Перемыщева

Номер патента: 570870

Опубликовано: 30.08.1977

Авторы: Блинов, Кутко, Перемыщев, Перемыщева, Сандеров, Царев

МПК: G03C 1/74

Метки: слоя, формирования, фоторезиста

...особенностями технологического процесса и оборудования. Всспчгпа избыточного внсшне- О го дав;сипя па каждом пз этих эапов должна превышать давлсшс парогазовой смеси внутри пузырьков.11 р и м с р, Проводилось техническое опробоваппс способа формирования слоя фоторепа окпс,снных пластинах кремнияспсцпальном устройствс,На чсртсжс прсдставлсно устройство длярсалпзацпп предлагаемого способа.Устройство состоит из камеры 1, цгп 2, столика 3, нагревательного элеэкрана 5, дозатора 6 с фоторезистором, системы 7 подачи давления, клапана 8 подачи фоторезиста.Окисленные кремниевые пластины 9 с низкой заранее определенной дефектностью окисла закрепляются на столике 3 центрифуги 2. Опускается и закрывается колпак камеры...