Способ изготовления рельефных моделей карт

(54) СПОС ЗГОТОВЛЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ МОДЕЛЕЙ КАР 5уцени пуейся ком: отовпения прямыхмоделей карт с ные маски гофа Г 23 .Недостатк неэ кономично есъемным слоем Изобретение относится к области картографии и может быть использовано при изготовлении. рельефных карт местности.Известен способ изготовления рельефных моделей карт, при котором псц ают отдельные гипсометрические ст тем последовательного экспониро слоев жидкой фотополимеризуюш позиции (ЖФПК) через маски с последующим их монтированием и склеиванием на подложке 111, .0Известен способ изгступенчатых рельефныхиспользованием ЖФПК, принцип патучения которых заключается в последовательном15 наращивании гипсометрических ступеней моделей друг на друга путем копировающ каждой последуюшей ступени на предыду-щую, используя для этих целей негативризонтальных сечений релье.20 данного способа является асходование пластика со в силу необходимости изготовпения большого количества масок гипсослоев (по количеству высотных сту пеней - примерно 15-20 шт), а также большоерасходование ЖФПК, так как изготавливаемая модель представляет собой монолит из отвержденного фотополимера.Кроме того, рельефная модель, изготовленная на основе предлагаемой в способе ЖФПК, не обладает достаточной гутя термовакуумного формования рельефных карт твердостью и термостойкостью, в связи с чем предполагает дополнительные затраты времени и материалов на изготовление гипсовой матрицы,Иель изобретения -повышение экономичности процесса за счет сокращения расходования пластика со съемным слоем и жидкой фотополимеризуюшейся композиции, а, также обеспечение возможности непосредственно термовакуумного формования тиража карт по созданной модели без изготовления по ней гипсовой матрицьУказанная цель достигается тем, что в способе изготовления рельефных моделей карт, включающем последовательноенаращивание слоев из фотополимеризуюшейся композиции, отверждаемых путемэкспонирования ультрафиолетовыми лучами через негативную маску из пластикасо съемным маскирующим слоем очередного горизонтального сечения рельефаместности, используют маску из двухлистов пластика со съемным маскирующим слоем и подслоем, при этом перед 1 Окаждым экспонированием на первом лис.те пластика удаляют очередной маскирующий слой по изображению нечетной горнезонтали, а на втором листе - четной, причем экспонирование слоев осуществляютпоочередно через первый и второй листыпластика маски с защитным закрашиваниемоткопированных участков на подсдое.На чертеже изображено устройство ддяосуществления предлагаемого способа,Операции предлагаемого способа осущестияют в следующей последовательности,На одном листе пластика со съемнымслоем производят прорезание маскирующего слоя по следу изображения всехнечетных горизонталей, например первой,третьей, пятой и т.д., на другом - четных, Кроме того, на пластиках прорезают и убирают полосы съемного слоя шириной 2-2,5 мм по линии сторон рамки,а также тальвегов, при этом обеспечивают точное совмещение прорезаемых полос на обоих пластиках.Изготовление рельефаой модели производится в специальной кювете 1, днокоторой составляет прозрачная пленка 2.,Пля получения модели кспользуютЖФПК, обладающую после фотоотверждениядостаточно высокой твердостью и термостойкостью, что необходимо ддя обеспечения в последующем возможности не;посредственного термовакуумного формования по изготовленной модели рельефныхкарт без изготовления гипсовой матрицы.Ддя этих целей используют ЖФПК, например, на основе олигоуретанакрилатовОУА-Ш нли ОУА-ТМ, твердость запопимеризованного слоя которого составляет80-1000 по Шору и термостойкость бо 50лее +180 С,Указанную ЖФПК 3 заливают в кювету 1, На прикладное стекло 4 со штифтами 5, обеспечивающих точное совмещение масок во время копирования, укдадывают и закрепляют первый пластик, 55со съемным слоем 6 с прорезанным иудаленным на нем маскирующим слоеммежду первой и третьей горизонталями. 3 918966 .4Прикладное стекло с установленной маской поднимают до упора с бортами кюветы и выравнивают прозрачную пленку 2, Между прозрачной пленкой 2, обладающей антиадгезионными свойствами к отверждаемому фотополимеру, и основанием модели 7, обладающим адгезионными свойствами, устанавливают зазор, равный выбранной высоте гипсометрической ступени, который заполняет жидкая фотополимеризующая композиция 3. Производят экспонирование, в результате которого фото- полимер 8, расположенный над прозрачными участками маски, отверждается. В качестве источника 9 света используют пампы ультрафиолетового освещения,После первого экспонирования основание модели 7 с закрепившимся на нем первым слоем 8 поднимают на высоту ступени, при этом происходит отделение заподимеризованного слоя от прозрачной пленки 2 и в образующееся пространство затекает жидкая фотополимеризующаяся комйозиция. После замены первого листа пластика на второй, на котором прорезан и удален съемный слой между второй и четвертой горизонталями, пройзводят второе экспонирование. Вновь откопированный слой прочно закрепляется на предыдущем спое с перекрытием, соответствующим расстоянию между второй и третьей горизонталями.После этюго на пластиках производятзакрашивание уже откопированных участков, не защищенных маскирующим слоем, Для этого используют насыщенный водный раствор красного или черного красителей.Краситель наносят .вручную с помощью тампона или кисти. При этом подслой, находящийся под маскирующей пленкой, не окрашивается, а окрашиваются лишь открытые участки. Полосы по линии. тальвегов и сторонам рамок, есди они не совпадают с участками, соответственно, на первой маске -.между первой и третьей горизонталями, а на второй маске - между второй и четвертой горизонталями, окрашивать не нужно.После окрашивания вышеуказанныхучастков на первой маске снимают съемный слой между третьей и пятой горизонталями, а на второй маске - между чеч вертой и шестой. Следующие копирования осуществляют поочередно через первую, а затем через вторую маски. Весь цикл операций повторяется до тех пор, пока на масках будут сняты все слои.В результате получают полую ступеччатую модель рельефа, у которой соседО ставитель Г, Самбикинаехред Е.Харитончик Корректор О Редакт 474 ПодписноеГосударственного комитета СССРделам изобретений и открытий, Москва, Ж, Раушская наб., д. Тираж 146/33ВНИИ 5 пиал ППП фПатентф, г, Ужгород, ул, Проектная, 4 5 9189 ние ступени перекрываются между собой на велИчину, равную расстоянию между горизонталями. Модель отделяют от подложкй, после чего с нее удаляют остатки жидкой фотополимеризующейся композиции Б ватным тампоном, смоченным в растворитепях (спирте или их смеси),Сглаживание ступенчатой модели рельефа, с целью придания ей естественных форм, производят, например, нанесением 10 на нее специальной пасты, состоящей из. фотополимеризуюшейся композиции, в которую для увеличения вязкости, необходимой для предотвращения стекания полимера с модели, добавляется наполнитель, 15 аэросил. После сглаживания ступеней мо дели пастой производят копирование под осветителем до ее полного отверждения;Использование предлагаемого способа изготовления рельефных моделей карт по зволяет сократить расходование пластика со съемным слоем в 7-10 раз, жидкой фотополимеризующейся композиции в 2- 3 раза. При использовании для изготовления модели ЖфПК на основе олигоуре- д танакрилатов формование рельефных картможет осуществляться непосредственно по этой модели, что,исюпочает операцию изготовления гипсовой матрицы, в результате чего дополнительно экономится вре- ЗО мя и материалы. 66 6 формула изобретения Способ изготовления рельефных моделей карт, включающий последовательное наращивание слоев из жидкой фотополимеризующейся композиции, отверждаемых путем экспонирования ультрафиолетовыми лучами через негативную маску изпластика со съемным маскирующим слоем очередного горизонтального сечения рельефа местности, отл ич ающи йс я тем, что, с целью повышения экономичности процесса, используют маску из двух листов пластика со съемным маскирующим споем и подслоем, при этом перед каждым экспонированием на первом листе пластика удаляют очередной маскирующий слой по изображению нечетной горизонтали, а на втором листе -четной, причем экспонирование споев осуществляют поочередно через первый и второй листы пластика маски с защитным закрашиванием откопированных участков. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР Мо 451123, кл, 09 В 25/06, 1973,2. Авторское свидетельство СССР Ло 688917, кл, 609 В 25/06, 1979