Патенты с меткой «распыления»
Устройство для распыления жидкости
Номер патента: 1709634
Опубликовано: 20.04.2000
Авторы: Брагинский, Ильин, Ищук, Сафонов
МПК: B05B 1/30, B05B 15/02
Метки: жидкости, распыления
Устройство для распыления жидкости, содержащее корпус с подводящим патрубком, сопло с калиброванным выпускным отверстием, завихритель, иглу с поршнем и пружинящий элемент, отличающееся тем, что, с целью повышения надежности работы устройства, пружинящий элемент выполнен из эластичного материала в виде втулки с торцовыми фланцами.
Устройство для дозированного распыления аэрозоля
Номер патента: 1164934
Опубликовано: 10.06.2006
Авторы: Анилова, Антипенко, Борисенко, Жданов
МПК: A61L 9/00
Метки: аэрозоля, дозированного, распыления
Устройство для дозированного распыления аэрозоля, содержащее изогнутую трубку, частично заполненную жидкостью и имеющую загнутые вверх концы с последовательно выполненными на них сужениями и расширениями, один из которых служит для подачи избыточного давления, отличающееся тем, что, с целью автоматизации работы, оно снабжено диффузором и источником избыточного давления с блоком программного управления, подсоединенными через обратные клапаны к различным концам изогнутой трубки.
Источник магнетронного распыления ферромагнитных материалов
Номер патента: 1036075
Опубликовано: 27.07.2010
Авторы: Аксенов, Горяев, Симонов, Юрков
МПК: C23C 14/42
Метки: источник, магнетронного, распыления, ферромагнитных
1. Источник магнетронного распыления ферромагнитных материалов, содержащий катод, магнитную систему с полюсными наконечниками и мишень, отличающийся тем, что, с целью упрощения конструкции, в мишени выполнена канавка, расположенная между полюсными наконечниками магнитной системы.2. Источник по п.1, отличающийся тем, что канавка расположена на поверхности мишени, прилегающей к магнитной системе.
Мишень для магнетронного распыления в вакууме
Номер патента: 1580860
Опубликовано: 27.09.2013
Авторы: Гурский, Зеленин, Конюшенко, Корж, Столетов
МПК: C23C 14/32
Метки: вакууме, магнетронного, мишень, распыления
Мишень для магнетронного распыления в вакууме, содержащая диск из распыляемого немагнитного материала с углублениями и концентричные полюсные наконечники, расположенные в углублениях, отличающаяся тем, что, с целью повышения надежности в работе за счет уменьшения деформации мишени при ее разогреве, углубления выполнены с нераспыляемой стороны диска, а полюсные наконечники выполнены из материала, коэффициент линейного расширения которого превышает коэффициент линейного расширения материала диска, и жестко соединены с поверхностью углублений, причем их толщина составляет 0,3-0,5 толщины диска.