Патенты с меткой «плазмотрон»

Номер патента: 1798084

Опубликовано: 28.02.1993

Авторы: Аммосов, Киренский, Ларионов

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...шайб. Такое расположение металлических шайб и изоляционных прокладок уменьшает вероятность образования двойной дуги 1 ил. ота плазмотрона осуществляеТся следующим образом.В камеру 8 плазмотрона подается плазмообразующий газ, а в камеру 9 охлаждающая среда, Затем между неплавящимся электродом 1 и сужающимся соплом 4 возбуждается дуга косвенного действия, которая после ионизации промежутка электрод - разрезаемый металл переходит в режущую плазменную дугу прямого действия. Предложенная изоляция между металлическими шайбами препятствует прохождению электрического тока по телу сопла и образованию двойной дуги дуга - сопло - металл, а для электрического пробоя открытого пространства между металлическими шайбами потребуется дополнительная...

Номер патента: 1798085

Опубликовано: 28.02.1993

Авторы: Бойко, Звягин, Сычев, Тарарыков

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...кольцо - сопловой узел. 40Плазмотрон работает следующим образом.Хладоагент, например воду, для охлаждения корпуса 1 электродного узла и электрода 2 через штуцер 10 подают, а через 45трубку 11 отводят. Для охлаждения корпуса .4 соплового узла и сопла 5 воду подают потрубке 7 крепежного элемента с упругимучастком 6, а отводят по трубке 14 крепежного элемента. Плазмообразующий газ подают по трубке 9 в камеру Д формированияосновной плазменной дуги ОД. К клемме 16"+ВД" подключают,"плюс" вспомогательной дуги, который по канатику 15 подается к соплу 5, а к штуцеру 10 - "минус" источни ка питания, С помощью электрического кабеля к обрабатываемому изделию 17 подключают "плюс" источника питания. С родом 2 и соплом 5, факел последней...

Номер патента: 1814603

Опубликовано: 07.05.1993

Автор: Хорошанский

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...среды перемещается в виде вихря вдоль внутренней поверхности сопла, создавая защитный слой у поверхности от теплового и электрического воздействия, а другая его часть перемещается в противоположную .сторону по внутренней поверхности электрода 1. При этом происходит сепарация хого конца выполнены отверстия для ения. полости электрода с атмосфеи рубашкой охлаждения. Самопроизе удаление из полости электрода тверстия у его глухого конца наибокрученных плазмообразующих вихри одновременном сохранении ого вихревого потока у поверхности ого канала делают поток сжатой редуги более ламинарным и направм, что прйводит к повышению ы разрезаемого металла и увеличеорости резки, 1 ил. плаэмообразующей среды; наиболее закрученные вихри, перемещаясь...

Номер патента: 1815067

Опубликовано: 15.05.1993

Авторы: Петруничев, Пирч, Псарас, Самотугин

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...повышения реализацией в нагреваемом металле сверхплотности тепловой мощности плазмотрона . быстрых процессов закалки с более высоким и скорости охлаждения материала. уровнем твердости, недостижимым при наПоставленная цель достигается тем,.что греве обычными источниками тепла (печконструкция плазмотрона включает сопло с 40 ным, дуговым, токами высокой частоты).входным сужающимся конусным и выходным Выбор указанных интервалов измене- цилиндрическим участками, отношение диа- ния конструктивных параметров плазмотрометра канала к диаметру выходного отвер- на обусловлен следующим. Повышение стия сопла изменяется в пределах соотношения дйс выше верхнего предела б/д=2,0-4,0, а отношение высоты цилинд (бй"4,0) вызовет сильный разогрев...

Номер патента: 1816250

Опубликовано: 15.05.1993

Авторы: Ефименко, Каика, Кузьменков, Ронский, Шинкаренко

МПК: B23K 10/00

Метки: плавящимся, плазменной, плазмотрон, сварки, электродом

...(на черт.не показана) крепится насадка 16 плазмооб 5 разующего сопла 17 и насадка 18 сопла 19. для подачи защитного газа. Подающий ме ханизм плавящегося электрода на чертежене показан, Позицией 20 показан потокплазмообразующего газа, подаваемый во"0 внутрь полого канала 3 трубчатого электрода 2.Позицией 21 показан поток плазмообразующего газа, подаваемый на срез канала3 трубчатого электрода, Позицией 11 обоз 15 начено изделие.. Процесс сварки осуществляется в следующей последовательности.Плавящий электрод 10 поднят иэ плазменной горелки и оставлен в верхней части20 канала 11.Поток плазмообразующего газа 20 подают по каналам 14 и 15 внутрь полого канала 3 трубчатого элекрода 2 под углом кгоризонтальной плоскости (срезу изоляци 25 анной...

Номер патента: 1830323

Опубликовано: 30.07.1993

Авторы: Ларионов, Пыкин, Савиных

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...проходного сечения тракта по его длине. В ГВТ плазмотрона исключены источники вихре- образования - участки резкого изменения площади проходного сечения, являющиеся возбудителем шума, и условия его усиления - камеры-резонаторы,Плазмотрон работает следующим образом. Плазмотрон устанавливается в эксплуатационное положение и в него подается плаэмообразующий газ (ПОГ). Попав в кольцевые каналы, образованные с одной стороны канавками эавихрителя 4, а с другой наружной конической поверхностью 5 катододержателя б, ПОГ беспрепятственно (не встречая на своем пути резких изменений площади проходного сечения) через выходное отверстие сопла 1 выходит наружу.1830323 12 Бнм Фиг, яоставитель Ю, Пыкинехред М.Моргентал Корректор Г. Кос аэ 2512 Тираж...

Номер патента: 1834767

Опубликовано: 15.08.1993

Автор: Кичигин

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...радиальных габаритов плазмотрона.На чертеже схематично представлен искомый плазмотрон.Плазмотрон содержит сопло 1 с боко вым отверстием 2 для подачи плазмообразующего газа, электрод 3 с рабочим концом 4, расположенный в сопле 1 с кольцевым зазором 5, первую б и вторую 7 изолирующие втулки, расположенные между соплом 1 и электродом 3. При этом вторая втулка 7 установлена между наружной поверхностью электрода 3 в области его рабочего конца 4 и внутренней поверхностью сопла 1. На электроде 3 выполнена кольцевая канавка 8, образующая с внутренней поверхностью втулки 7 коллектор, который сообщается с кольцевым зазором 5 посредством пазов 9, На наружной боковой поверхности рабочего конца 4 электрода 3 выполнена одна или несколько винтовых...

Номер патента: 2000183

Опубликовано: 07.09.1993

Автор: Кичигин

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

...при этом дом через соп В 1 и Р 2, котоРы Р 2, При подач электрода на с средоточенндя ную, чем обес надежность пр лы,2 ил,ены с эл,; рзможет пр.выонг ЗДЩИТНОЕ ГОПлп3 через сопро и мвть Од:1 пдкгвувп динены с.век 0 я соответственнооряют условин; Б. СКОГО ПОТС.Н ЦД 1 Д уетс я вт о рд я 0 дг. -ищдющая осн г устойчивпст,работки 2 з и2 Г)ГГ) ) Г 13 ь В. КичигинМоргентал Состави Техред М Корректор Н. Регс еддктор Л. Народ Пг)дписноПГтиэвОЛГтгс";нО ада ГГ.вский комг 1 иат Патг) у;+ горг)д е длины гот)ла 2 нд величиу ), д их электрический потенциал ягЛяется Одинаковымблагодаря их сс)единеник с элекгродом 3еред Общее сопротивление Р 1, ПО второмуварианту (фиг 2) длина сотла 1 равна длин 5соплд 2, но электрический потенциал сопла2 прееып 1 ает...

Номер патента: 639389

Опубликовано: 15.10.1993

Автор: Кузьмин

МПК: H05B 7/18, H05H 1/26

Метки: высокочастотный, плазмотрон

...и приводит кнеобходимости кОнструирования . сложныхводоохлаждаемых камер.Известны также ВЧ-плазмотроны с емкостным разрядом дугового типа, содержащие разрядную камеру и кольцевыеэлектроды, охватывающие концевые участки камеры и подсоединенные к ВЧ генератору.Однако, в цепи питания плазмотронапоявляется реактивная составляющая мощ ности, обусловленная наличием емкости,образованной внешними электродами, Этоухудшает соэт цепи и уменьшает КПД плазмотрона,Целью изобретения является увеличение соэ 1 устройства и повышение КПД ВЧ- плазмотрона, Это достигается тем, что плазмотрон снабжен индуктором, размещенным на камере между электродами и подсоединенным к ВЧ-генератору. На чертеже показано предлагаемое устройство,На разрядной камере 1...

Номер патента: 1519514

Опубликовано: 15.10.1993

Авторы: Горбунов, Смоляков, Фокин

МПК: H05B 7/22

Метки: плазмотрон, сменным, электродом, электродуговой

...рубашки охлаждения анода и подстыковки к технологическому аппарату одним из известных способов производят запуск плазмотрона. Под действием тепловой нагрузки со стороны плазменной струи происходит термическое удлинение анодной втулки. Это удлинение компенсируется упругой деформацией кольцевой пластины 6, поскольку усилие, необходимое для ее осевой деформации, не превосходит усилие, создаваемое пакетами тарельчатых пружин. После выработки ресурса анодной втулки плазмотрон останавливается, отстыковывается от технологического аппарата, в корпус анодной втулки подается давление рабочей жидкости, с анодной втулки Снимается усилие герметизации, после чего возможно открытие замка между анодной втулкой и подвижной гильзой. Вручную или при помощи...

Номер патента: 1419490

Опубликовано: 15.10.1993

Авторы: Аньшаков, Горбунов, Жуков, Старков, Фокин

МПК: H05B 7/22

Метки: линейный, плазмотрон, сменными, электродами, электродуговой

...тепловой и электрический35 контакт, Одновременно за счет деформацииупругого герметизирующего элемента 24уплотняется напорный тракт системы охлаждения. Плазмотрон готов к запуску,Через патрубки 12 анодного и катодного40 узлов подается охлаждающая вода, котораяпоступает в рубашку охлаждения электродной втулки и сбрасывается через каналы 28в полость 29 и на слив. Между катодом 9 ианодом 7 зажигается дуга, В процессе рабо 45 ты происходит эрозионное изнашиваниеэлектродных втулок 7, 9 в зоне привязкидуги. Подбором геометрии материалов электродных втулок, режима работы плазмотрона можно добиться примерно одинакового50 ресурса анодных и катодных втулок. Приодновременной выработке ресурса производится остановка плаэмотрона, прекращается...

Номер патента: 1394579

Опубликовано: 15.09.1994

Автор: Гончаренко

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

1. ПЛАЗМОТРОН, содержащий головку с электроконтактными поверхностями, подводящими каналами с уплотнениями, а также жестко скрепленную с головкой сменную часть с корпусом, изолятором, соплом и электрододержателем с катодом, установленным с возможностью перемещения вдоль оси резака, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности путем улучшения электрического контакта между головкой и сменной частью и исключения шунтирования электрического разряда между соплом и катодом, корпус и электрододержатель выполнены с присоединительными плоскостями, параллельными оси плазмотрона и расположенными на боковых поверхностях, головка резака выполнена в виде двух металлических призм с размещенной между ними пластиной из электроизоляционного...

Номер патента: 1833706

Опубликовано: 20.08.1995

Автор: Ибраев

МПК: H05B 7/20, H05H 1/34

Метки: плазмотрон, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий камеру, два дисковых электрода, установленных на осях с возможностью вращения, патрубки для подачи плазмообразующего газа, отличающийся тем, что по периметру дисковых электродов равномерно установлены пластины из токопроводящего материала, например меди, вольфрама, длина каждой из которых в сумме с радиусом дискового электрода превышает половину расстояния между осями вращения электродов, причем эти пластины расположены в плоскости, перпендикулярной плоскости дисковых электродов и направлению пылегазового потока, а сами электроды размещены на валах осей по скользящей посадке.

Номер патента: 1136735

Опубликовано: 27.08.1995

Автор: Тимошевский

МПК: H05B 7/22, H05H 1/34

Метки: плазмотрон, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий соосно установленные цилиндрический полый глухой катод, на внутренней поверхности которого закреплены радиальные стержневые термохимические эмиссионные вставки, завихритель газа и выходное сопло, отличающийся тем, что, с целью повышения мощности дугового разряда и увеличения срока службы плазматрона, катод состоит по длине из двух участков различного диаметра, причем начальный участок, прилегающий к завихрителю, выполнен диаметром D, в 1,5 2 раза превышающим диаметр d конечного участка, вставки расположены на начальном участке в одной радиальной плоскости и удалены от завихрителя на расстояние, равное 1 1,5 D, длина начального участка выбрана равной 2D, а конечного 1,5d.

Номер патента: 1042586

Опубликовано: 27.08.1995

Авторы: Аньшаков, Жуков, Тимошевский

МПК: B05B 7/22, H05B 7/22

Метки: нанесения, плазмотрон, покрытий, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ, содержащий установленные вдоль продольной оси изолированные друг от друга катод, межэлектродную вставку, кольцевой анод и выходное сопло с радиальным отверстием ввода порошкового материала, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытия путем увеличения равномерности прогрева порошка, выходное сопло выполнено в виде сопла Лаваля, на его внутренней поверхности от входного торца к цилиндрической части выполнены по меньшей мере два равномерно размещенных по окружности сквозных паза, а отверстие ввода порошка расположено между указанными пазами.

Номер патента: 1827155

Опубликовано: 10.11.1995

Автор: Хорошанский

МПК: H05B 7/22

Метки: плазмотрон, электродуговой

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий корпус, в котором соосно установлены сопло, завихритель газа из изоляционного материала, полый глухой цилиндрический электрод и охватывающая его с равномерным зазором токоподводящая спираль, один конец которой электрически соединен с обращенным к соплу открытым торцом электрода, а другой с токоподводом над глухим его торцом, отличающийся тем, что, с целью увеличения ресурса его работы, упомянутая спираль на рабочем участке электрода выполнена с переменным шагом навивки, возрастающим к открытому торцу электрода.

Номер патента: 1620032

Опубликовано: 20.11.1995

Авторы: Балудин, Иохимович, Михайлов, Морозов

МПК: H05B 7/22

Метки: дуги, пароводяной, плазмотрон, стабилизацией, электродуговой

...вьпесни гелем в виде медной п робооки 11, Здесь, протекал через в капиллярные зазоры, вода эффективно охлахдает анод, сама при этом нагревается и плавно без пульсаций испаряется. Образовавшийся в каниах 10 сопла-анода 9 водяной пар поступает далее в каналы 10 а Одно вс аоки й, ь которьх Он прогревается с 110 - 14 Г до 250 - 350"С, охлаждая при этом анодную вставку,После запуска, когда конструкция плазмотрона еще недостаточно хорошо прогрета, образуОщийся влажный пар сбрасывается в атмосферу через дистанци анно управляемый вентиль "В", Плазмотронв это время работает на воздухе, Через 2-3 мин работы плазмотрон оказывается в расчетном тепловом режиме, пар становится сухим перегретым, вентиль "В" закрывается 10 и через вихревую...

Номер патента: 1827154

Опубликовано: 10.12.1995

Автор: Хорошанский

МПК: H05B 7/18

Метки: плазмотрон

ПЛАЗМОТРОН, содержащий корпус с установленными в нем соплом, завихрителем газа из изоляционного материала и опирающимся на него открытой частью глухим полым цилиндрическим электродом, размещенным с зазором внутри токоподводящей спирали, один конец которой соединен с открытой частью электрода, а другой с токоподводом над глухой его частью, отличающийся тем, что, с целью повышения ресурса его работы, часть витков токоподводящей спирали в нерабочей зоне электрода со стороны открытой части навита в противоположном направлении относительно остальных ее витков.

Номер патента: 957744

Опубликовано: 10.02.1996

Авторы: Глуханов, Дашкевич, Захаров, Сукнотова, Эйленкриг

МПК: H05B 7/18, H05H 1/24

Метки: плазмотрон, трансформаторный

ТРАНСФОРМАТОРНЫЙ ПЛАЗМОТРОН, содержащий замкнутый магнитопровод, первичную обмотку с выводами для подключения к источнику переменного напряжения и вторичную обмотку в виде замкнутого тора, служащую разрядной камерой, отличающийся тем, что, с целью повышения стабильности разряда, первичная обмотка выполнена в виде разомкнутого тора, а разрядная камера установлена соосно внутри него.

Номер патента: 1595316

Опубликовано: 20.03.1996

Авторы: Белов, Княжевская, Крупенникова, Лебедева, Манасевич, Портной, Эйленкриг

МПК: H05B 7/18

Метки: анализа, высокочастотный, индукционный, плазмотрон, спектрального

ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ СПЕКТРАЛЬНОГО АНАЛИЗА, содержащий водоохлаждаемую диэлектрическую разрядную камеру, на одном из торцов которой закреплены коллектор с патрубком подачи плазмообразующего газа и введенная внутрь камеры осевая трубка для подачи анализируемого вещества, охватывающий камеру индуктор и расположенное со стороны коллектора кольцо закрутки газа, отличающийся тем, что, с целью повышения точности анализа путем создания устойчивого соосного разрядной камере образования рециркуляции плазмы в зоне индуктора, кольцо закрутки газоплотно установлено в разрядной камере между ее стенкой и осевой трубкой и удалено от индуктора по оси камеры на расстояние H, определяемое из соотношения

Номер патента: 1669382

Опубликовано: 10.12.1996

Авторы: Столяров, Щербаков

МПК: B05B 7/22, H05B 7/22

Метки: плазмотрон, электродуговой

Электродуговой плазмотрон, содержащий внешний цилиндрический электрод с выходным соплом, на обращенных друг к другу торцах которых выполнены стыковочные фланцы, внутренний центральный электрод с электрододержателем и осевым каналом для ввода ионизирующих добавок, кольцевую проставку между внешним электродом и электрододержателем и узел ввода плазмообразующего газа, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности в работе и стабильности выходных параметров плазмотрона, он снабжен дополнительной охлаждаемой кольцевой проставкой, герметично установленной между указанными стыковочными фланцами, причем внутренние поверхности проставок, а также участки сопрягаемых поверхностей проставки и фланцев покрыты жаростойким электроизоляционным...

Номер патента: 944839

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Бондаренко, Коник, Куценко, Печерская, Прошин, Решетько

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

Плазмотрон, содержащий корпус с установленным в нем электродом и закрепленным на нем соплом, на котором установлен насадок с продольными каналами в его стенке, расположенными равномерно по его периметру, отличающийся тем, что, с целью расширения номенклатуры обрабатываемых изделий и упрощения конструкции устройства и технологии его изготовления, каналы в насадке прорезаны на всю толщину стенки, а сопло выполнено с радиальными прорезями, смещенными относительно каналов насадка, при этом насадок выполнен с буртиком для отражения излучения дуги.

Номер патента: 1054974

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Гельтман, Коник, Куценко, Печерская, Прошин, Решетько

МПК: B05B 7/22

Метки: напыления, плазмотрон

1. Плазмотрон для напыления, содержащий корпус, катод, коаксиальный анод с усеченным выходным концом, устройство для газо-, токоподвода и охлаждения и порошковый питатель, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей за счет уменьшения поперечных размеров плазмотрона, порошковый питатель выполнен в виде камеры, концентрично охватывающей анод, в которой установлена эжекторная трубка.2. Плазмотрон по п.1, отличающийся тем, что устройства для газо-, токоподвода и охлаждения выполнены в виде коаксиальных трубопроводов.3. Плазмотрон по п.2, отличающийся тем, что коаксиальные трубопроводы выполнены гибкими.4. Плазмотрон по п.2, отличающийся тем, что...

Номер патента: 921734

Опубликовано: 20.07.1999

Авторы: Бондаренко, Коник, Прошин, Решетько

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

Плазмотрон, содержащий корпус, катод, систему подачи плазмообразующего газа, а также сопло-анод с выходным каналом, расширяющимся к его рабочему торцу, и с профилем в продольном разрезе от выходного канала к торцу, выполненным по плавной кривой, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности труда при обработке изделий с плоской протяженной поверхностью, плавная кривая профиля образована сопряжением двух дуг окружностей, центры которых расположены на образующей кругового цилиндра, соосного с катодом, причем радиус дуги окружности, описывающей профиль у выходного канала, равен 1,5 - 2, радиус дуги окружности, описывающей профиль рабочего торца сопла-анода, равен 30 - 60...

Номер патента: 1204130

Опубликовано: 10.10.1999

Авторы: Данельянц, Джамгаров, Кулешов, Мамолов, Муркин, Новиков, Позняк

МПК: B08B 9/04, B23K 7/06, H05H 1/32 ...

Метки: плазмотрон

Плазмотрон, содержащий корпус с электродами, каналами для подвода плазмообразующего газа и соплом для образования кольцевого потока раскаленного газа, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности работы при огневой обработке полых изделий, в стенках корпуса выполнены сквозные тангенциальные отверстия, сообщенные с каналами для подвода плазмообразующего газа.

Номер патента: 882393

Опубликовано: 27.01.2000

Авторы: Кичигин, Копылов, Тихомиров, Тоболкин

МПК: H05B 7/18, H05H 1/34

Метки: высокочастотный, плазмотрон, факельный

Высокочастотный факельный плазмотрон, содержащий цилиндрический экранирующий кожух с коаксиально расположенным в нем электродом, реактор, пристыкованный к кожуху со стороны рабочего торца электрода, расположенный в кожухе на нерабочем торце электрода завихритель с патрубком ввода газового потока и узел поджига разряда, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей плазмотрона, электрод выполнен из двух коаксиальных труб длиной не менее одного калибра, соединенных между собой со стороны рабочего торца диффузором с углом 30-60o, а с другой стороны - упомянутым завихрителем, внутренний диаметр которого равен внутреннему диаметру внутренней трубы электрода,...

Номер патента: 878173

Опубликовано: 10.02.2000

Авторы: Крохин, Тихомиров, Шумский

МПК: H05B 7/18, H05H 1/24

Метки: вч-факельный, плазмотрон

ВЧ-факельный плазмотрон, содержащий корпус, внутри которого коаксиально с зазором установлена разрядная камера с центральным стержневым электродом, выполненная из кольцевых чередующихся металлических и диэлектрических секций, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД плазмотрона при расширении диапазона регулирования параметров разряда, он снабжен установленными в упомянутом зазоре конденсаторами переменной емкости в количестве, равном количеству металлических секций разрядной камеры, каждый из которых подключен между соответствующей металлической секцией разрядной камеры и корпусом.

Номер патента: 536742

Опубликовано: 10.06.2001

Авторы: Богданов, Гусельников, Доброленский

МПК: B23K 17/00, B23K 9/16

Метки: плазмотрон

Плазмотрон, содержащий корпус с установленными в нем катодным узлом и соплом, выполненным из теплоэлектропроводного материала в виде полого усеченного конуса с цилиндрическим формирующим каналом, расположенным в меньшем основании усеченного конуса, отличающийся тем, что, с целью интенсификации охлаждения и повышения эксплуатационной надежности плазмотрона при увеличенных удельных тепловых потоках на внутреннюю поверхность сопла, отношение диаметра формирующего канала сопла к его высоте составляет 0,8 - 1,0, отношение диаметра формирующего канала сопла к диаметру большего основания усеченного конуса составляет 0,09 - 0,125, а к высоте усеченного конуса составляет 0,1 - 0,175 при отношении...

Номер патента: 1463116

Опубликовано: 10.11.2005

Автор: Игнатьев

МПК: H05H 1/24

Метки: плазмотрон

Плазмотрон, содержащий коаксиально расположенные электроды, подсоединенные к высокочастотному источнику питания, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД путем уменьшения реактивного сопротивления цепи, вторичная обмотка высокочастотного трансформатора источника питания выполнена в виде незамкнутого с внутренней стороны тороида, к незамкнутым сторонам которого через плоские токоподводы подсоединены электроды, а первичная обмотка трансформатора намотана на тороидальный сердечник и расположена внутри объемного витка.

Номер патента: 1466124

Опубликовано: 20.11.2005

Авторы: Бойко, Звягин, Сычев, Тырченков

МПК: B23K 10/00

Метки: плазмотрон

1. Плазмотрон, содержащий корпус, в котором расположен катодный узел с расположенной внутри него трубкой для подачи воздуха, установленный на катодном узле завихритель, каналы которого соединены с полостью катодного узла, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности в условиях значительного удаления плазмотрона от источника питания путем изменения ширины и чистоты реза при неизменной мощности сжатой дуги, он снабжен регулятором расхода воздуха, в корпусе выполнено отверстие для сообщения с атмосферой, соединенное с завихрителем и через полость катодного узла с трубкой для подачи воздуха, а регулятор расположен на корпусе напротив отверстия.2. Плазмотрон по п.1,...