натекания кислорода. После этого к электроду 4 через согласующее устройство подается напряжение от ВЧ-генератора 8, что приводит к возникновению тлеющего разряда и распылению мишени 3 с площади соответствующей поверхности соприкосновения мишени 3 с электродом 4. Распыляемый материал переносится через плазму ВЧ-разряда и осаждается на подложку 9.Такая конструкция позволяет исключить металлический экран как составную часть распылительного устройства и обеспечить устойчивость разряда при повышенных давлениях рабочего газа в камере (более 130 Па). При этом не требуется дополнительная изоляция электрода от корпуса вакуумной камеры, так как сама мишень является этим изолятором.
Вынос ВЧ-электрода за пределы вакуумной камеры позволило обеспечить надежный тепловой контакт между мишенью и ВЧ- электродом, что вело к значительному снижению температуры мишени и исключению возможности испарения из нее легколетучей РbО.
В устройстве были получены сегнетоэлектрические пленки свинецсодержащих соединений сложных окислов, не применяя специальных мер по компенсации дефицита свинца в пленках: использование распыляемых мишеней, обогащенных окислом свинца, или проведение осаждения пленок или последующего отжига в атмосфере РbО.
Были получены пленки Рb(Zr 0,52, Ti 0,48)O3 обладающие всей совокупностью сегнетоэлектрических свойств: диэлектрическая проницаемость
= 350 + 500 обнаруживала существенную зависимость от поля, температурный ход (Т) имел четкий максимум при Т 643 К, переключаемая поляризация пленок имела величину 0,15-0,20 кл/м2, наблюдалась значительная пьезоактивность пленок. Рисунки
Заявка
3758328/21, 22.06.1984
Ростовский государственный университет
Свиридов Е. В, Мухортов В. М, Клевцов А. Н, Дудкевич В. П
МПК / Метки
МПК: C23C 14/36
Метки: вакууме, ионно-плазменного, распыления
Опубликовано: 20.07.1995
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1240076-ustrojjstvo-dlya-ionno-plazmennogo-raspyleniya-materialov-v-vakuume.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме</a>
Вакуумная дугогасительная камера с устройством для контроля давления
Номер патента: 582533
Опубликовано: 30.11.1977
Авторы: Брезинский, Вербицкий, Ковалева, Намитоков
МПК: H01H 33/664
Метки: вакуумная, давления, дугогасительная, камера, устройством
...возникает тлеющий разряд, на грев ающий электроды, в результате чего термобиметалл деформируется, электроды замыкаюгся, и ток в их цепи достигает величины, необходимой для срабатывания устройства.На фиг. 1 показана описываемая вакуумная дутогасительная камера; на фиг. 2 - располагаемые в камере электроды.Вакуумная дугогасительная камера состоит из корпуса 1, подвижного 2 и неподвижного 3 токовводов с контактами, расположенными внутри корпуса, экранов 4 и устройства 5 для контроля давления внутри камеры. Устроиство 5 представляет собой два электрода, герметически встроенные в диэлектрический корпус. Расположенные внутри камеры части электродов 6 и 7 представляют собой термобиметаллические пластины, тепловые деформации которых при...
Способ повышения теплоотдачи вакуумных электродов
Номер патента: 48872
Опубликовано: 31.08.1936
Автор: Кубецкий
МПК: H01J 5/08
Метки: вакуумных, повышения, теплоотдачи, электродов
...плотно, без воздушного зазора с помощью какой-либо мастики, склеивающего состава и других известных в технике средств укрепляется металлический элемент 3 в виде тонкого листа, цилиндра, фигурной пластины и т. п. Этот наружный металлический элемент делается из металла с большим коэфициентом теплопроводности и имеет назначение распределять передаваемое ему через стеклянную стенку тепло на большую поверхность или путем непосредственного теплового контакта с другими внешними элементами, каковыми могут быть металлические стенки, корпус устройства, в котором применяется данный прибор или др., отводить выделяющуюся в приборе тепловую энергию.Отводимое таким способом количество энергии на 1 кв. ся поверхности может быть определено по...
Камера вакуумного стенда
Номер патента: 506776
Опубликовано: 15.03.1976
Автор: Жаров
МПК: G01M 10/00
Метки: вакуумного, камера, стенда
...изоблиндрическая конструкция камерьго стенда, вертикальный разрез,Камера вакуумного стенда включает в себя рабочий отсек 1, имитирующий верхний бьеф гидроузла, примыкающий к нему отсек 2, имитирующий нижний бьеф и имею щий съемную торцовую стенку 3, подлотковые пути 4, на которых устанавливается оолегчепный прямоугольный лоток 5 с испытываемой моделью 6. обтекаемой рабочей жидкостью.0 Камера работает следующим образом.Для проведения испытаний в условиязплоской задачи в цилиндрические рабочие от секи 1 и 2 вводится и закрепляется прямо.угольный облегченный лоток 5. Ввод лотка 5 в стенд осуществляется через торцовое отверстие в отсеке 2, перекрываемое, стенкой 3, по подлотковым путям 4. В лотке устанавливается испытываемая модель 6...
Камера вакуумного спектрометра
Номер патента: 1642341
Опубликовано: 15.04.1991
Авторы: Марченков, Полевич, Сироко, Чикин
МПК: G01N 23/223
Метки: вакуумного, камера, спектрометра
...нержавеющей стали, и свинцовой пластины 9,прикрепленной к корпусу 8. На свинцовую пластину 9 нанесен реперный слой10, который представляет собой смесьили сплав веществ, содержащих всеэлементы, на анализ которых рассчитан прибор. Задвижка 4 служит длявакуумной герметизации шлюзовогообъема от рабочего объема во времясмены образцов для защиты от неиспользованного рентгеновского излучения. Реперный слой позволяет коррек-тировать значение интенсивности ха 1642341рактеристического излучения от элементов исследуемого образца с учетом изменения интенсивности характеристического рентгеновского излучения (ХРИ) элементов реперного слоя.При осуществлении анализа устройство работает следующим образом.Вводят в шлюзовой объем 3 камеры исследуемый...
Способ кондиционирования поверхностей электродов вакуумных дугогасительных камер
Номер патента: 955264
Опубликовано: 30.08.1982
МПК: H01H 33/664
Метки: вакуумных, дугогасительных, камер, кондиционирования, поверхностей, электродов
...много мейьше. Чем у меди таку 40например, скорость окисления медипри 800 С равна 2,7 10 5 (г см )1 фхч, а никеля при тех же условиях9,310 8 (г.см 1) ч-", т.е. примерно на три порядка меньше,45Сокращению окисления металлическихповерхностей способствует также то,что в камеру напускают ограниченноеее объемом количество воздуха, в котором масса кислорода с учетом состава земной атмосферы и предварительного разогрева камеры до 200-ЗОООС составляет И=0,1 Чр, где Ч - объем камеры; о - плотность кислорода при нормальных условиях. Например, в камереобъемом 3 л масса кислорода составитоколо 0,5 г. Если допустить, чтовесь кислород пойдет на окислениемеди, а при этом образуется до 98Св 90, то количество окисленной медисоставит не более четырех...
Предыдущий патент: Взрывомагнитный формирователь импульса тока
Следующий патент: Способ исследования свойств покрытия и основного материала
Случайный патент: Качающееся решето для очистки зерна