Способ автоматического регулирования процесса сушки

Номер патента: 477317

Опубликовано: 15.07.1975

Автор: Жаравин

МПК: G01K 17/06

Метки: вакуумного, напыления, пленок, поверхности, подложки, процессе, температуры, тонких

...измерения по предлагаемому способу один конец подложки нагревают до температуры испарения напыляемого вещества, а другой ее конец - до температуры в два раза меньшей, затем производят три последовательных напыления с заданной плотностью парообразного теплового носителя с определением после каждого напыления положения границы пленки и чистой поверхности подложки.Измерение температуры подложки производят следующим образом.На исследуемую подложку напыляют в виде тонкой пленки парообразный теплоноситель, зависимость скорости С осаждения атомов которого от температуры поверхностного слоя подложки имеет вид ется конденсация атомов тепло- поверхности подложки вследстя напыляемого вещества. Поревания одного из концов подпературы Тр, а другого...

Номер патента: 1052252

Опубликовано: 07.11.1983

Авторы: Бихман, Шишкин

МПК: B01J 19/18

Метки: аппарат, проведения, процессов, слое, тонком

...при полимеризации.Указанная цель достигается тем,что аппарат, содержащий вертикальныйкорпус с теплообменной рубашкой иштуцерами, с размещенным по центруприводным валом с лопастями и расположенным в верхней части смесительным устройством, включающим закрвпленные на внутренней поверхностикорпуса тарелки с отражательнымипластинами на одной стороне ю смон тированные на валу между тарелками диски с радиальными лопатками, снабжендополнительными отражательными плас"тинами, расположенными на другойстороне тарелок, радиальные лопаткикаждого диска закреплены с обеих:его сторон и.размещены между отражательными пластинами, которыевыполнены по радиусу перпендикулярно поверхности тарелок и закрепленына каждой стороне рядами в...

Номер патента: 394054

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Богатов, Кваша, Образцова, Форост, Харьков

МПК: B01D 1/22

Метки: аппарат, проведения, процессов, слое, тонком

...Для высоковязких жидкостей оптимальное значение этого угла 45.На фиг. 1 представлен предлагаемый аппарат, продольный разрез; на фиг. 2 - схема распределения продукта по стенке пленкообразователя.Аппарат состоит из вертикального к с греющей рубашкой 2 и испаритель бой 3, соединенной в нижней частисом аппарата и образующей такимкольцевой карман 4. Корпус 1 снабжен обогреваемой крышкой 5со штуцером 6, предназначенным для отводанизкомолекулярных соединений.В верхней части аппарата на испарительной5 трубе 3 закреплен цилиндрический пленкообразователь 7, на наружной поверхности которого, обращенной к испарительной трубе 3,выполнены взаимно пересекающиеся канавки8. Штуцер 9 служит для подачи вязкого про 0 дукта в кольцевой карман...

Номер патента: 1464047

Опубликовано: 07.03.1989

Авторы: Максимов, Максимова, Никифоров, Пронин, Родионов

МПК: G01K 7/00

Метки: пленок, полимерных, процессе, твч-нагрева, температуры

...камерырабочего конденсатора установки через отверстия в неподвижной плитеи подключаются к вторичному прибору, 40тд пленочный датчик 3 на заземленный электрод 1 устанавливают одиниэ образцов свариваемого материала 4,на пленочный датчик (сверху) - второй образец.К высокопотенциальному электроду (пластине 2) подвоцится высокочастотная энергия и производитсянагрев полимерных пленок так, какэто осуществляется при сварке. Температура, достигаемая в процессе на 50грева, регистрируется вторичным прибором.Для того, чтобы датчик це вносилсущественных искажений в тепловойрежим системы ВЧ-нагрева, необходимо55соблюдать определенные соотношениямежду толщиной датчика и расстоянием.между электродами.Прц одцородцом тецловыделеции профипь...

Номер патента: 1502348

Опубликовано: 23.08.1989

Авторы: Вахламов, Ефимчук, Яворский

МПК: B28B 17/00

Метки: легкобетонной, непрерывного, процессе, смеси, температуры, электроразогрева

...значения сопротивления, устанавливаемого зддатчиком 6, измерительная схема 7 формирует сигнал рассогласования, который поступает н регулирующий субблок 8 для усиле - ния и цреобразонация н соответствии Г принятым законом регулирования расхода одного цз дисперсных компонентов, Нагрузкой субблскл 8 являетсяцс.полцительцый механизм 9, снязлн,и с нарссаторосс 10. При работе ис(олц стельсьс 1 меха и:зм 9 через варил "ор 10 сорректсрует подачу дозатором 11 одого 1(э дсссперсных ентон в дгрднле:ии компенсации11 Гс(сдся рдГГО.1 ОППИя, 1 дС:ЛИ ссдГ- р;.(ер, сектр с оцротивлессис смсдси РлстЕт,;(СЗЦРССЦ(С ОДЦОГС ЦЭ ДИГ. -11 ець х кс мпоцецсен нс зрастдет иборот, С доэд .ром 11 в связном рсжц.се рлбоглет доэдсор 18 другого д 11 Гсдрсного...