Насадка для тепломассообменных аппаратов

Номер патента: 892184

Опубликовано: 23.12.1981

Авторы: Зексер, Майсоценко, Цимерман

МПК: F28D 19/02

Метки: аппарата, кипящего, насадка, слоя, теплообменная

...с горячим потоком в одной полости гранулы насадки, а следовательно, и покрытие 2 нагреваются в пределе до температуры горячего потока, а ядро 1 гранул начинает плавиться, так как температура его материала несколько ниже температуры горячего потока. При этом от горячего потока отбирается дополнительное количество тепла, равное скрытой теплоте плавления материала ядра. После перемещения гранул кипящего слоя в другую полость, в которой они контактируют с холодным потоком, последний нагревается, а гранулы охлаждаются. При этом происходит затвердевание их ядра 1, что ведет к выделению скрытой теплоты плавления 1 материала ядра 1, которая расходуется наобогрев холодного потока.Таким образом, теплоаккумулирующаяспособность насадки складывается...

Номер патента: 1604460

Опубликовано: 07.11.1990

Авторы: Бардер, Рахманов, Робул

МПК: B01J 8/24

Метки: аппарата, кипящим, отбойный, слоем, элемент

...материала на подвнжные отбойные элементы 4 и его пе"ренос последним пб площади кипящегослоя 2 позволяют обеспечить болееравномерное распределение сыпучегоматериала по площади кипящего слоя 2.Поскольку кипящий слой 2 обладает1 свойствами жидкости, то для плаванияпо его поверхности поплавкового отбойного элемента 4 общая плотностьпоследнего с учетом груза 7 должна1 быть меньше плотности кипящего слоя 252,. Для топочного устройства, например, отбойный элемент 4 может бытьизготовлен из такого огнеупорного материала, как пеноперлитокерамикаплотностью 200-250 кг/и , диаметромзшляпки 5 порядка 130-1 О мм.Установка на нижней части ножки 6отбойного элемента 4 груза 7 придаетустойчивость элементу 4 и обеспечива-ет вертикальное положение его...

Номер патента: 1615461

Опубликовано: 23.12.1990

Авторы: Агапов, Иванов, Кочеров, Кравченко, Лядник, Мищенко, Петроковский, Разин, Хохлов

МПК: F22G 3/00, F27B 15/16

Метки: аппарата, влажного, кипящего, пара, перегрева, слоя, теплообменный, элемент

...внешней 2 и внутренней 1 труб составляет 0,551,15. Отношение площади проходного сечения внутренней трубы 1 к ее поверхности составляет 0,00350,0043.При реализации способа перегрева влажный пар от парогенератора (не показан) подают в коллектор 3, откуда он поступает в трубу 1, полностью осушается при пере-даче тепла от кипящего слоя зернистого , материала через перегретый пар, находящий;ся в кольцевом канале, образованном тру;бами 1 и 2, при одновременном теплообмене перегретого пара с кипящим слоем и влажным паром. Из кольцевого каналапар подают в коллектор 4 перегретого пара и выводят из элемента. При осушке г 1 ара , в трубе 1 на ее внутренней поверхности происходит образование накипи за счет отложения солей, содержащихся в паре....

Номер патента: 1699594

Опубликовано: 23.12.1991

Авторы: Артамонов, Квасенков, Квасенкова

МПК: B01J 19/30

Метки: аппаратов, насадка, тепломассообменных

...тельно друга. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. Полоса может быть выголк .на с различной кратностью поворота омов и шага изменения ширины.Насадка работает следующим образом.Газ вступает в контакт с жидкостью, Насадку засыпают в аппарат плотно за счет не только стыковки повернутых друг относительно друга на 90 элео .ментов, но и совпадения положения широких и узких частей полосы соседних насадок. За счет изменекия ширины полосы достигается повышение интенсивности тепломассообмена на поверхности насадки при изменении режимов течения пленки жидкой фазы по поверхности насадки. Так, при стекании жидкости по элементу насадки в сторону увеличения ширины полосы за счет смачивания ее поверхности пленка будет истончаться к замедлять ско1699594...

Номер патента: 466024

Опубликовано: 05.04.1975

Авторы: Вилков, Горина, Гурфинкель, Дегтярев, Дерешкевич, Орлов, Шапошников

МПК: B01D 3/32

Метки: аппаратов, колонных, насадочных, опора, элементов

...массообмен и создает условия для подвеса орошающей жидкости,Цель изобретенияувеличение площади свободного сечения. Это достигается за счет выполнения верхней поверхности балок волнистой с плоскими выступами для размещения насадки.На фиг. 1 схематически изображено размещение опоры с насадкой в колонном аппарате; на фиг, 2 - разрез по А - А на фиг. 1; на фиг. 3 - опора с насадочными элементами, ваксонометрии,Опора для насадочных элементов состоитиз балок 1, верхняя поверхность которых выполнена волнистой с плоскими выступами 2и впадинами 3. Ка выступах 2 размещаютсянасадочные элементы 4, например кольцаРашига. Между балками 1 для предотвращения их сдвига смонтированы распорки 5, Бал 10 кн 1 и распорки 5 установлены на опорноекольцо 6...