G03C 1/70 — G03C 1/70
Негативный фоторезист
Номер патента: 454526
Опубликовано: 25.12.1974
Авторы: Кольцов, Мозжухин, Никольский, Петюшин
МПК: G03C 1/70
Метки: негативный, фоторезист
...пленкообразующей компоненты в состав фоторезпста вводить эпоксидную смолу дифенолпропанового ряда с температурой размягчения 50 - 150 С и мол. в. 800 - 9000 прп следующем 10 количественном соотношении исходных компонентов, вес.%; смола 6 - 20; бисазидный фото- инициатор 0,5 - 3,5; растворитель (диоксан+ +циклогексан) 20 - 80.Негативный фоторезист предлагаемого со става обеспечивает отличную адгезию к металлам, полупроводникам и диэлектрикам (Сг, А 1, Сц, Ад, Я, 510, 510, СтаАз и др.), химическую стойкость к щелочам и азотной, соляной, серной, плавпковой кислотам. С псполь зованием этого фоторезпста получены негативные изображения размером 2 мкм с клином проявления 0,1 - 0,5 мкм (толщина пленки фоторезиста около 0,5 мкм) при минимальном...
Способ изготовления предварительно очувствительнных моно или биметаллических офсетных пластин
Номер патента: 503199
Опубликовано: 15.02.1976
Авторы: Богачева, Вайнер, Динабург, Марочко, Никанчикова, Сулакова, Эрлих, Эфрос, Юррее
МПК: G03C 1/70
Метки: биметаллических, моно, офсетных, очувствительнных, пластин, предварительно
...г последнего раство.ряют в 250 мл ксилола, добавляют 0,75 г.2,6. бис.-(4 - азидобенэаль) - 4метилциклогексанона исмесь размешивают до полного растворения компо.нентов при комнатной температуре. Растворфильтруют, наносят на центрифуге при 120 об/минна меднохромовую пластину и сушах три 50 С атеченче 5-10 мин, Слой толщиной 1,5-2 мкм экспо.нируьэт под дуговыми фонарями (освещенность напластине 16.20 тыс.лк) в течение 8 мин и нзобра.жение проявляют в уайт. спирите в. мчение 1 мин.Ког ив сушат при 60.70 С в мчение 3-5 мин ипосле корректуры травят при 40 С в течение 4.5мнн в растворе, содержащем (мл) НС 50, насыщенный раствор СаСг 800, насьпценный. раствор, ЕоС 1, 150,. Слой удаляют смесью ксилола с бутил.ацетатом в течение 2 мин....
Фотополимеризующаяся копировальная масса
Номер патента: 503553
Опубликовано: 15.02.1976
Автор: Раймунд-Иозеф
МПК: G03C 1/70
Метки: копировальная, масса, фотополимеризующаяся
...клиновые ступени,На основании высокой вязкости примененного мономера копировальные слои без наружного слоя или с ним обладают неклейкими говерхпостями с жестким туше (графитом) . Сопротивляемость проявитглю этих слога очень хорошая.Пластины для плоской печати дают в офсетной печати на машине для размножения более чем 100000 безукоризненных отпечат. ,ков. Устойчивость при хранении копировальных слоев отличная.П р и м е р 2. Раствор (зес. ч,) 2,8 сополимеризата из метилметдкрилата и метакрилозой кислоты с кислотным числом 85 и средним молекулярным весом 34008; 2,8 указанного ниже мономера; 0,2 9-фенилакридинд;0,03 примененного в примере 1 трифенилме-. та ново го,кр асителя;,0,25 триэтил ен гли кол ьди. ацетата в 30 об, ч....
Фотополимеризующаяся копировальная масса
Номер патента: 503554
Опубликовано: 15.02.1976
Автор: Раймунд-Иозеф
МПК: G03C 1/70
Метки: копировальная, масса, фотополимеризующаяся
...рельефное изображение глубиной 0,4 мм.Полученная светочувствительная пленка отличается очень хорошей способностью храниться длительное время. Даже после хранения в течение 7 месяцев при комнатной температуре совершенно не наблюдались явления кристаллизации или несовместимости.Применяемые для описанных целей моно- меры получают следующим образом.85 вес. ч, (0,5 моля) изофорондиамина (1,3, 3-триметил- аминометил - 5-аминоциклогексан) растворяют в 500 об, ч, хлористого метилена и охлаждают до 5 С, Затем одновре менно из двух капельных воронок с одинако. вой скоростью при энергичном перемешивании производят добавку раствора 40 вес. ч. КаОН в 125 об. ч воды и раствора 90,5 вес. ч, хлорангидрида акриловой кислоты в 75 об. ч. хлористого...
Композиция для получения термопроявляемых фотографических материалов
Номер патента: 1021272
Опубликовано: 23.12.1983
Авторы: Ерошкин, Трофимов, Шелковников
МПК: G03C 1/70
Метки: композиция, термопроявляемых, фотографических
...на расстоянии 25, см через стекло и негатив для получения иэобра-, жения составляет 10-60 с, открытым ,1 ф-светом-10 с.На основании предлагаемой композиции можно получить и прозрачный термопроявленный материал при включении в композицию связующего, на 230До 1 л 50 Сушат при 80 ОС, экспонируют светом лампы ПРКМ через стекло и негатив на расстоянии 25 см в течение 20 с и проявляют при 140 ОС в течение 120 с. Показатели материала приведены в таблице,П р и м е р 2. Бумажную подложку (фильтр зеленая лента) пропитывают в растворе, содержащем следующиекомпоненты, г/л:Пролинатмеди 15Натриеваясоль антрахинон,6 дисульфокислоты 55 60 65 10 пример ПВС в количестве 5-10. Концентрация комплекса при этом снижается до 2-3 г/л. ПЬлученную композицив...