Патенты с меткой «вакуумном»

Номер патента: 176441

Опубликовано: 01.01.1965

Авторы: Ефремов, Заводчиков, Иванов

МПК: G01J 3/06

Метки: вакуумном, сканирования, спектра

...Роуланда. При прямолинейном перемещении входной щели шаблон может синхронно поворачиваться вместе с дифракционной решеткой и выходной щелью вокруг оси, проходящей через центр дифракционной решетки.Предложенное устройство повышает точность фокусировки спектра отрицательных порядков на выходной щели, обеспечивает малогабаритность конструкции, устойчивость и надежность при вибрациях,Шаблон выполнен в виде части дуги круга Роуланда с радиусом кривизны.й =р+ - д,12 Знак плюс или минус зависит от расположения шаблона - внутри круга Роуланда(минус) или снаружи (плюс).На чертеже изображено предложенное5 устройство.Входная щель 1 укреплена на,прямолинейных направляющих. Дифракционная решетка2 и выходная щель 3 укреплены на шаблоне 4,который...

Номер патента: 254464

Опубликовано: 01.01.1969

Автор: Щербаков

МПК: B21D 43/10, B23Q 7/04

Метки: вакуумном, захвате, ориентации, удерживаемых

...частях ориентаторов и базы 30 в горизонтальной плоскости выбраны пазы длиной 1, в которых как в направляющих перемещается планка-клин 9, жестко посаженная па тягу 10 с помощью винта 11 и контргайки 12. На тягу 10, расположенную в направляющих базы 3, надета пружина 13, отводящая тягу в правое (по чертежу) положение. На левый конец тяги навинчена специальная гайка 14, ограничивающая ее движение в правом направлении под действием пружины. В заданном положении специальная гайка 14 жестко фиксируется контргайкой 15.Рабочая часть клина в сечении представляет собой дугу радиуса Р; она отклонена от линии движения ориентатора на 2 - 4 в сторону собственно орпентатора.Это отклонение рабочей части клина удерживает захваченные вакуумным захватом...

Номер патента: 445761

Опубликовано: 05.10.1974

Авторы: Кузнецов, Меньшиков, Постников

МПК: F04C 29/04

Метки: вакуумном, давления, механическом, насосе, остаточного, полного, понижения

...относится к облвс. ти механических вакуумных насосов.Известны способы понижения полного остаточного давления в мезанических вакуумных насосах путем 5 охлаждения рабочей жидкости насоса, производимое с целью пре;. дотвращения перегрева масла,влияющего на работоспособность насоса. 1 ОЦель изобретения - улучшение характеристик насоса.Нредложенный способ отличается от известных тем, что охлаждение рабочей жидкости произво дится с помощью дополнительного охлаждающего устройства до температуры ниже температуры окружающей среды, что позволит значительно снизить упругость паров ра О бочей жидкости и улучшить предельный вакуум насоса,ПРЕДМЕТ ИЗОБРЕТЕНИЯ1. Способ понижения полного ос таточйого давлению в иеханическом вакуумном насосе путем...

Номер патента: 500541

Опубликовано: 25.01.1976

Авторы: Дементьев, Чернышев, Шкарупа, Яременко

МПК: G11B 15/58

Метки: вакуумном, движением, ленты, магнитной, накопителе, петли

...введены логические схемы с 5двумя входамп " " 28,29, схема "ИЛИ" 30лсхема НЕ 31 и аналогичные им схемы "И"32, 33, "ИЛИ" 34, "НЕ" 35. Каждая издвухвходовых схем "И" связана с отдельным триггером, а именно схема "И" 28-с 2 Отриггером 36, схема "И" 29 - с триггером37, схема 32 - с триггером 38 и схема"Иф - с триггером 39,Как можно видеть из чертежа в устрой-.стве имеются два симметричных канала, в Жпервом из которых использовань датчики2, 4, 6, их усилитесп 8, 10, 12, триггеры36, 37, схемы "И" 28, 29, схема "ИЛИ"30, и схема НЕ 31, а вс втором - датчики 3, 5, 7, их усилители 9, 11, 13, фтриггеры 38, 39, схемы "И" 32, 33, схема "ИЛИ" 34 и схема "НЕ" 35,Когда петля 40 ленты 14 находитсямежду средними датчиками 2 и 3 электро 3двигатель будет...

Номер патента: 657289

Опубликовано: 15.04.1979

Авторы: Гудкова, Иванов, Рябов

МПК: G01L 21/00

Метки: вакуумном, газовыделения, объеме, скорости

...при откачке накопленного газа, определяется количествомнакопленного газа, соотношением междуисследуемым обьемом и объемом, в котором находится датчик, и быстротой откачки насосом объема с датчиком. Интегрируя изменение давления на датчике вовремени после открьггия клапана и непрерывной откачки.обьема датчика, получаютсигнал, который пропорционален количеству накопленного газа в исследуемом обьеме и эффективной быстроте откачки насоса,На фиг, 1 представлена принципиальнаявакуумная схема реализации данного способа, включающая исследуемый объем 1,запорный клапан 2, датчик давления 3,вакуумметр 4, интегвтор 5, калиброванную проводимость 6, насос 7,Способ измерения скорости газовыделения поясняется диаграммой изменениядавления,...

Номер патента: 855786

Опубликовано: 15.08.1981

Авторы: Ашихмин, Базылев, Коротченко

МПК: H01J 9/42

Метки: вакуумном, давления, диоде, схема

...промежутке (кривая б на фиг.2)выражается формулойгде о, - амплитуда напряжения;х - текущая координата;д - межэлектродное расстояние.Эсли частота напряжения достаточно велика, чтобы координата иона мало изменялась за период, можно считать, что движение ионов определяется величиной О. Распределение эквивалентного потенциала представляет собой потенциальную яму, а при амплитуде высокочастотного напряже,ния, достаточной для ионизации, ионы 16 накапливаются в объеме, совершая колебания между катодом и анодом. При подаче видеоимпульса отрицательной полярности распределение эквивалентного потенциала в межэлектродном про межутке изменяется, как показано на Фиг.2 (кривая 7), что вызывает уход накопленных ионов на катод, В результате...

Номер патента: 989397

Опубликовано: 15.01.1983

Авторы: Палий, Рогачев

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезионных, вакуумном, используемых, качестве, металлических, напылении, оценки, подложек, покрытий, полимеров, свойств

...результаты приведены в табл. 1.Иэ табл.1 видно,что при температуре пленки 50 фС адгеэиониая прочность соединений наиболее высокая. Этому режиму обработки соответствует и более высокий коэффициент конденсации. Краевой угол смачинания для такой обработки нельзя использовать н качестве критерия оценки ев качества: при всех режимах он практически не и. ечегся.Коэффициент конденсации, определен. ный прн толщине покрытия 0,5 и 10 нм, не зависит от режимов активационной обработки.П р и м е р 2. Проводят контроль качества обработки пленок полиэтилена перед нх механизацией свинцом, Обработку пленок осуществляют в тлеющем разряде при различных .режимах. Технологические режимы металлизацин и регистрации коэФфициента конденсации 10 такие же; как...

Номер патента: 1430615

Опубликовано: 15.10.1988

Авторы: Зайденштейн, Старовойтов

МПК: F04F 5/14

Метки: вакуумном, величины, насосе, натекания

...Редактор Л,Веселовская Заказ 5319/34 Тираж 574 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5 Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул, Проектная, 4 Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано для определения величины натекания в вакуумном насосе.Целью изобретения является сокращение времени при определении натекания в многоступенчатом пароэжекторном насосе и обеспечение возможности определения .его негерметичной ступе" ни. Способ определения величины натекания в вакуумном насосе заключается в том, что измеряют давление, причем дополнительно подают газовую нагрузку заданной величины на вход . последней ступени, измерение...

Номер патента: 1476212

Опубликовано: 30.04.1989

Авторы: Казин, Селиванов

МПК: B25J 19/00, F15C 3/04

Метки: вакуумном, детали, манипулятора, наличия, пневмоэлектропреобразователь, схвате

...Ступень большего диаметра расположена со стороны мембраны 2. Против толкателя 11 установлен микровыключатель 13 с электрической контактной группой 14. Подпружиненный шток 15 микровыключателя 13 контактирует с толкателем 11, Канал управления 6 подключен к выходу распределителя 16, входы которого соединены с каналами вакуума и избьггочного давления питания. В качестве примера, на фиг. 1 показано соединение контактной группы 14 с блоком управления 17, выход которого подключен к распределителю 16. Лыска 12 на толкателе 11 служит для образования зазора 18 с заданным проходным сечением.Преобразователь работает следующим образом.В исходном положении камеры 3 и 7 подкспочены к каналу вакуума соответственно через регулируемые дроссели 5 и 8. В...

Номер патента: 1507583

Опубликовано: 15.09.1989

Авторы: Близнюк-Квитко, Сапельников, Феклин

МПК: B29C 51/10

Метки: вакуумном, пленки, подачи, формовании

...из пчецочцых материалов методом вакуумной формовки и может быть использовано при изготовлении форм вакуумным формованием.Цель изобретения - повышение надежности работы устройства.На чертеже показано устройство подачи пленки при вакуумном формова ницУстройство содержит нагреватель 1, рамку-присоску 2 с приводом 3 ее вертикального перемещения, рычаг 4 с ножом 5, бобину б дпя пленки с осью 7, направляющие 8, привод 9 горизонтального перемещения бобины 6 пленки, закрепленный на основании шарниром 10, и механизм 11 прижатия бобины к направляющим 8, выполненный в виде системы пружин.Направляющие 8 расположены на одном уровне с рамкой-присоской 2 в ее верхнем положении перед и за ней, а рычаг 4 шарнирно закреплен на на 25 правляющей 8,...

Номер патента: 1547596

Опубликовано: 23.05.1991

Автор: Цыбин

МПК: H01J 25/00

Метки: вакуумном, вещества, мелкодисперсных, приборе, частиц, электронном

...проводящих материалов, чащевсего из меди, и их разрушения несущественны, Тем не менее даже в этихусловиях возможно образование мелкодисперсных частиц если выполняютсятребования, оговоренные в формулеизобретения, Локальная вставка в разрез токовой поверхности СВЧ-резонато Ора приводит к резкому увеличению локальных значений энергии, т.е. джоулева тепла, выделяемого в скин-слое,что позволяет снизить в тракте уро-вень СВЧ-мощности, необходимой для 15эмиссии мелкодисперсных частиц,Эмиссия мелкодисперсных частицв мощных электровакуумных приборахЭВП может иметь паразитный характер,например приводит к разрушению элементов электронных пушек и электронных оптических систем, коллекторов,СВЧ-резонаторов. Применение скинисточника мелкодисперсных...

Номер патента: 1693407

Опубликовано: 23.11.1991

Авторы: Бегляков, Соков, Усанов

МПК: B65H 5/08, G01L 19/08

Метки: вакуумном, наличия, присосе

...10, установленного на штоке 11 мембраны 6 для перекрытия светового потока оптоэлектронной пары 12. Измерительная камера сообщена с атмосферой, На корпусе 5 установлен усилитель 13 оптоэлектронной пары 12. Индикатор 1 подключается к системе управления разьемом 14. При этом внутренние диаметры входного 7 и выходного 8 каналов связаны соотношениембвхбвых,где бвх - диаметр входного канала; бвых - диаметр выходного канала,Устройство работает следующим образом.При наличии детали в вакуумном присосе давление в приемной камере падает и мембрана 6 прогибаетсч за счет разности давлений; атмосферного и давления в приемной камере. При этом шток 11, связанный с мембраной 6, перекрывает поток инфракрасного излучения между светодиодом и фотодиодом...