Штраусе
Устройство для дозировки и выдачи фоторезиста
Номер патента: 627331
Опубликовано: 05.10.1978
Авторы: Буравцев, Шмелев, Штраусе
МПК: G01F 13/00
Метки: выдачи, дозировки, фоторезиста
...поступает при помощи нагнетателя 16 через фильтр 17 н расходнуюполость 2 и возвращается в расходныйрезервуар 15, при этом происходитнепрерывная промывка доэирующей полости 3 и сливного отверстия б т.е.фоторезисту придается дополнительнаяФункция промывочной жидкости,Непосредственно перед выдачей дозы Фоторезиста выключается нагнетатель 16. Поршень пневмоциЛИНдра 14 перемещается в нижнее положение. Ста"кан 7 днижется вниз, а первый клапан 4 закрывается под действием пружины 5, Во время движения стакана 7нижняя часть 12 штока под действиемпружины 13 упирается н верхнюю часть10 штока, что задерживает сообщениес атмосферой дозирующей полости 3через канал 11, Фоторезист удерживается в дозирующей полости 3 силойатмосферного давления до...
Способ определения адгезии пленки к подложке
Номер патента: 580485
Опубликовано: 15.11.1977
Авторы: Дроздова, Селиванов, Сиедин, Шмелев, Штраусе
МПК: G01N 19/04
Метки: адгезии, пленки, подложке
...1 ми адгезпонными свойствами.Величина этой зоны зависит от различныхфакторов, связанных с методом формирования периметра адгезионного соединения, и составляет от нескольких единиц до нескольких десятков мкм, что сравнимо с размерами элемен580485 Формула изобретения 20 Составитель Г. Коновалова Техред И. Рыбкина Корректор Л, Котова Редактор И. Марголис Подписное Заказ 2583/3 Изд.942 Тираж 1109 НПО Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 тов контролируемых приборов, например, интегральных схем.Все это существенно снижает точность оценки адгезии между подложкой и участками фоторезиста, создающими защитную массу в процессе...