Патенты с меткой «высоковакуумную»

Номер патента: 567985

Опубликовано: 05.08.1977

Авторы: Евлампиев, Левина, Мясников, Цивенко

МПК: G01M 3/40

Метки: воздуха, высоковакуумную, натекания, обнаружения, систему

...цель достигается тем, что в качеств ве материала чувствительного элемента используют химически и термически.устойчивые окислы металлов с эпектронной прово-: димостью, изменяющейся при хемосорбаиикислорода.Сушность способа состоит в том, что в высоковакуумнуто систему помешают пленоч, ный чувствительный элемент, например, иэ 2 ЪО,СдО или ТО,.При натекании воздуха в систему элемент изменяет свое сопротивление за счет хемосорбпин кислорода на поверхности пленки. По изменению .сопротивления элемента судят о герметичности системы.- Чувствительный элемент готовится термическим вакуумным напылением металла567985 Составитель А. ШалыгинаРедактор В. Другова 7 ехрер, А, Богдан Корректор Е, Папп Заказ 2792/32 Тираек 1101 Подписное 10 ИИПИ...

Номер патента: 875476

Опубликовано: 23.10.1981

Авторы: Какубери, Финьков

МПК: H01B 17/26

Метки: ввод, высоковакуумную, камеру, электрический

...с корпусом камеры черезсильфон и изолирующий элемент, иэкран, выполненный в виде цилиндра,один из торцов которого вакуумплотно соединен с корпусом камеры, шток 5 выполнен с возможностью перемещения,на одном из его торцов расположеназаглушка, контактирующая с другимторцом экрана.Ва чертеже изображен электричесй ввод, общий вид. Ввод состоит, 875476 формула изобретения ПП Патент,д,ул.Проектная,филиа г.ужг иэ подпружиненного зонда 1 (один из вариантов гибкого. контакта), закрепленного на клапане 2, который закреплен на штоке 3. Металлокерамическ.й узел 4 соединен вакуумплотно со штоком 3 и сильфоном 5.Сильфон 5 закреплен на корпусе камеры б, имеющем цилиндрический экран 7.Шток 3 от корпуса б изолирован втулкой 8. Шток может перемещаться...

Номер патента: 1161761

Опубликовано: 15.06.1985

Авторы: Деулин, Мирошкин, Панкратов, Хазов

МПК: F16J 15/44

Метки: ввода, высоковакуумную, движения, камеру, уплотнение

...электронно-лучевой обработки фоторезистов, рентгенолитографии и других технологических установках для изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем. 10Цель изобретения - повышение эффективности уплотнения в диапазоне низких дав лений путем уменьшения потока натекаюшего газа.На фиг. 1 изображено уплотнение ввода, разрез; на фиг. 2 - разрез А - А на фиг. 1.15Уплотнение ввода содержит врашаюшийся (или возвратно-поступательно перемещающийся) вал 1 привода движения из камеры 2 предварительного разрежения, откачиваемой до давления не выше 5 10 Па, в камеру 3, откачиваемую до высокого и сверхвысокого вакуума (ниже 5 10Па), эмиттер электронов - катод 4, компенсатор (нить накала, разогреваемая источником 5), размещенный в камере...