Устройство для поджига электроразрядной системы

) 04,04.9 элек покр вано иост по расхвающ лаз осно Комитет Российской Федерации по патентам и товарным знакам к авторскому свидетельству(71) Томский институт автоматизированных систем управления и радиоэлектроники(56) Дороднов А,М. и др. Плазменныеметоды генерации ионизированных потоковтугоплавких веществ. - "Источники иускорители плазмы", ХАИ, в.З, 1978, с.74,Сб, "Источники и ускорители плазмы".ХАИ, вып. 3, 1977, с.71, рис.4,38-а,(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДЖИГАЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЙ СИСТЕМЫ(19) Я 3 (1 ц 1824923 (13) А 1 Использование: поджиг разряда в троразрядных системах для нанесения ытий, устройство может быть использов электронной промышленности. Сушь изобретения: повышение стабильности ига достигается размещением несколь- импульсных генераторов плазмы над одуемым катодом - мишенью, обеспечиих взаимодействие встречных сверхзвух потоков импульсной металлической мы и повышение концентрации частиц значения, при которых зажигается вной разряд. 1 ил.1824923 ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ Заказ -.у С Е Подписное ВНИИПИ, Рег, ЛР М 040720 113834, ГСП, Москва, Раушская наб.,4/5Изобретение относится к технике нанесения покрытий и может быть использовано в электронной и приборостроительной промышленности,Целью изобретения является повышение стабильности поджига разряда.На чертеже приведено устройство для поджига разряда,Устройство содержит расходуемую мишень 1 с магнитной системой 2, выполненную в виде диска, установленного соосно с анодом 3, снабженным и + 1 отверстиями с соплами. В отверстиях анода соосно установлены и + 1 дуговых генераторов плазмы паров металла с общим анодом 3, цилиндрических поджигающих электродов 4 и стержневых расходуемых катодов 5, цилиндрических поджигающих электродов 4 и стержневых расходуемых катодов 5, разделенных изолятором б. Мишень 1 относительно заземленного анода 3 подключена к источнику питания через вторичную обмотку импульсного трансформатора 8, поджигаюшие электроды 4 генераторов плазмы подключены к вторичной обмотке импульсного трансформатора 9. Покрытие наносится на подложку 10, размещенную напротив мишени 1, Устройство поджига работает следующим ооразом. При давлении 10-410 Па на мишень 1 поджига относительно анода 3 подается отрицательный потенциал от источника 7 (400 - 800 В), При подаче поджигаюшего импульса на электрод 4 (1 3 кВ) между ним и катодом 5 по поверхности изолятора 6 возникает разряд, сопровождаюшийся повышением давления за счет газоотделения с образованием катодного пятна на поверхности катода. Потоки плазмы паров металлов, образовавшиеся в катодных пятнах п генераторов, где локальное давлеУстройство для поджига электроразрядной системы, содержащее расходуемый катод-мишень, анод и импульсный генератор металлической плазмы, состоящий из расходуемого и поджигаюшего электродов, разделенных изолятором, и размещенный между катодом-мишенью и анодом, отличающееся тем, что, с целью повышения стабильности ние достигает десятков атмосфер, под действием градиента давления формируются в сверхзвуковые потоки, направленные к оси системы параллельно поверхности.Истечение потоков плазмы характеризуется формированием зон уплотнения давления по периферии струи.Зоны уплотнения характеризуются тем, что локальное давление в них превышает давление вне струи в десятки раз. В результате взаимодействия струи внутри анодного кольца формируется цилиндрическая зона уплотнения давления в максимуме магнитного поля. Это способствует зажиганию разряда между мишенью 1 и анодом 3.Таким образом, в результате взаимодействия встречных сверхзвуковых потоков плазма растекается над мишенью 1, повышая давление до значений, при которых между мишенью 1 и анодом 3 зажигается разряд в скрещенных ЕхН полях с катодом падением вблизи поверхности мишени. Ионы из плазмы, ускоренные в катодном падении, интенсивно бомбардируют поверхность мишени 1 и распыляют ее. Распыленные частицы, достигая подложки 10, осаждаются на ней, образуя покрытие.Таким образом, данное устройство поджига повышает стабильность поджига за счет более высокой концентрации заряженных частиц, обусловленное взаимным расположением импульсных дуговых генераторов плазмы и наличия сопел.Дороднов А.М. и др. Плазменные методы генерации ионизированных потоков тугоплавких вешеств. - "Источники и ускорители плазмы", ХАИ, в.3, 1978, с. 74.Сб, "Источники и ускорители плазмы", ХАИ, вып. 3, 1977, с. 171, рис. 4,38-а. поджига разряда электроразрядной системы, оно снабжено дополнительными генераторами плазмы, размещенными в отверстиях анода напротив основных, причем анод выполнен в виде кольца, а каждое отверстие анода снабжено соплом.