Патенты с меткой «резисте»

Номер патента: 1798816

Опубликовано: 28.02.1993

Авторы: Дудчик, Комаров, Константинов, Кумахов, Соловьев, Тишков

МПК: G21K 1/00, H01J 35/00

Метки: микроструктуры, резисте, формирования

...излучения материалом указанного слоя. 1 ил,Система для формирования на резисте структуры дифракционной решетки работает следующим образом,На мишень для генерации рентгеновского излучения направляют пучок электронов 2 (фиг. 1), Мишень выполнены из слоя материала, например меди, который нанесен на подложку шаблона. Излучение выходит из мишени в основном в направлении углов скольжения О) 0 м, где 0 м - критический угол полного внешнего отражения фотонов с энергией и а от границы раздела вакуум-слой материала мишени, Толщина слоя мишени и ее длина 2 выбраны из условия, чтобы излучение, выходящее из ми 1798816равной= б 1/О, т,е, такая, что фотоныиспытывают по крайней мере одно отражение от слоев 5.Максимальное значение толщинышаблона...