Установка для термокомпрессионной сватрюг”

О П И С А Н И Е 343323ИЗОБРЕТЕНИЯИ АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республикетельствавт. св ависимое Кл Н 011 768 аявлено 17.1 тт.1970 ( 1431585/26-2 присоединением заявкиПриоритетОпубликованоДата опублико Комитет по делам изобретений и открыти при Соеете Уинистрае СССРЗаявител ЛЯ ТЕРМОКОМПРЕССИОННОЙ СВАРКИ СТАНО Изобретение относится к технологическому оборудованию для производства полупроводниковых приборов и может быть использовано на предприятиях полупроводниковой промышленности для присоединения кристаллов к держателям.В полупроводниковой промышленности для крепления кристалла к держателю широко применяется пайка, Однако пайка не удовлетворяет требованиям по уменьшению теплового сопротивления в зоне перехода от кристалла к держателю, Известно, что в целях уменьшения теплового сопротивления производят крепление кристалла к держателю с использованием ультразвука, Для этого требуются специальные сложные установки.Цель изобретения - создание установки, позволяющей производить присоединение кристалла к держателю методом термокомпрессии, когда адгезия основного материала кристалла с держателем происходит по всей прилегающей плоскости без промежуточного слоя припоя, т. е. создаются условия, при которых тепловое сопротивление минимально.Для этого в предлагаемой установке для термокомпрессионной сварки применен прижимной механизм качающегося типа, в котором расстояние от точки качания до плоскости контакта кристалла с держателем не более удвоенного размера стороны привариваемого кристалла. Это обеспечивает прилегание соединяемых деталей по всей плоскостии позволяет получить плоскостную термокомпрессию.5 На фиг, 1 показана предлагаемая установка, общий вид; на фиг. 2, 3 - варианты конструкций прижимного механизма.Установка для термокомпрессионной сварки содержит столик с микроманипулятором 1,о посредством которого осуществляется точнаяподводка соединяемых деталей к рабочемуместу. Электрический нагреватель 2 с температурой нагрева 350 в 4 С, с обдувом инертным грузом и имеющий специальное гнездо5 для укладки соединяемых деталей; станину сподъемным механизмом 3 для подъема иопускания системы ползунов 4, которые обеспечивают направление прижимного устройства б и посредством регулирующей пружиныО б создают необходимое прижимное усилие дляобеспечения термокомпрессионной сварки.Кроме того, установка содержит стойку 7 смеханизмом наводки оптической системымикроскопа и стабилизированный блок пита 5 ния (не показан),Прижимное устройство (фиг. 2) состоит изкорпуса 8, на рабочем конце которого установлен шарик 9 с сошлифованной контактнойплоскостью. Шарик 9 имеет свободное качаО ние вокруг своего центра. Такое исполнениеприменяется для крепления кристаллов малых площадей, например, размером 0,25( ;(0,25 мл,Прижимное устройство другой конструкции (фиг. 3) состоит из корпуса 10 с штифтом 11, который своим закругленным острием упирается во внутреннюю поверхность качающегося прижима 12. Прижим 12 также имеет площадку для прижатия соединяемых деталей, Такая конструкция применяется для крепления кристаллов больших размеров, например, 1(1 мм и выше. В обеих конструкциях прижимного устройства расстояние 5 от геометрического центра шарика 9 до его контактной площадки или от контактной площадки прижима 12 до его внутренней сферической поверхности не более удвоенного размера стороны привариваемого кристалла,Свободное качание прижима компенсирует возникающие механические перекосы и создает условия, при которых вектор прижимного усилия направлен точно перпендикулярно к плоскости контакта соединяемых деталей. При этом вектор силы не выходит за их пределы. Это является основным условием для получения плоскостной термокомпрессионнойсварки,Предмет изобретения 51. Установка для термокомпрессионнойсварки полупроводникового кристалла с держателем, содержащая координатный столик, нагреватель с устройством обдува инертным 10 газом, оптическую систему, прижимное устройство в виде корпуса с прижимом, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества путем обеспечения сварки по всей контактной поверхности кристалла и держателя, прижим 15 выполнен качающимся относительно центра,расположенного от контактной поверхности на расстоянии, не более удвоенного размера стороны привариваемого кристалла.2. Установка по п, 1, отличающаяся тем, 20 что прижим выполнен в виде завальцованногов корпусе шарика с сошлифованной по сегменту площадкой.3. Установка по п. 1, отличающаяся тем,что прижим выполнен в виде установленного 25 на закрепленной в корпусе втулке колпачка,во внутреннюю поверхность которого упирается торец завальцованного в корпус штифта.