Способ обработки оптических поверхностей селитры
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 62714
Автор: Ясаков
Текст
класс 4211, 21 М. 62714 СССР ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУБ. П. Ясаков СПОСОБ ОБРАБОТКИ ОПТИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ СЕЛИТРЫЗаяалсо 26 марта 19-11 г. аа Ъ 1297 Обычно поляризационные призмы. применяемые в микроскопах и других приборах, изготовляются из шпата - материала дорогого и со значительным количеством отходов.Были попытки заменить шпат селитрой (наиболее дешевой), При этом поверхности пластинок из нее после шлифовки подвергались полировке.Однако при изготовлении таким способом пластинок во время полировки получается некоторое срабатывание 1 стиран е о полирующую среду) поверхности селитры, которая должна быть оптическои, причем стертая часть селитры снова наранивается на полированную поверх.5 Ость, но уже с искаженным положением микрокристаллов по ОтнОШС. нию к поло)кен 1 ям кристаллов всей пластин:,и. Таие призмы Плохо поляризуют свет.Предметом изобретения является спосоо обработки преломляюцнх оптических поверя, остей селитры, по которому отцлифованную и не подвергнутую полировке поверхность на короткое время погружаот В ж идкос 1 ь, р астВОр 51101 цх ю се ч итрх . В ка 1 ССТВС тако 1 жидкости рекомендуется глицерин, вследствие наИл чшего и раВномерного Воздействия его на поверхность селитры.При изготоВлении поля 1 изационных призм пластинку, Выпиленную из целого куска кристалла оптически чистой селитры, нс полируют, а лишь только шлифуют в течение 5 - 10 ти наждаком, после чего пластинка становится матово. Затем ес погружают в глицерин минут на 5. После этого глицерин с пластинки удаляют путем протирания и последующей промывки ее в амилацетате. Полученная полупрозрачная пластинка вклеивается без нагрева, холодным способом, между двумя стеклянными половинками, составляющими призму.Такая призма, как показали опыты, поляризует свет так же, как и призма, изготовленная из шпата,Предмет изобретения Способ обработки оптических поверхностей селитры, предварительно отшлифованной, отл и ч ато 1 цийся тем, что отшлифованную поверхность на короткое время погружают в глицерин или иную жидкость, растворяющую селитру. Техред Т. П. Курилко Корректор И А. Шпынева Редактор Р. Б Кауфман Подп. к печ, 21.ХгЗак. 9565 2/6. Типография ЦБТИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР, Москва, Петровка, 14 Формат бум. 70 Х 108/ы Тираж 220 ЦБТИ при Комитете по делам изобретений и при Совете Министров СССР Москва, Центр, М. Черкасский пер., д, Объем 0,18 изд.Цена 4 коп.открытий
СмотретьЗаявка
1297, 26.03.1941
Ясаков Б. П
МПК / Метки
МПК: C03C 15/02, G02B 1/02, G02B 5/04
Метки: оптических, поверхностей, селитры
Опубликовано: 01.01.1943
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-62714-sposob-obrabotki-opticheskikh-poverkhnostejj-selitry.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ обработки оптических поверхностей селитры</a>
Предыдущий патент: Способ газификации жидкого кислорода
Следующий патент: Установка для дегидратации касторового масла
Случайный патент: Способ измерения толщины прозрачного пленочного покрытия на изделии