Способ выращивания риса

СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ(56) Авторское свидетельство СССРМ 751349, кл. А 01 6 25/00, 1978.(54) СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ РИСА (57) Изобретение относится к сельскому хозяйству и может быть использовано при возделывании риса в поливной культуре, Цель изобретения - повышение эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и Изобретение относится к сельскому хозяйству, может быть использовано при возделывании риса в поливной, культуре иявляется усовершенствованием способа вы- .ращивания риса по основному авт, св. М751349.Известный способ выращивания рисазаключается в том, что поверхность почвызатопляют водой, в почву и воду устанавливают электроды и. начиная с фазы кущения,подают на них разность электрических по.тенциалов; плюс - на воду, минус - .на почву,с таким расчетом, чтобы разность потенци, алов между почвой и водой в любой точкерисового поля не превышала 2-6 В,Недостатком известного способа является его низкая эффективность, связанная Ы,1711723 А 2(я)5 А 01 6 25/00, А 01 В 79/00,А 01 6 16/00 трудозатрат, При строительстве или реконструкции рисовой оросительной системы проводят рыхление поверхности почвы на глубину закладки электродов, наносят на разрыхленный слой токопроводящий материал (в объеме 0,150 к объему почвенного слоя), подают воду до полного насыщения разрыхленного почвенного слоя и под слоем воды проводят фреэерование почвенного слоя до образования гидросмеси. После образования токопроводящего слоя гидро- смесь отстаивают, осветленную воду сбрасывают, а в токопроводящем слое размещают электроды. Напряжение электрического поля составляет 4-6 В, количество электродов уменьшается по сравнению с известным способом (без создания токопроводящего слоя) в два раза, что обуславливает и сокращение трудозатрат на эту же величину, 3 ил; со сложностью создания равномерного электрического поля в узконормируемом диапазоне разности потенциалов, что вызывает необходимость укладки в почвенный слой густой сети электродов.Цель изобретения - повышение эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и трудозатрат,Поставленная цель достигается тем, что в известном способе выращивания риса предварительно перед установкой электродов проводят рыхление почвенного слоя на глубину их закладки и на поверхность поля наносят диспергированный токопроводящий материал, после чего под слоем воды проводят фрезерование почвы до образования гидросмеси с последующим отстаиванием и сбросом осветленной воды, а в образованный токопроаодящий слой устанавливают электроды;Отличительными признаками от основного изобретения являются следующие. 5 Предварительно перед установкой электродов проводят рыхление почвенного слоя на глубину их закладки, Предварительно перед установкой электродов на доверхность поля наносят диспергированный токопроводя щий материал, после чего под слоем воды проводят фрезерование почвы, Проводят фрезерование почвы до образования гидро- смеси с последующим отстаиванием и сбросом осветленной воды, В образованный 15 токопроводящий слой устанавливают электроды.Наличие отличительных признаков е предлагаемом техническом решении позволяет получить следующий положительный 20 эффект: упрощается создание равномерного электрического поля в диапазоне 4-6 В, уменьшается более чем в два раза количество электродов, устанавливаемых в почвен- .ном слое, так как электрическое сопро тивление токопроводяаего слоя значительно меньше сопротивления почвы, при этом напряжение источника питания не превышает 6 В.Отличительные признаки предлагаемо- ЗО го объекта не обладают функциональной самостоятельностью, так как функцией является образовать токопроводящий слой под пахотным горизонтом с подводом к нему электрического питания посредством ус тановленных в этом слое электродов. Указанная функция выполняется только при наличии всей совокупности отличительных признаков и только в этом случае достигается поставленная цель, 40На чертежах изображены поперечные профили чека рисовой оросительной системы на различных стадиях осуществления способа. На Фиг.1 изображено нанесение токопроводящего материала на поверх ность разрыхленного слоя почвы; на фиг.2 - проведение фреэерования почвенногослоя под слоем воды и образование токовроводяаего слоя; на Фиг.З - закладка электродов и заполнение чека водой после посадки ри са.На чертежах обозначены слои почвы 1 и воды 2, электроды 3, устанавливаемые в слой почвы 1, объединенные изолированным выводом 4, подсоединенным к источни ку 5 питания, электрода 6, устанавливаемые в слой воды 2, обьединенные изолированным выводом 4, также подсоединенные кисточнику 5 питания, разрыхленный слой 7 почвы 1 с нанесенным на него диспергированным токопроводящим материалом 8, гидросмесь 9, образующаяся после фрезерования разрыхленного слоя 7 почвы 1 под слоем воды, токопроводящий слой 10, образующийся в процессе фрезерования и отстаивания гидросмеси 9, защитная стенка 11, устанавливаемая до фрезерования почвенного слоя для предотвращения попадания гидросмеси 9 в канал. Пунктиром показана глубина рыхления почвы 1, соответствующая глубине фрезерования и глубине установки электродов 3,Способ осуществляют следующим образом.При строительстве или реконструкции рисовой оросительной системы проводят выравнивание поверхности, например, с помощью скрепера и рыхление почвы 1 на глубину предполагаемой закладки электродов (показано пунктиром), На поверхность разрыхленного почвенного слоя 7 наносят диспергированный токопроводящий материал 8, например отходы абразивной обработки металлических изделий; в обьеме, например, 0,15 к объему почвенного слоя 7 (фиг,1), Доза внесения токопровоуящего материала при этом составляет 4,5 м /га. На поверхность подают воду из канала оросителяобеспечивая полное водонасыщение разрыхленного почвенного слоя 7, устанавливают защитную стенку 11, предотврааающую попадание гидросмеси в канал, и проводят его фрезерование, например, с помощью фрезы ФБН,8 под слоем воды по известной технологии. Фрезерование почвенного слоя 7 проводят до образования гидросмеси 9 (фиг,2). При этом за счет того, что плотность токопроводящего материала, например алюминия 2,7 г/см, стали 7,83гам, а плотность гидросмеси 1,20-1,30 г/см и размера частиц токопроводящего материала не меньше размельченньи частиц почвы гидросмеси 9 при фреэеровании слоя почвы 7, они имеет большую гидравлическую крупность, скорость оседания и, следовательно, концентрируются в нижней части слоя гидросмеси 9, образуя токопроводящий экрай Ю (Фиг.З) мощность 3-5 свк Концентрация" токопроводяаого материала в экране 10 составляет 1,6-1,5. Исследования показали, что при такойконцентрации токопроводяаего материала (алюминиевые опилки) электрическое сопротивлеиие по сравнению с чистой почвой при естественной влажности снижается на 40- 60. Дальнейаее увеличение концентрации (в оп ы тан до 80 ) не дает существенного снижения электрического сопротивления, После образования токопроводяаего экрана 10 гидросмесь 9 отстаивается избыточная вода по мере ее осветления сбрасывается в канал-ороситель. До залива почвы 1 слоем воды 2 производят закладку электродов 3 токопроводящий слой 10, например, с помощью электрозаделывающего агрегата, обеспечивающего размотку проволоки с катушки и подачу через отверстие в лапе-рыхлителе на заданную глубину(фиг.3). В токопроводящем слое их располагают на расстоянии 12-16 м друг от друга. поскольку при внесении, например, 0,15 к объему почвы 1 металлических опилок удельное электрическое сопротивление образующегося токопроводящего слоя 10 по сравнению с сопротивлением почвы уменьшается примерно в два раза, напряжение источника 5 питания поддерживают на уровне не более 6 8. После закладки электродов 3 их объединяют общим изолированным выводом 4 и выводят к источнику 5 питания. Электроды 6, размещаемые на поверхности почвы 1, устанавливают одновременно с посадкой семян. Для этого на сеялке закрепляют катушку с электропроводом, При движении сеялки провод разматывается с катушки и укладывается на поверхность рисового поля. Укладке электродов 6 производится в промежутках между электродами 3, уложенными втокопроводящем блоке 10. От поверхностных электродов 6 также делают вывод 4 к источнику 5 питания. Ток на электроды: плюс - на воду, минус - на почву, подают, начиная с фазы кущения растений. До куще ния режим орошения обычный, после начала злектростимулирования уровень поливной воды можно без ущерба для урожая снизить вдвое.5 Экономический эффект предлагаемоготехнического решения достигается за счет сокращения расхода электроэнергии, так как образуемый токопроводящий слой позволяет поддерживать напряжение не выше 10 6 В. При этом обеспечивается создание более равномерного электрического поля, Кроме того, вдвое уменьшается длина электродов. Образование токопроводящего экрана наиболее эффективно при необходи мости одновременного проведения планировки, например, с использованием способа планировки поверхности поля мелиоративной системы. 20 Формула изобретения Способ выращивания риса по авт. св. ЬЬ751349, отл и ч а ю щи йс ятем, что, с целью повышения эффективности за счет снижения затрат электроэнергии и трудозатрат, 25 предварительно перед установкой электродов проводят рыхление почвенного слоя на глубину их закладки и на поверхность поля наносят диспергированный токопроводящий материал, после чего под слоем воды 30 проводят фрезерование почвы до образова- .ния гидросмеси с последующим отстаиванием и сбросом осветленной воды. а в образованный токопроводящий слой устанавливают электроды.351711723 еда кто ям при ГКНТ СССР Производстве Заказ 476 ВНИИ.Кобылянская Техред ММаргентал Корректор В.Гирняк Тираж Подписноеударственного комитета по изобретениям и откры 113036, Москва, Ж. Раушская наб 4/5 ательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101