Чобанюк

Номер патента: 1778732

Опубликовано: 30.11.1992

Автор: Чобанюк

МПК: G02B 5/18

Метки: голограммных, дифракционных, записи, решеток

...дифракционную решетку с частотой штриховР = Ро/р,где Ъ -требуемая частота штрихов записываемой г,д.р.;р=1,2,3 ,ориентируют интерферирующие пучки и вспомогательную решетку таким образом, чтобы в направлении дифрагированных на вспомогательной решетке в и-й и а-й поряд ки дифракции пучков, причем и+гл=р, наблюдалась интерференционная картина с бесконечно широкой полосой, после чего устанавливают в плоскости пересечения интерференционных пучков подложку со све точувствительным слоем и производят егоэкспонирование, дополнительно после установки подложки со светочувствительным слоем до его экспонирования формируют с помощью того же интерферометра интерфе ренционную картину с бесконечно широкой полосой, создаваемую отраженными от подложки...

Номер патента: 1569788

Опубликовано: 07.06.1990

Авторы: Кит, Чобанюк

МПК: G02B 27/42

Метки: дифракционных, линз, цилиндрических

...выделенной части Фотошаблона на слое Фоторезиста, нанесенного на подложку,и экспонируют слой фоторезиста, перемещая подложку в направлении, перпендикулярном оси симметрии выделенной полосы фотошаблона, на величину, равную образующей изготавливаемой линзы, с последующей химическойобработкой слоя Фотореэиста, Приэтом ширину выделенной полосы фотошаблона выбирают равной 2 1 2 Я,где Г - фокусное расстояние Фотошаблона, Л - рабочая длина водны излучения для изготавливаемых линз,Установленная из приведенногоусловия ширина выделяемой полосыфотошаблона обеспечивает распределение величины экспозиции в пределах каждой зоны по несимметричномузакону, поскольку величина экспозиции в каждой точке на оси, перпендикулярной направлению движения...