Цыбышев

Устройство для литья

Загрузка...

Номер патента: 1053960

Опубликовано: 15.11.1983

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья

...погружения послед- ЗО;него в расплав до контакта поверхности расплава с поплавковой каме-рой 2 .Недостатком устройства являетсяневысокое качество отливок устройства 35в связи с короблеиием поплавковогоклапана и рычагов, что ведет к неплотному перекрытию питателяи воз"можному попаданию загрязнений с поверхности расплава в:Форму. . ;46Цель изобретения -. повышение качества отлнвок.Цель достнтается тем, что в уст-ройстве, содержащем верхнюю полуфбрмус выталкивателем отливок, нижнююполуформу с донным питателем, клапан,перекрывающий донный питатель, меха-.низм закрытия полуформ и защитныекожухи, клапан выполнен в виде штокапневмоцилиндра, закрепленного на ,верхней полуфорне,На чертеже изображено предлагаемое.,устройство для литья. Устройство...

Форма для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 988452

Опубликовано: 15.01.1983

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением, форма

...форма длялитья погружением.Форма содержит верхнюю полуфор1, нижнюю полуформу 2 с донными ителями 3, воздухозаборник 4, закре-,пленный на нижней полуформе. В стеноках воздухозаборника 4 выполненыотверстия 5, расположенные на уровне входного сечения питателей 3. Внижней полуформе выполнены также дополнительные полости 6. Для отводавоздуха и газов из полости Формыпредусмотрены выпора 7. Форма под-вешена на каркас 8.2 ОФорма рабоФорму с зажают в расплазаборника, 4 ищего снизу ра тает следующим образомданной скоррстью погруве Воздух из воздухоод действием поступаюсплава выходит черезказ 10955/13 Тираж 811 Подпис ВНИИП филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,3 988 ч 5 отверстия 5 и отгоняет,от питателей 3 неметаллические...

Устройство для литья вакуумным всасыванием

Загрузка...

Номер патента: 952429

Опубликовано: 23.08.1982

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 18/06

Метки: вакуумным, всасыванием, литья

...комбинированная поверхность разъема, Замкнутаябоковая поверхность 4 образуетугол 5-15 к вертикальной оси.устройства. Поверхности полуформ, контактирующие с жидким расплавомохвачены составным защитным кожухом 5 5, предупреждающим нагрев полуформпри погружении и повышенный их износ. Целесообразно нижние части полуформ выполнить в виде полых патрубков 6 и 7.формообразующая полость 3 сообщается с полостью донного питателя 8 и каналами 9 с полостью 10для вакуумирования, образованнойверхней плоскостью верхней полуформы 1 и крыакой 11, между которымиразмещена прокладка 12. Полостьсоединена трубами 13 с вакуумнойсистемой, нижняя полуформа 2 жесткосоединена с держателями 14. ГермеО тиэация крышки 11 в месте сочлене952429 формула изобретения...

Устройство для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 942880

Опубликовано: 15.07.1982

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением

...на уровне с основанием питателя 5, В результате з этого,при погружении под дном кожуха находится воздушная прослойкаПолуформа 2 содержит формообразующую полость 6 и донный питатель 5, Под дном кожуха имеется заслонка-попла вок 7, находящийся на одном конце рычага 8,закрепленного на шарнире.9 к фланцу кожуха и поплавок 10 с большой подъемной силой, расположенный на другом конце рычага, Нижняя полу Форма крепится держателями 11, верхняя - штоком 12, Для выбрасывания отливки из верхней полуформы имеются толкатели 13 и контротолкатели 14, закрепленные на плите 15, 20Устройство работает следующим образом.В свободном состоянии питатель открыт, При опускании устройства в расплав, покрытый защитным флю сом или без флюса, в момент погружения...

Форма для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 900972

Опубликовано: 30.01.1982

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением, форма

...с уклорону слива расплава изанным с боковыми питэтом диаметр колодца составляетменее 0,4 высоты Формы.На чертеже изображена предлагаформа . для литья, погружением,Форма содержит формообразующуюполость 1, донные пнтатели 2, боквые питатели 3, дополнител пи20тели 4, колодец 5 и каркасДля предупреждения крис зарасплава на стенках колодца, егометр должен быть не менее 0,4 высформы. Питатели 4 расположены в г900972 фливки при любом соотношении суммарных площадей сечений питателей. Формула изобретения Составитель В.КусовРедактор Ю. Середа Техред Т Латочка Корректор Г. Огар Заказ 12258/8 Тираж 852 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская иаб., д. 4/5Филиал ПНП "Патент", г....

Устройство для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 893399

Опубликовано: 30.12.1981

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением

...Для заливки формы расплавом имеются металлопроводы 8, выполненные в кожухе. Нижняя полуформаприсоединена к штоку 9 поршня цилиндра .(не показан), верхняя полуформа -к каркасу 10. Над отверстиями Формустановлены. тонкостенные пустотелыетолкатели 11 с отверстиями 12 в стенках для выхода воздуха, закрепленные на Фланце 13 штока. Они установлены над формой на уровне, обеспечивающем необходимое сечение кольцевого пита" теля. Устройство крепится к силовому цилиндру 14.Устройство работает следующим образом.При погружении устройства в расплав находящийся в полости 3 воздух.Ужгород, д,Проектна под действием поступающего снизу металла выходит в отверстия 4 и отгоняет окисную плену и шлаковые включения, находящиеся на зеркале расплава, от...

Форма для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 893398

Опубликовано: 30.12.1981

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением, форма

...его качество.Цель изобретения - расширение номенклатуры отливаемых изделий.Поставленная цель достигается тем, что в известной форме для литья погружением, включающей формообразующую полость, донный питатель, выпор и держатель, под.пчтателем выполнена открытая снизу полость.На чертеже изображена предлагаемая форма.форма содержит Формообразующую полость 1, донный питатель 2, выпор 3 для выхода воздуха иэ Формы при заливке, держатель 4 для подвески формы, В форме под питателем выполнена открытая снизу полость 5, служащая заборником подогретого воздуха при погружении.Находящийся в полости воздух при опускании формы в расплав препятствует поступлению металла в питатель и далее в форму до тех пор, пока он весь нод действием...

Питатель

Загрузка...

Номер патента: 893397

Опубликовано: 30.12.1981

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: питатель

...имеются ребра4, расположенные по винтовой линии.При быстром погружении питателяв расплав покрытый защитным флюсомили шлаком металл за счет ребер 4приобретает вращательное движение.Под действием возникающих центробежных сил металл (как более тяжелый материал) вытесняет от стенки внутреннего патрубка более легкий Флюс и шлак к центру. Чистый расплав через,щелевые питатели поступает во внешний патрубок 1 и при дальнейшем погружении в полость формы. Расплав во внутреннем патрубке 2 доходит до определенного уровня, определяемого глубиной погружения и длиной внутреннего патрубка. После затвердевания отливки при подъеме формы незатвердевший металл из внутреннего, затем из внешнего патрубков сливается в ванну.Использование литейных форм с...

Устройство для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 876286

Опубликовано: 30.10.1981

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением

...на уровнеоснования питателей,На чертеже изображена схемаустройства для литья погружением.Форма устройства имеет горизон-,тальную плоскость разъема и состоитиэ верхней полуформы 1 и нижней полуФормы 2. Верхняя подвижная полуформа присоединена к штоку 3 поршня.Нижняя полуформа крепится направляющими 4 к силовому цилиндру, и имеетдонные питатели, сужающиеся книзу,которые заканчиваются патрубками 5.Такая конструкция предохраняет 1 фнамораживание металла около питателя.Защитный кожух представляет собойтрубу 6, изготовленную, например,иэ огнеупорного материала, с фланцем7 внутри, на который опирается нижняя полуформа. Для герметичностимежду полуформой 2 и дном кожухапоставлена прокладка 8.Собранную и подготовленную формус подогретым...

Устройство для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 846089

Опубликовано: 15.07.1981

Автор: Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением

...фиг. 1 изображено устройство, продольный разрез; на фиг, 2 - разрез А - А на фиг, 1.Устройство состоит из верхней 1 и нижней 2 полуформ. Верхняя подвижная полу- форма 1 крепится к штоку 3. Нижняя полу- форма 2 прикрепляется к силовому цилиндру направляющими 4. Защитный кожух также раз" емный и состоит из двух половин - верхней 5 и нижней 6 половин, скрепленных по плоскости разъема, где расположены питатели 7, оканчивающиеся карманами 8, которые служат для предупреждения попадания окисной плены в полость формы и представляют собой емкость для прибыли.Подготовленное к заливке устройство погружают в расплав на глубину, необходимую для заливки и создания некоторого металлостатического давления. Волна, создаваемая карманами кожуха...

Устройство для литья погружением

Загрузка...

Номер патента: 821056

Опубликовано: 15.04.1981

Авторы: Коврижных, Цыбышев

МПК: B22D 23/04

Метки: литья, погружением

...на питатели в виде шапок, образование которых сделало бы невозможным извлечение отливок из формы. Патрубки выступают за пределы кожуха на расстояние 0,5- 1,0 толщины питателей, что обеспечивает их прогревание ванной расплава, исключает избыточное намораживание металла на питатели отливок. Кожух 3, соединенный с нижней полуформой 2 через, буртики 5, предохраняет форму от непосредственного контакта с металлом и резко уменьшает ее разогрев от расплава. Буртики, окаймляя питатели, способствуют их утеплению. В то, же время теплопередача через них в форму должна быть минимальной. С этой целью высота буртиков выбирается в 1,5 - 2 раза больше их ширины.Устройство работает следующим образом.Собранная форма за держатели 7 погружается в расплав...

Модель нейрона

Загрузка...

Номер патента: 482766

Опубликовано: 30.08.1975

Авторы: Иващенко, Цыбышев

МПК: G06G 7/60

Метки: модель, нейрона

...интегрирующей цепочки 10 - 8 - 50)У,=У;, - Е, то в коллекторном переходе транзистора 1 заметную роль начинаетиграть ударная ионизация, и соответственнотоки базы и коллектора возрастают в т раз.5 Возрастание отрицательного базового тока впроцессе ударной ионизации сопровождаетсяуменьшением запирающего напряжения наэмиттерном переходе, и соответственно уменьшается напряжение на коллекторном перехоО де, что выводит транзистор из области лавинного пробоя и приводит схему к исходномусостоянию. На выходе 14 модели при этомформируется импульс напряжения, по формевоспроизводящий потенциал действия физиологического нейрона. Амплитудные и временные соотношения выходных импульсов модели воспроизводят аналогичные соотношенияестественного нейрона....

Шланговый насос

Загрузка...

Номер патента: 353068

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Бражников, Мамлина, Цыбышев

МПК: F04B 43/12

Метки: насос, шланговый

...изображен предлагаемый шланговый насос; на фиг, 2 - сечения по А - А, Б - Б, В - В и Г - Г на фиг. 1. 20Гибкий шланг 1 размещен в пазу корпуса2 насоса. Прямолинейные концевые участки3 ц 4 паза сопрягаются с его центральнымспиральным участком 5, выполненным навнутренней цилиндрической поверхности 6корпуса насоса.Часть спирального участка паза, примыкающая к его прямолинейному участку, выполнена в виде дуги окружности, эксцентричной окружности спирального участка и цмеющей радиус, равный илп больший радиуса окружности спотрального участка.Насос раоотает следующим образом.Ролик-вытеснцтель 7, приводимый в движение водцлом 8, пережимает гибкий шланг 1, перемещая по нему перекачиваемую жидкость. Во время движения водила вдоль...