Сулема

Номер патента: 1373294

Опубликовано: 15.10.1989

Авторы: Белянин, Сулема, Черданцев, Шадрин

МПК: H05H 1/00

Метки: высокотемпературной, диагностики, плазмы

...Известно, что упругое рассеяние является наиболее вероятным в ядерных взаимодействиях при низких и средних энергиях. По этому способ ядерного анализа, основанный на упругом рассеянии, должен обладать наилччшей чувствительностью.Ядра отдачи водорода, дейтерия.ю трития, гелия, выбиваемые в результате чпругих взаимодействий с атомами пучка, оегистоирчются системой идентиФикации состояний из поглотителя и полупроводникового детектора. Поглотитель поедстапляет собой однородную пленку, которая служит для поглощения упругорассеянных атомов (ионов) анализиоуемого пучка. Толщина его выбирается такой., чтобы путь, проходимый атомами (ионами) анализируемого пччка, после рассеяния полностью укладывался в поглотителе.Размеры плазмы и...

Номер патента: 1370489

Опубликовано: 30.01.1988

Авторы: Белянин, Сулема, Черданцев, Шадрин

МПК: G01N 1/00

Метки: гелия, конструкционных, материалах, образцов, реактора, содержанием, термоядерного, эталонных

...слоя можно сделать любой в зависимости от времени и скорости напыления. Изготавливают эталонный образец для анализа гелия методом ядер отдачи. Для напыления используют алюминий, поскольку это материал с низкой температурой плавления, значения тормозной способности ионов в котором хорошо известны. С помощью термического испарителя на алюминиевую подложку толщиной 10 мкм напыпяют алюминий со скоростью 60 А/мин. Одновременно с помощью ионного источника имплантируют ионы гелия с энергией 50 кэВ при температуре подложки, равной 25 С.При плотности тока ионов 10 мкА в течение 2,8 ч на подложке образуется слой алюминия толщиной 1 мкм, равномерно насыщенный гелием с концентрацией 6 10 ат/см . Концентрация гелия может быть увеличена путем...

Номер патента: 1160823

Опубликовано: 30.11.1987

Авторы: Белянин, Сулема, Черданцев, Шадрин

МПК: G01N 23/22

Метки: гелия, ядерно-физический

...Пересчетна основе известных кинематическихсоотношений показывает, что сечениевылета ядер отдачи гелия при рассеянии 4 НЕ (" О,о) 0 максимально в угловом диапазоне примерно в 10 , расположенном около нуля градусов относительно направления падения ионовпучка. Это обстоятельство являетсярешающим при выборе угла регистрациивылетающих из мишени ядер отдачигелия. Малые углы регистрации ядеротдачи способствуют также увеличениютолщины анализируемой пленки.Предложенный способ осуществляется следующим образом (фиг. 2).Из ускорителя пучок 1 ионов кислорода 0 направляют на мишень 2,профиль концентрации (ПК) гелия в которой подлежит определению. Ядра отдачи гелия, выбиваемые из мишени 2ионами пучка 1 в результате упругого1соударения, регистрируют...