Патенты с меткой «поджига»
Способ поджига горючего газа
Номер патента: 1603175
Опубликовано: 30.10.1990
Авторы: Бонч-Бруевич, Доман, Имас, Райхман, Смалиус
МПК: F23N 5/24
Метки: газа, горючего, поджига
...101 вблизи поверхности мишени; Р - длительность импульса облучения; К коэффициент преобразования энергии лазерного излучения в энергию плазмы пробоя (определяется экспериментально, обычно находится в пределах 0,2- 0,6) .Энергия искры должна превышать минимальную энергию воспламенения. 10Интенсивность пробоя воздуха вблизи поверхности мишени, определяющая величину интенсивности излучения лазера, должна быть выше или равна пороговой интенсивности 1 15Пороговую интенсивность пробоя воздуха вблизи мишени определяют как наименьшую интенсивность облучения (при конкретных данных условиях - длине волны лазерного излучения, пят" 20 не облучения, длительности импульса, материале и качестве обработки поверхности), при которой вблизи...
Кинопроекционная установка и устройство поджига ксеноновой лампы
Номер патента: 1795408
Опубликовано: 15.02.1993
МПК: G03B 21/32, H05B 37/00
Метки: кинопроекционная, ксеноновой, лампы, поджига
...и 2, устройство 3 автоматики, блок 4 питания ксеноновых ламп.Каждый кинопроектор включает устройство 5 поджига ксеноновых ламп, освети 50 тель 6 с ксеноновой лампой и переключателем ручного перехода с поста на пост, устройство 7 управления блоком питания ксеноновых ламп.Предлагаемая киноустановка выполнена следующим образом (см.фиг.2),55 получения высоковольтных импульсов с амплитудой, достаточной для пробоя межэлектродного промежутка ксеноновой лампы 35 В устройствах 5 поджига контакты 1 соединены между собой и с контактом "минус" конденсатора С 1 платы А 2 устройства 3 автоматики (рис.2), Контакты 2 соединены между собой и с контактом "плюс" конденсатора С 1 платы А 2 устройства 3 автоматики.Контакт 3 устройства 5 поджига кинопроектора...
Устройство для поджига электроразрядной системы
Номер патента: 1824923
Опубликовано: 10.04.1998
Авторы: Носков, Орликов, Панковец, Шангин
МПК: C23C 14/32
Метки: поджига, системы, электроразрядной
...4 генераторов плазмы подключены к вторичной обмотке импульсного трансформатора 9. Покрытие наносится на подложку 10, размещенную напротив мишени 1, Устройство поджига работает следующим ооразом. При давлении 10-410 Па на мишень 1 поджига относительно анода 3 подается отрицательный потенциал от источника 7 (400 - 800 В), При подаче поджигаюшего импульса на электрод 4 (1 3 кВ) между ним и катодом 5 по поверхности изолятора 6 возникает разряд, сопровождаюшийся повышением давления за счет газоотделения с образованием катодного пятна на поверхности катода. Потоки плазмы паров металлов, образовавшиеся в катодных пятнах п генераторов, где локальное давлеУстройство для поджига электроразрядной системы, содержащее расходуемый...