Диафрагма для электролитических процессов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 602610
Авторы: Бобрин, Волков, Ильин, Кубасов, Приходченко
Текст
1 г 4 Я.Сдев О,АНИЕ ЕТЕНИЯ Союз Советских Социалистических Республик(51) М, Кл. 25 оуаарвтввнныу номнтвтоввтв Мнннотров оОСРно.долам наобрвтвннйн отнрытнй) Заявител 4) диАФРАГмА для электРолитичес цессов ет возможность, осрасстояние междутвращающее слияниеий, расширить их вивоположной стенке ов 0 и ф тверсти уют ди- Недос 20 гается тем, иафрагмеессов вып усов. Так олая,. 33 с присоединением заявки23) Приоритет - 43) Опубликовано 15.04.745) Дата опубликования Изобретение относится к электрохимическому произчодству, в частности к диафрагмам для элекролитических про цессов.Известна диафрагма для элекролитических процессов, представляющая собо пористую перегородку, препятствующую смешению анодных и катодных продукт 11, Ее недостатком является повышен ное омическое сопротивление,Наиболее близким к описываемомуизобретению по технической сущности достигаемому результату является диа рагма для электролитических процессов Фв которой выполнены сквозные о цилиндрической Форьы. Перфорир афрагму электронным лучем 2.татком известной диафрагмы является значительное омическое сопротивление при сохранении ее прочности на разрыв которая должна быть не ниже 100 кг/см для диафрагм из полимерных материаловЦелью настоящего изобретения является уменьшение омического сопротивления диафрагмы при сохранении ее прочности на разрыв.Поставленная цель достичто сквозные отверстия в ддля электролитических процнены в Форме усеченных кон Форма отверстий датавив оптимальноеотверстиями, предонескольких отверстнаправлении к протдиафрагмы.Расширение отверстий приводит к увеличению среднего суммарного сечения отверстий, а следовательно и к уменьшению омического сопротивления диафрагмы.На чертеже представлена диафрагма, сквозные отверстия которой выполнены в форме усеченных конусов. В диафрагме 1 из фторопласта сделаны отверстия 2 в форме усеченного конуса.Указанную диафрагму из фторопласта толщиной 200 мкм испытывают при электролизе хлоридов с концентрацией 300305 г/л Иас 0 при плотности тока 2,5 кА/м и концентрации едкого натра 120 г/л. Для сравнения испытывают известную диафрагму со сквозными отверстиями цилиндрической формы диаметром 200 мкм и шагом между ними 300 мкм Предлагаемая диафрагма выполнена с отверстиями в виде усеченного конуса, при этом на одной из сторон диафрагмы диаметр и шаг сохраняется таким же, как и для известной диафрагмы, но н602610 3 отличие от нее отверстия расширяютсянаправлении противоположной сторонь на конус, наибольший диаметр усеченно.го конуса составляет 300 мкм.При указанных условиях электролиза напряжение на злектролизере с предложенной диафрагмой,3 В, с известной - 3,5 В, при сохранении прочности на .разрыв.Уменьшение элекропроводности (падение напряжения в диафрагме) при 1 О рочность а разрыв, кг/см бьемерстия,э адение напряжеия в диафрагме,орма и размер отверс диафрагмы, мкм инд 100 0,00 Ц 200 Усеченный к ф 150100 200 0,Цил Я= 12 ъ 200 0,0- радиус; - ма;:ый р Н - высота,чани и ус; ия изобре О Источники инимание при з ормации, пертизе: ятые в тическиерсти ямим, что,кого сочностивыполн нко ско ов,.И. Производство хлосоды и неорганических 974, с. 41-43,с роаны а ФР 197 203790 Составитель Н.ГрехневаТехред Н.Андрейчук Корректо коич вожилов ор Тираж рственного комитет по делам изобретенМосква, Ж, Ра 38 Подписно Совета Министров СС й и открытийушская наб., д. 4/5 аэ 1798/26 ЦНИИПИ Госуд 130 илиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная Диафра процессов ф отличающ целью уменьшения тивления с сохра разрыв, сквозные в форме усеченныэлектролэными оясятее омичеением протверстиконусов снижении диафрагмы сквозными отверстиями в форме усеченного конуса иллюстРирует приведенная ниже таблица,Из таблицы видно, что если попы:аться увеличить злектропрс:.одность путем увеличения диаметРа цилиндричес кого отверстия до объема, равного коническому, зто приведет к резкому снижению прочности на разрыв до пределов, не допустимых для диафрагмы. 1Яким ра каустич хлорпродук 2. Заяв кл. 12 И 3
СмотретьЗаявка
2332462, 12.03.1976
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ В-2287
БОБРИН ВЛАДИМИР СТЕПАНОВИЧ, ВОЛКОВ ГЕОРГИЙ ИВАНОВИЧ, ИЛЬИН БОРИС АЛЕКСЕЕВИЧ, КУБАСОВ ВЛАДИМИР ЛЕОНИДОВИЧ, ПРИХОДЧЕНКО ВАСИЛИЙ ГАВРИЛОВИЧ
МПК / Метки
МПК: C25B 13/02
Метки: диафрагма, процессов, электролитических
Опубликовано: 15.04.1978
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-602610-diafragma-dlya-ehlektroliticheskikh-processov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Диафрагма для электролитических процессов</a>
Предыдущий патент: Установка для электрохимической обработки проволоки
Следующий патент: Способ извлечения тяжелых цветных металлов электролизом
Случайный патент: Способ определения мест замыкания на оболочку в кабельных линиях