Фискис

Номер патента: 1558247

Опубликовано: 27.11.1996

Автор: Фискис

МПК: H01J 9/38

Метки: прибора, электровакуумного, электродов

Способ очистки электродов электровакуумного прибора, включающий ионную бомбардировку поверхности очищаемого электрода в несамостоятельном газовом разряде при одновременной подаче на очищаемый электрод постоянного напряжения и высокочастотного напряжения, инициирующего газовый разряд, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности очистки электродов за счет десорбции внедрившихся в материал электродов атомов инертного газа, в объем прибора последовательно ступенями напускают газ, атомная масса которого меньше атомной массы десорбируемого газа, бомбардировку электрода осуществляют на каждой ступени откачкой газа, а энергию бомбардирующих электрод ионов устанавливают прямо пропорциональной корню квадратному из произведения атомных...

Номер патента: 1589886

Опубликовано: 10.05.1995

Автор: Фискис

МПК: H01J 9/38

Метки: вакуумной, высоковольтных, изоляторов, поверхности, приборов, электровакуумных

СПОСОБ ОЧИСТКИ ВАКУУМНОЙ ПОВЕРХНОСТИ ИЗОЛЯТОРОВ ВЫСОКОВОЛЬТНЫХ ЭЛЕКТРОВАКУУМНЫХ ПРИБОРОВ, включающий подачу на электроды постоянного напряжения и повышение его ступенями с выдержкой в течение 3 5 мин, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности очистки диэлектрического корпуса прибора, на диэлектрический корпус устанавливают внешний кольцевой электрод, который подключают к положительному выводу источника постоянного напряжения, а отрицательный вывод подключают к выводу одного из электродов электровакуумного прибора, на который дополнительно подают высокочастотное напряжение амплитудой 10 20 кВ и частотой 0,5 2,5 МГц, а ступенчатый подъем постоянного напряжения осуществляют до величины, равной 0,6 0,7 рабочего напряжения.

Номер патента: 2004027

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Ветров, Гурков, Фискис

МПК: H01J 1/13

Метки: имеет, катод, которого, многолучевого, прибора, топологию, электровакуумного, эмиссионную

...мнаголучеоой эмиссионной структуры на поверхности катода, покрытого пленкой антиэмиттера.На фиг,1 показана схема реализации способа изготовления многолучевого ЭВП; на фиг.2 - заоисимость разрядного тока в цепи катода от времени проведения процесса ионна-плазменной обработки катода,На фиг,1 показаны катод 1, змиттирующая поверхность которого покрыта пленкой антизмиттера, мадулирующий электрод 2 ЭОС, отверстия которого соосны пролетным каналам резонаторнага блока ЭВП и который является маской для ионного травления антиэмиттера катода, катодный полюс - анод 3 ЭВП, являющийся одним из полюсов постоянного магнита 4, установленного так, чта ега силовыелинии перпендикулярны поверхности катода и параллельны осям пролетных каналов,...

Номер патента: 816315

Опубликовано: 28.02.1985

Авторы: Некрасов, Фискис

МПК: H01J 9/38

Метки: обезгаживания, приборов, электровакуумных, электродов

...изобретению является способ 25 обезгаживания электродов ЭВП на откачном посту, включающий подъем температуры электродов до температуры обезгаживания и выдержки электродов при этой температуре 2 . . 30Недостатком известного способа является появление межэлектродной проводимости в результате напынения металлических пленок на,поверхность диэлектриков в ЭВП при увеличении тем- З пературыобеэгаживаиия идлительности высокотемпературной выдержки электродов в высоком вакууме.е В случае катодно-подогревательных 40 узлов увеличение температуры обезгаживания и длительности высокотемпературной выдержки при обезгаживании при водит к снижению надежности и долговечности катодно-подогревательного узла и прибора в целом. ния времени нахождения...

Номер патента: 855784

Опубликовано: 15.08.1981

Автор: Фискис

МПК: H01J 9/38

Метки: приборов, электровакуумных, электродов

...на откачном посту.Схема содержит высоковольтныйэлектроискровой осцнллятор 1 (аппарат Тесла 0 и 25 кВ, 1 = 2/5 кГц,от которого переменное напряжениепоступает на обрабатываемый электродчерез проходной конденсатор 2 и высоковольтный переключатель 3. К тойже клемме высоковольтного переключателя 3 подключен "минус" выпрямителя4, напряжение которого определяетэнергию бомбардирующих очищаемую поверхность ионов. Для защиты выпрями. -теля 4 от воздействия на него электроискрового высоковольтного осциллятора 1 между переключателем и выпрямителем 4 установлен Фильтр, включающий низкочастотный дроссель 5 и"утечку" конденсатор 6. Переключатели7 и 8 служат для смены полярности наэлектродах обрабатываемого ЭВП и подачи на обрабатываемый электрод...

Номер патента: 813537

Опубликовано: 15.03.1981

Автор: Фискис

МПК: H01J 41/20

Метки: магнитный, электроразрядныйнасос

...ортогональность электрического поля к магнитному, что значительно увеличивает вероятность ионизации молекул остаточного газа в насосе. Наличие авто- электронной эмиссии с острий и ортогональность полей способствует уменьшению величины порогового давления зажигания разряда. Для насоса с корпусом цилиндрической формы (фиг. 1 и 2) уменьшение высоты острий к центру приводит к равномерности электрического поля во всем рабочем пространстве насоса.Для насоса с корпусом прямоугольной формы (фиг, 3 и 4) высота острий одинакова по всей длине стержня, что обеспечивает также равномерность электрического поля во всем рабочем пространстве насоса.Идентичность конструкций катодов и анодов насоса обеспечивает возможность использования каждого...

Номер патента: 542271

Опубликовано: 05.01.1977

Авторы: Кожевников, Мадонов, Фискис

МПК: H01P 1/30

Метки: жидкостным, коллектор-теплообменник, охлаждением, приборов, принудительным, сверхвысоких, частот

...корпусе 1 коллектеплообменника приборов сверхвысокстот с принудительным жидкостнымдением, закрытом крышками 2 и 3,положен приемник электронов 4 с оной поверхностью. В ребрах 5 выполотверстий 6, расположенных по конческим окружностям. Отверстия вмемежреберным пространством образлы с периодически изменяющимся се дующим образом.Мощность, сосредоточенная в приемнике электронов 4, растекается по ребрам 5 и корпусу 1. Она отбирается потоком жидкости, проходящим через периодическую систему отверстий 6 в ребрах и межреберные пространства. Пдток охлаждающей жидкости, ускоренный в плоскости ребра, попадая в межреберное пространство, резко тормозится (суммарное сечение отверстий в ребре много меньше сечения межреберного пространства), что...