Способ откачки газов

) Дополнительное к авт. свид. 22) Заявлено 07,04,75 (23) 2128782/18-2с присоединением заявке М, К Н 01 дарставниьй адетат ссср делам кзабратее м атндьбтмм(088,8) 01.79,бюллетенькова 01.7 ата опубликования описания в, С. А. Мубояджян, и С. И. Мироак(71) Заявите 4) СПОС ТКАЧКИ ГАЗОВ к сорбирующей поверхности в электрическом поле и сорбции их пленкой, конденсирующейся иэ плазмы нр этой поверхностиОднако этот снос,об обладает недостаточной эффективностью, что связано с не обходимостью использования высоких напряжений (несколько тысяч вольт) для электростатической фокусировки электронов и увеличении нх длины свободного пробега Вероятность же ионизации молекул газа ускоренными электронами имеет максимальное значение при энергии электронов в несколько десятков электрон- вольт и сильно падает с ростом их энергии, Таким образом низкая ионизирующая способность высокоэнергетических электр нов обуславливает в этом способе недостаточную эффективность процесса ионной откачки,Бель изобретения - п фф тивности откачки газов.Это достигается зажиганием дополнительного несамостоятельного разряда в парах геттерного материала путем подачи рых низ Изобретение относится к области вакуумной техники, а именно к средствамполучения "безмасляного" вакуума,Известен способ. откачки газов с помощью электрораэрядных насосов, в кото на плазму, образованную путем 5ио ации остаточного газа и молекулгеттерного материала, выбитого ионнойбомбардировкой, наложено магнитное поле,Однако производительность такого способа довольно низкая. 0Наиболее близким к предлагаемомуявляется способ откачки газов в ионносорбционных насосах, заключающийся вподаче напряжения на электроды генератора плазмы, один из которых выполнен иэгеттерного материала.Сущность такого способа заключаетсяв переводе геттерного материала в соотояние плазмы в вакуумной дуге, возбуждаемой между электродами, выполненными 2 Оиз этого материала, ионизации молекулгаза электронами плазмы, ускорении обраэованных в результате ионизация ионов омелов, В. Е. Минайче618007 ф ПатентПроектная,4 Филиал Пг. Ужгород,отрицательного потенциала на поверхностьконденсации и наложения поперечного магнитного поля, величина напряженности которого такова, что параметр Холла электронов болыпе единицы, а параметр Холлаионов меньше единицы,Предлагаемый способ откачки газовпоясняется чертежом, где изображены алек.троды 1 и 2, соответственно катод и анод,между которыми возбуждается вакуумная 10цуга; источник 3 питания дуги вспомогательный электрод 4; вспомогательныйисточник 5, создакипий электрическое поле; магнитная катушка 6; корпус 7 откачного устройства, 15При таком способе откачки переводгеттерного материала в состояние плазмы осуществляется в стационарной илиимпульсной вакуумной дуге, возбуждаемой между катодом 1 и анодом 2, выпол ненным из геттерного материала, например титана, и поддерживаемой с помощью источника 3 питания, Образующаяся плазма заполняет объем корпуса7 откачного устройства, Йш повышения 25ионизирующей способносги эпектроновплазмы на нее наложены скрещенныеэлектрическое и магнитное поля, Электрическое поле создается между. вспомогательным электродом 4, имеющим: положительный потенциал, и корпусом 7 откачногоустройства, находящегося под отрицательным потенциалом вспомогательного источника 3. Осевое магнитное поле создается с помощью магнитной катушки 6,Электроны плазмы геттерного материалане могут попасть на корпус 7, находящий-ся под отрицательным .потенциалом, и ихуход из объема возможен только на вспо-,могательный электрод 4 (соединенный с ф положительным полюсом источника б) поперек силовых линий,Корпус 7 служит сорбирующей поверх- ,ностью, на которой осуществляется конденсация пленки геттерного материала,сорбция молекул активных газов и "замуровывание" образующихся в результате ионизации ионов несорбирукицихся газов, ускоряемых в электрическом поле,При этом, поскольку электроны плазмыявляются "замагниченными (в этомслучае параметр Холла цля электроновзначительно больше 1, а параметр Холладля ионов меньше 1), их уход на электрод 4 оказывается возможным толькопри ионизующих столкновениях с молекулами газа, приводящих к потере энергии электронов. Таким образом достигается высокая эффективность ионизации,молекул остаточных газов и повьшиетсяскорость ионной откачки откачного устройства Формула изобретения Способ откачки газов в ионно-сорбционных насосах, заключающийся в .подаче напряжения на электроды генератора плазмы, один из которых выполнен из геттерного материала, о т л и ч а ющ и й с я тем, что, с целью повышения эффективности,откачки, зажигают допол нительный несамостоятельный разряд в парах геттерного материала путем подачи отрицательного потенциала на поверхность конденсации и наложения поперечного магнитного поля, величина которого такова, что параметр Холла электронов больше единицы, а параметр Холла ионов меньше единицы. ЦНИИПИ Заказ 7835/60Тираж 92 Л. Подписное