Райнова

Установка для получения эпитаксиальных слоев

Загрузка...

Номер патента: 401272

Опубликовано: 25.02.1975

Авторы: Гулидов, Данилков, Палиенко, Райнов, Райнова, Селиверстов, Чистяков

МПК: H01L 7/68

Метки: слоев, эпитаксиальных

...подложек 6 и выполнен, например, из графита в виде П-образных петель, имеющихвертикально расположенные рабочие поверхности, на которых размещены подложки, Ко 30 личество П-образных петель, крепящихся на Однако неконтролируемыи характер газодинамических параметров (линейная скорость потока парогазовой смеси в разных точках реакционных камер) в таких установках приводит к нарастанию слоев или пленок, неравномерных по толщине. Эта же причина вызывает неравномерное легирование по площади растущих эпитаксиальных слоев. Кроме того, значительная длина трубопроводов газовакуумной системы на участке между испарителем и реакционной камерой не позволяет получать высокую чистоту поступающей в реакционную камеру смеси.5 1 О 15 20 25 зо 35 40 45...