Опалубка

Номер патента: 1283521

Опубликовано: 15.01.1987

Авторы: Гогин, Кузнецов, Кулешов, Лебедев, Суханов

МПК: G01B 11/04, G01B 11/06

Метки: изменения, интерферометр, оптических, поверхности, формы, элементов

...картины рассматриваются с помощью наблюдательной системы 10.Перед началом работы необходимопроизвести следующее: к оптическойповерхности зеркала 6 в центральнойего зоне приклеиваются элементы 4и 5 в виде двух полукругов плоскопараллельной пластинки полимерного материала, изготавливаются они из одной пластинки путем ее разрезания на две части, а приклеиваются таким образом, чтобы получился круг с зазором примерно 1 мм между половинками. Диаметр разрезаемого полимерного круга равен примерно половине диаметра зеркала 6. Далее зеркала 9-7, оптически сопряженные соответственно с зеркалом 6 и элементами 5, 4 и имеющие независимые подвижки, юстируются таким образом, чтобы на выходе наблюдательной системы 1 О получилось три...

Номер патента: 1504495

Опубликовано: 30.08.1989

Авторы: Большаков, Ильинская, Нагибина

МПК: G01B 11/24, G01B 9/021, G03H 1/04

Метки: голографического, записи, оптического, поверхности, формы, элемента

...полос, 1 ОНа чертеже представлена оптическая схема получения голографического оптического элемента (ГОЭ), формирующего пространственную интерференционную сетку,Схема получения ГОЭ содержит источник 1 когерентного излучения, расположенные по ходу излучения фотоэатвор 2, коллиматор 3, светоделитель 4, расположенные в объектном 20пучке поворотное зеркало 5, и фотопластинку 6, на которую записываютГОЭ, и установленное в опорном пучке зеркало 7.Способ осуществляют следующим 25образом.Луч от источника 1 когерентногоизлучения проходит через фотоэатвор2, расширяется коллиматором 3 и падает на светоделитель 4, которыйформирует объектную и опорную волны.Объектной волной с помощью поворотного зеркала 5 освещают фотопластин"ку 6....

Номер патента: 448347

Опубликовано: 30.10.1974

Авторы: Дикань, Лазарева, Либер, Пуряев

МПК: G01B 11/24, G01B 9/02

Метки: большого, выпуклых, диаметра, интерферометр, линз, поверхностей, поверхности, сферических, формы

...или фотографирования интерференционной каю ртины и экран 8 или фотопленку для осковское ордена Ленина и ордена Трудового Краснонамени высшее техническое училище им. Н.Э.Бауманарасногорскиф механический Завод448347 31.егистрации интерференционной картины.Линзу 9 с контролируемой поверхностью К устанавливают между компенсатором и эталонным сферическим зеркалом.lНа фиг.2 показано: У -изображение точки Р , .построенное толькоИкомпенсатором 5; У -изображение точки Р ,построенное компенсатоом и первой поверхностью линзы 9;и С-центры кривизны соответственно контролируемой поверхности линзы 9 и эталонного сферического зеркала б .Точки У,Си С должны быть с овмещены.Интерферометр работает следующим образом.Лучи, выходящие из объектива...

Номер патента: 746232

Опубликовано: 05.07.1980

Авторы: Пуряев, Шандин

МПК: G01M 11/00

Метки: апертурой, астрономических, зеркал, компенсатор, крупных, нулевой, поверхности, телескопов, формы

...отражающей поверх.ности зеркала его теоретической форме. Подавляющее большинство компенсаторов имеют конечную апертуру, т.е. преобразуют сферический волновой фронт в асферический. Применение таких компенсаторов в интерферометрах требует использования либо объектива, создающего сферический волновой фронт, либо разделительного кубика, установленного в сходя щемся пучке лучей. Эти дополнительные элементы (объектив или кубик) вносят погрешности в результаты контроля, снижают его надежнбсть и точность.30 6;, -ч рдена Трудового Красн Ъ чилище им,Н.Э,Баумана746232 Формула изобретения Составитель В.ВанторинРедактор Е.Братчикова Техрец б. Андрейко ректор М,Вигул ак ПП "Патент", г,ужгород, ул.Проектная,4 ил мениска, причем оба мениска...

Номер патента: 868345

Опубликовано: 30.09.1981

Автор: Маслов

МПК: G01B 11/24, G01B 9/02

Метки: двухлучевой, интерферометр, поверхности, формы

...выходящий из коллиматора 2, падает на одну иэ поверхностей оптического светоделительного элемента 3 (призмы), проходит до эталонной поверхности 4, где разделяется на два волновых фронта, один из которых (опорный) отражается от эталонной поверхности 4, а второй (рабочий) проходит через линейчатую структуру растра 5,и достигает конролируемой поверхности 8, Лучи, формирующие эталонный волновой фронт (опорные), отражаются от поверхности 4 без усиления или ослабления на линейной структуре растра 5. Из прошедших лучей (рабочих) до контролируемой поверхности 8 доходят лишь те, которые приходятся на светлые промежутки между полосами растра. Отразившись от контролируемой поверхности, рабочие лучи отражаются в воздушном промежутке между...