Способ формирования изображения на подложке с фоторезистором
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1246764
Авторы: Кизилов, Курмачев, Мартыненко, Рубцов, Цветков
Текст
СОЮЭ СОВЕТСНИХСОЦИАЛИСТИЧЕСНИХРЕСПУБЛИН 6764 А 03 Р 726 ДАРСТВЕНН ЕЛАМ ИЭОБ ТЕН ТОР езиста чере а ю щ и йрасширения тех ностей способа мещаемости фото изгиб осуществл совпадающей с о тошаблона. ов и В.П.Мари,отличаюзгибающие наиэгибе прикавлении,.отличаюэгибающие наг" изгибе прикланых направлеСпй с и п.1,что истнои тем, совм одном об по теи,груэки прладывают3, Спощ и й с я е 2чтотномполо ри совм в проти дыв аю ях ЫЙ НОМИТЕТ СССРРЕТЕНИЙ И ОТНРМТЮ САНИЕ ИЭ т евидтттпьств(56) Авторское свидетельство СССРВ 577506, кл. С 06 Г 7/26,.1977.Авторское свидетельство СССРВ 965244, кл. С 03 Р 726, 1980(54)(57) .СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ НА ПОДЙОЖКЕ С ФОТОРЕЗИСТОИ,включающий совмещение и прижим пряьюугольного фотошаблона к подлоаке,коррекцию искажений рисунк 4 фотошаблона путем его совместного изгибас подлоакой и экспонирование фотофотошаблон, о т л итем, что, с цель ологических воэмозэа счет улучшения с шаблона, совместный яют относительно ос дной иэ диагоналей2 36 35 46 Изобретение относится к областимикроэлектроники и может быть использовано на операциях фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов и интеГральных микросхем.Целью изобретения является расширение технологических возможностей способа за счет улучшения совмещаемости фотошаблона.На фиг.1, 2 показаны возможныеискажения рисунка фотошаблона; нафиг.З, 4 - исходное состояние прямоугольного фотошаблона и подложки перед совместным изгибом; на фиг.5, 6 варианты совместного изгиба фотошаблона и подложки; на фиг.7, 8 иэображение на подложке рисунка фотошаблона после проведенной коррекции,Рисунокфотошаблона 2 можетиметь нарушения ортогональности ко-ординатной системы (фиг.1) (и 3 - уголнеортогональности) или ее искажениятипа "трапеция" (фиг.2) (- уголмежду высотой и стороной трапеции)Искажения первого вида могут появляться нэ-за иеортогональности перемещений кареток кобрдинатного столафотоповторителя при мультиплицированни иэобрайения, искажения второговида " это температурные деформации ,фотошаблоиа 2 или дифракционных ре-,шеток датчиков перемещений стола фотоповторителя.,Величины углов д и ф, характе"риэующие соответственно неортогонапькость и трапециевидность рисунка 1,могут составлять +(1,3 1,7) 10, рад,что на расстоянии ЗО мм от центрафотошаблона 2 вызывает смещения элементов относительно номинально 1 о положения +(0,4,.0,6) мкмП р и м е р. После выявления искажений с помощью компаратора прямоугольный фотошаблон 2 прижимают кподложке 3, (фнг.З, 4) и совместноизгибавт до положения коррекции при закреплении двух углов,.расположенных на одной из. диагоналей прямо"угольных пластин (фнг,5, 6), а затем проводят экспонирование фоторезиста актииичным излучением. Прн совместном изгибе пластин их контактирующие слои деформируются, что приводитк смещениям элементов рисункафото- шаблона 2 Р 1 и О 1, вдоль координатных направлепнй. Х и У , пропорциональным расстояниям - и Ь отэтих элементов до диагонали, относи"тельно которой изгибают прямоугольныепластины. Возникающие смещения яропорциональны также расстояниям от измеряемых элементов до этой диагоналив направлении, ортогональном смеще"ниям, те. РА -1 пМи Р 1. - .Ю,ц, 4, 1Величина прогиба угловых участков пластин (2-6 мкм) при коррекции искажений рассчитывается, исходя из величины компенсируемых погрешностейо 3 Ь, оЗ или Р, РЬ вызываемых этими искажениями, с учетом условий закрепления фотошаблона 2 и подложки 3 и их толщин или подбирается экспериментально пробнымн фотолитографиямиПри коррекции неортогональности рисункафотошаблона 2 деформирующую нагрузку прикладывают к участкам прямоугольной подложки 3, располо- женным по обе стороны от диагонали, соединяющей углы их закрепления, в одном направлении (фиг,5), при коррекции трапециевидности - в противоположных направлениях (фиг.6). В ре эультате иэображения фотошаблона 2 воспроизводятся на подложках 3 без искажений (фиг.7, 8).Прн необходимости, например, в случае существенного различия вели" чнн д илидля деформируемых .участков фотошаблона 2 к его угловым участкам при коррекции прикладывают неодинаковые нагрузки.Тираж 294 ПодписиоИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий13035, Иосква, Ж, Раущская наб., д. 4/5мюе зводственно-полиграфическое предприятие,г.ужгород,ул.Проектная
СмотретьЗаявка
3724583, 10.04.1984
МВТУ ИМ. Н. Э. БАУМАНА, ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-3562
ЦВЕТКОВ Ю. Б, РУБЦОВ И. Н, КУРМАЧЕВ В. А, КИЗИЛОВ А. Н, МАРТЫНЕНКО В. П
МПК / Метки
МПК: G03F 7/26
Метки: изображения, подложке, формирования, фоторезистором
Опубликовано: 15.04.1991
Код ссылки
<a href="https://patents.su/4-1246764-sposob-formirovaniya-izobrazheniya-na-podlozhke-s-fotorezistorom.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ формирования изображения на подложке с фоторезистором</a>
Предыдущий патент: Устройство для очистки поверхностей нагрева волновым воздействием рабочей среды
Следующий патент: Способ вакуумной лиофильной сушки суспензий микроорганизмов
Случайный патент: 362340