Радиоционная установка для нагрева заготовок

О П И С А Н И Й Союз Советских Социалистических Республик(51) М, Кл Р 27 В 9/3 инением заявкис и С 21 0 Государственный коцит Совета Министров СГС по делам изобретений н открытий(45) Дата опубликования описания 1 ч.отав 53) УДК 621.78 ,223 (088.8) В, П. Хабаров и А, А. Скворцов 72) Авторы изобретени орьковский политехнический институ им. А. А, Жданова 71) Заявител(54) РАДИАЦИОННАЯ УСТАНОВЗА ГОТОВО К НАГРЕВ Изобретение относится к области машиностроения и может быть применено для нагрева штучных заготовок, в частности при производстве крепежа из жаропрочных сталей и титановых сплавов методом тепловой или горячей высадки при повторных технологических операциях.Известна радиационная установка для нагрева заготовок, в корпусе которой расположен рефлектор, состоящий из блоков, имеющих отражательную поверхность в виде эллиптических цилиндров, в фокусах которых расположены инфракрасные лампы, фокальные оси ламп совпадают. Блоки рефлектора смонтированы по незамкнутому контуру камеры таким образом, что они образуют шелевой разъем по всей длине камеры или части ее, расположенный в зоне фокальной оси эллиптических поверхностей, а направляющие заготовок расположены вдоль щелевого разъема и выполнены в виде установленных под углом к фокальной оси камеры регулируемых вибропластин для обеспечения поступательного и вращательного движения заготовок.Недостатком этой радиационной установки для нагрева заготовок является то, что в ней отсутствует защита зеркально-отражаюших поверхностей рефлекторов и обоих торцовых плоских отражателей от попадания продуктов сгорания (дыма, пыли, копоти), а также конденсации влаги.Известная установка не предусматривает возможности изменения, при необходимости, спектрального состава и величины проходящего потока лучистой энергии в зависимости от нагреваемого материала и состояния его поверхности.Известна также радиационная установка для нагрева заготовок, в корпусе которой расположен рефлектор с установленными в его верхнем ф кусе инфракрасными лампааи, а в нижнем фокусе-направляющей для перемещения изделий, и размещенная между фокусами экранируюшая кварцевая пластина 1 .Однако в этой установке невозможно провести местный нагрев заготовки из-за дефокусированного излучения, так как экранирующая пластина предназначена для сведения к минимуму концентрации лучистой энергии, исходящей от ламп.Цель изобретения - повышение эффективности местного прогрева заготовок.Поставленная цель достигается выполнением экранируюшей кварцевой пластиныс двустороцн:1 м диэлектрическим покрьтисм ИЗ ОКЦС 1 РОй ПЛЕНКИ.На фиг.изображена радиационная установка для нагрева заготовок, общий вид с частичным разрезом; ца фцг. 2 разрез 5 А А фиг. 1; на фиг. 3 - частный случай применения радиационной установки для методического дгрева штучных заготовок.В корпусе 1 установки расположен рефлектор 2, вы,1 олненный из блоков 3 с внутренними поли, ованными зеркально-отража 1 ощими поверхностями в виде эллиптических цилиндров, образующих нагревательную камеру.В фокусе рефлектора 2 расположены кварцевые инфракрасные лампы накалива ния 4, Нагревательная камера рефлектора 2 с торцов закрыта фланцами 5 и крышками 6. Внутренняя поверхность фланцев 5 является плоским отражатечем 7. Флаццы 5 и крышки 6 имеют отверстия 8 для контактов и фиксации ламп 4.В зоне фокальцой оси 9 эллиптических поверхностей рефлектора корпус 1 имеет гцелевидный разъем 10. В камере рефлектора 2, выше фокальной осц 9, вдоль щелевого разъема 10 и перпендикулярно вертикальной оси корпуса 1, в пазах ца внутренней поверхности эллиптических циляндров смонтирована экрацирующая сменная кварцевая пластина 11 с двусторонним диэлектрическим покрытием 12 из ок: ой пленки, например ДвУокиси титана Т 10 г, фильтРУ 1 ощаЯ пРо- ЗО ходящее через цее инфракрасное излучение. Покрыпгие изготовлено таким образом, что первый мдксР 1 ммм отр 11 жсци 51 прР 1 ходР 1 тс 51 цд длину волн г. = 1,2 мк, д первый минитм на г, =- 0,58 мк. Данное двустороннее диэлектрическое окрытис обладает отражательной способцостгяо для ближнего инфракрасного излучения около 40 гго при ите.гральной отражгтс,гигой сцосооцости в видимой области 8, В разьсмс находятся две направляюис 13, в которых расцоло жены заготовки 14.Для отвода тепла от блоков 3, фланцев 5, контактов ламп 4 и направляющих 13 установка имеет систему водяного охлаждения 15.Радиационная установка снабжена элскт ромагнитом 16, наклонным лотком 17 для заготовок 14, бункерным устройством 18, фот(элокри 11 сск 1 м или др 1 ГРы ци 1)Омст 1 нм 9, тиристорцоР системой автоматического или ручного управления 20, црерывателем 21, пружинами 22.Установка работает следугощим образом.Очищенные от загрязнения заготовки 14 с помогцью буцкерного устройства 18 и наклонного лотка 17 поступают на вибронаправляющие 13. Электромагнит 16 через прерыватель 21 и пружины 22 приводит цаправлягощие 13 в колебательное движение, тем самым осуществляя продвижение заготовок 14 по направляющим в зону нагрева и вра. шение их вокруг своей оси.Поток инфракрасного излучения (стрелками на фиг. 2 показано направление светового потока), проходя через экранирующуго кварцевую пластину 11 с двусторонним диэлектрическим покрытием 12, фильтруется и падает на заготовки, нагревая их.Температура выходяцей нагретой заготовки 14 контролируется пирометром 19.При отклонении температуры заготовки 14 от заданной пиромстр 19 даст команду на повышение или понижение температуры, в зависимости от знака отклонения ее, путем увеличения или ухеньнц ния угла открытия тиристоров 20.Данное изобретение позволяет осуществлять местный ндгрсв штучных заготовок, регулирование величинь и границ прохождения лучистого потока, увеличивает КПД.фоР,РгУла ггзобг 1 гг енгглРадиационная установка д,я цдгрева заготовок, содеркагцая корпус, в котором расположсрефлектор с установленными в его верхнем фокусе инфракрасными лампами, а в зоне нижнео фокуса - нацрдвляюгцей для ггеремещсия изделий, и размещенную между фокусами экранирующую кварцевую пластину, о 1 личагоагггяс тем, что, с целью ОВЫНсцця ЭффЕК 1 ИВНОСтИ МЕСТНОГО црОГрЕ- ва заготовок, экранирук 1 щая кварцевая пластина выполнена с двусторонним диэлектрическим покрытием из окисной пленки.Истоники информации, принятые во внимдцис при экспертизе:618 б 17 гю авитель Н узовкина кред О. Луговаяраж 767 ЦНИ 11 ПИ Государственного ком по делам изобрет 113035, Москва, Ж.35, тета Совета Министров СССний и открытийРаушская наб., д. 45Ужгород, ул. Проектная, 4 1 Патент, г лиал П сдактор Ж. Рожкоаказ 4244/34 Корректор М. ДемцикПодписное