Устройство для управления дозированием сыпучих материалов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
,1 О 05 ВПО 6 ЗОБРЕТЕН О ст еднив ельство СС 7/06, И 8 ОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССРО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ КОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(71) Научно-исследовательскийтут физики конденсированных срЕреванского государственного уситете(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ УПРАВЛЕНИЯ ДОЗИРОВАНИЕМ СЬ 1 ПУЧИХ МАТЕРИАЛОВ(57) Изобретение относится к электрическим средствам управления дозированием диэлектрических сыпучих материалов и может быть использовано втехнологических процессах, связанныхс переработкой или применением сыпучих материалов. Целью изобретенияявляется повьппение производительности устройства. Для достижения целив устройстве для управления дозированием сыпучих материалов частотоэадаюг 1 ая цепь генератора зашунтированаэлектрическим сопротивлением, 2 ил,30 Изобретение относится к электрическим средствам управления дозированием диэлектрических сыпучих материалов может быть использовано в техФ5нологических процессах, связанных спереработкой или применением сыпучихматериалов, и является усовершенствованием устройства по авт. св, 91126932,10Цель изобретения - повышение производительности устройства.На фиг.1 изображена структурнаясхема устройства; на фиг.2 - эквиваентная электрическая схема устройства.Устройство для управления дозированием сыпучих материалов содержитгенератор 1 регулируемой частотык выходу которого подключен последователъный резонансный контур из дросселя 2, индуктивность которого Ьк,и конденсатора 3, емкость которогоС , параллельно последнему включеныэлектродный питатель 4 с электродами 255 и 6, обладающий электрической емкостью Сд , и через приемник 7 сыпучего материала, электрическая емкость которого С 1 частотозадающая,устанавливают из следующих условий.Емкость конденсатора резонансногоконтура намного больше емкости электродного питателя, т.е. С к ) С1в силу чего питатель практически невлияет на режим работы резонансного 40контура,Эквивалентное электрическое сопротивление участка соединенныхпоследовательно"приемника сыпучего материала и шунтирующего сопротивления 45намного больше электрического сопротивления емкости резонансного конту 1 ., 1ра, т,е. -- + йфЫСП ш ыС,в силу чего этот участок также практически не влияет на режим работырезонансного контура,Входное электрическое сопротивление частотозадающей цепи генераторанамного больше номинала шунтирующего электрического сопротивления 8 ипрактически не вызывает перераспределения напряжения между включеннымипоследовательно приемником 7 и электрическим сопротивлением 8, образующими делитель напряжения,При незаполненном материалом приемнике падение напряжения на шунтирующем сопротивлении (в частотозадающей цепи генератора) таково, чточастота генератора отличается от частоты собственных колебаний резонан 1сного контура - ЫГь,сПри заполнении приемника требуемым количеством материала напряжениена шунтирующем сопротивлении таково,что частота генератора равна собственной частоте колебаний резонансно-го контура.Устройство работает следующим образом.Сыпучий материал загружают в электродный питатель 4, откуда он истекает в приемник 7. В начальный момент выдачи порции частота генератора 1 не совпадает с частотой собственных колебаний контура. Поэтомунапряжение на электродном питателе4, равное падению напряжения на конденсаторе 3 резонансного контура,мало и практически не влияет на истечение материала из питатела, Шунтирующее сопротивление 8 включено вчастотоэадающую цепь так, что приувеличении падения напряжения нанем частота генератора стремится кчастоте собственных колебаний резонансного контура ь)Увеличениепадения напряжения на шунтирующемсопротивлении 8 происходит вследствие увеличения электрической емкостиприемника 7 при заполнении его диэлектрическим материалом.Таким образом, по мере заполненияприемника диэлектрическим материаломчастота колебаний генератора приближается к частоте собственных колебаний контура. В результате напряжениена конденсаторе 3 контура, а значит,и на электродном питателе 4 возрастает, что обусловлено приближением схемы к режиму резонанса напряжений.Благодаря увеличению напряжения подача материала из питателя уменьшается.С приближением схемы к режиму резонанса напряжение на шунтирующем сопротивлении 8 увеличивается не только за счет увеличения электрической емкости приемника 7, но и благодарявозрастанию напряжения на конденсаторе 3 резонансного контура, к которому подключены соединенные последовательно сопротивление 8 и приемник 7 (фиг,2). Поэтому с приближением к резонансу частота генератора начинает меняться все более резкое и резонанс в схеме наступает быстрее.10В режиме резонанса напряжений напряжение на элементах контура (конденсаторе С к и индуктивности 1.к)может во много раэ превышать напряжение на его входе. Поэтому в момент 5 заполнения приемника 7 требуемым количеством материала, когда частота генератора 1 становится равной частоте собственных колебаний резонансного контура, напряжение на элек О тродном питателе 4 возрастает настолько, что истечение материала иэ йего прекращается, и выдача порции завершается. Благодаря тому, что установление резонансной частоты в схеме происходит относительно быстро, сокращается продолжительность завершения выдачи порции и производительность устройства, таким образом, повьппается.Формула изобрете.нияУстройство для управления дозированием сыпучих материалов по авт, св. В, 1126932, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности устройства, частотозадающая цепь генератора частоты зашунтирована электрическим сопротивлением и через приемник сыпучего материала подсоединена параллельно конденсатору резонансного контура,
СмотретьЗаявка
4207777, 07.01.1987
НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ФИЗИКИ КОНДЕНСИРОВАННЫХ СРЕД ЕРЕВАНСКОГО ГОСУДАРСТВЕННОГО УНИВЕРСИТЕТА
ЦАТУРЯН АРТАШЕС ИСАКОВИЧ, МИНЯЙЛО ВЛАДИМИР МИХАЙЛОВИЧ
МПК / Метки
МПК: G05D 7/06
Метки: дозированием, сыпучих
Опубликовано: 23.07.1988
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1411717-ustrojjstvo-dlya-upravleniya-dozirovaniem-sypuchikh-materialov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для управления дозированием сыпучих материалов</a>
Предыдущий патент: Регулятор расхода
Следующий патент: Устройство для автоматического регулирования уровня воды
Случайный патент: Упругое зубчатое колесо