Свч-плазматрон

(21) (22) (46) (72) и И, (53) 42Г,В.Лысов 8 56) П. и др. Кин химических турной плазм с,234-235., 3417287,(прототип)", 1, те В иЩипач один к ка иций в1 е низкотемпер аука", 1965 Патент США 5-111, 1971 4) (57) СВЧ-ПЛАаксиально-вол МАТРОН, сод одный пере жащиид и ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ З 151) Н 05 В 7/181 Н 05 Н 1/24 перестыкованную к центральному проводнику коаксиальной части переходаи соосную ему разрядную камеру, о тл и ч а ю щ и й с я тем, что, сцелью повышения надежности плазметрона при увеличении мощности разряда, он снабжен закрепленными нацентральном проводнике диском и охватывающим его с равномерным зазоромкожухом с центральными отверстиямина противолежащих стенках, одной иэкоторых кожух соединен с наружнымпроводником коаксиальной части волноводного перехода, а через отверстие на другой стенке пропущенаразрядная камера.55 .1 линии Редактор С.Титова Техред А,Бабинец Корректор Е.Сирохман Заказ 8931/2Тираж 782 ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и .открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д.4/5Подписное ул.Проектная, 4 1 8100Изобретение относится к электротехнике, в частности к генераторамнизкотемпературной плазмы,Известен СВЧ-плаэматрон, в котором, разрядная камера помещена поперек волновода и проходит черезего широкие стенки. СВЧ разряд возбуждает волны типа Но 1 ..Недостаток конструкции заключается в том, что отсутствует электродинамическая стабилизация разрядаи при повышении мощности он смещается к стенке разрядной камеры в сторону возрастания поля, что снижаетнадежность плаэматрона. 15Известен также СВЧ-плазматрон,содержащий коаксиально-волноводныйпереход и пристыкованную к центральному проводнику коаксиальной частиперехода и соосную ему разрядную ка Омеру 21,Недостатком известной конструкции является то, что снижается еенадежность, особенно при увеличениимощности разряда. .25Целью данного изобретения является повышение надежности плазматронапри увеличении мощности разряда.Поставленная цель достигается тем,что плазматрон снабжен закрепленнымиа центральном проводнике диском и3охватывающим его с равномерным зазо"ром кожухом с центральными отверстиями на противолежащих стенках, однойиэ которых кожух соосно соединен с35наружным проводником коаксиальнойчасти волноводного перехода, а черезотверстие иа другой стенке пропущена разрядная камера.На чертеже изображен предлагаеОмый плазматрон.СВЧ-плазматрон содержит прямоугольный волновод 1, коаксиально-волноводный переход 2, наружный проводник 3и центральный проводник 4 коаксиальиой части перехода, снабженный диском 5. Соосно с центральным проводником в нем закреплена диэлектрическая разрядная камера 6. Наружныйпроводник 3 на участке диска 5 расфилиал ППП "Патент", г.Ужгород,ширен так, что образованы две радиальные линии 7, разделенные отрезкомкоаксиальной линии 8, для которойцентральным проводником служит боковая поверхность диска 5,Центральный проводник 4 содержитполость 9 и соосный с ник зонд 10,конец которого на некотором участкевходит в диэлектрическую разряднуюкамеру 6. При этом другой конец диэлектрической разрядной камеры .6пропущен в центральное отверстиерадиальной линии 11. Кроме того,конструкция содержит устройство 12 инициирования разряда. Наружный проводник 3 образует вокруг диска 5 кожух 13.Включение плаэматрона в работуначинается с подачи плазмообразующего газа в полость 9, который изэтой полости по кольцевому зазорумежду диэлектрической камерой 6 изондом .1 О поступает в подзондовоепространство внутри диэлектрическойтрубки 6.Далее посредством устройства 12по оси зонда 10 в подзондовое пространство на участке радиальной линиивводится металлический стержень (начертеже не показан), Одновременнос этим включается СВЧ"генератор, пи, тающий плазматрон. Энергия посредством коаксиально-волноводного перехода 2 из прямоугольного волновода 1 поступает в коаксиальную линию, образованную наружным проводником 4, и далее через радиальные линии 7 в пространство, ограниченное диэлектрической камерой 6, где на острие металлического стержня инициируется разряд, который по мере удаления стержня формируется на оси диэпектрической камеры 6.Конструкция СВЧ-плазматрона позволяет осуществить разряд высокого уровня мощности и повысить надежность плазматрона благодаря электродинамической стабилизации разряда при использовании радиальной волноводной