Способ изготовления экрана

Свае Соеетокил Сыиалистических Реслублик) Зависимое от ав ви етельства 51) М. Кл. Н ОЦ 920 2) Заявлено 15.11,71 (21) 1712050/26-25 аявкиприсоединением Госудерстееииыл комитетСовета Мииистрое СССРло делам изобретенийр открытий Приоритет(53) УДК 621.385(088,8 Опубликовано 15.02,75. Бюллетень6 та опубликования исания 06,06.75(54) СПОСОБ МЗГО 1 ОВЛЕ Изобретение относится к области цв телевидения, в частности, к способам из ления экранов со светопоглощающим тием.Известен способ изготовления экрана со светопоглощающим покрытием, предназначенного для использования в цветных кинескопах с фокусирующей маской, состоящий в нанесении на подложку экрана фоторезиста, дублении фоторезиста фотоэкспонированием через маску, диаметры отверстий которой принудительно изменяются в процессе изготовления кинескопа, проявлении незадубленных участков, нанесении светопоглощающего состава, растворении и удалении с экрана задубленных участков фоторезиста вместе с отложившимся на них светопоглощающим составом, формировании люминофорной мозаики на прозрачных участках светопоглощающего покрытия.Недостаток известного способа состоит в необходимости использования маски, диаметры отверстий которой принудительно изменяют, с целью получения малых диаметров прозрачных участков светопоглощающего покрытия, что существенно осложняет описанный способ.Отличие предлагаемого способа состоит в том, что дубление фоторезиста светопоглоетного готов- покры 2) Авторы изобретения А. Л, Цеханский щающего покрытия производят методом электронного экспонирования при потенциале маски, меньшем потенциала экрана.Достоинство данного способа состоит в 5 том, что он позволяет обеспечить точное совпадение электронных следов с соответствующими люминофорными элементами, а в дальнейшем снизить требования на жесткость допусков на относительное расположение люми нофорных элементов и прозрачных участков.Способ осуществляют следующим образом.На экран одним из известных способов, например центрифугированием, наносят фоторезист, например очувствленный бихроматом 15 аммония поливиниловый спирт. После сушкиэкран, собранный с маской, размещают на установке электронного экспонирования, например, ти а разборная трубка.Экспонирование тремя лучами одновремеп но или последовательно при однократной откачке приводит к дублению поливинилового спирта на тех участках экрана, которые впоследствии будут заняты люминофорными элементами, причем так как потенциал маски 25 меньше потенциала экрана (дубление производят сфокусированным лучом), то и задубленные участки будут иметь меньший диаметр, чем диаметр отверстий маски. Так, при У=10 кв, У,=25 кв диаметр задубленных460586 Составитель И. ЕреминаТехред Т. Миронова Корректор Л, Брахнина Редактор Б, .ИанкинаЗаказ 1345/1 Изд, Юо 1294 Типография, пр. Сапунова, 2 участков может составить примерно 0,7 диаметра отверстия маски.На чертеже схематически представлено относительное расположение маски и экрана.Как видно по чертежу, диаметр электронного луча в плоскости маски - дл, в плоскости экрана - д, диаметр задубленного участка - й. Люминофорные элементы располагаются не только на участках экрана, свободных от светопоглощающего покрытия, но и на самом покрытии. Однако наблюдателя достигает излучение люминофора только с площадок диаметром В. Разность диаметров й - д создает охранное кольцо, обеспечивающее однородность цветности белого поля, а сравнительно большое расстояние между элементами люминофора гарантирует однородность основных цветов.Электронное экспонирование светопоглощающего покрытия при напряжениях экрана и маски, соответствующих рабочему режиму кинескопа с фокусирующей маской, обеспечивает автоматическое совпадение следов электронных лучей в готовом кинескопе с отверстиями в светопоглощающем покрытии, благодаря чему допускается эксплуатация его с меньшим охранным кольцом, чем при изготовлении покрытия методом фотопечати.Предмет изобретения5 Способ изготовления экрана со светопоглощающим покрытием, предназначенного для использования в цветных кинескопах с фокусирующей маской, состоящий в нанесении на подложку экрана фоторезиста, дублении фо торезиста через маски, проявлении незадуб.ленных участков, нанесении светопоглощающего состава, растворении и удалении с экрана задубленных участков фоторезиста вместе с отложившимся на них светопоглощающим 15 составом, формировании люминофорной мозаики на прозрачных участках светопоглощающего покрытия, отличающийся тем, что, с целью получения малых по сравнению с диаметрами отверстий фокусирующей мас ки размеров люминесцирующих элементов иповышения совпадения следов электронных лучей с соответствующими люминесцирующими элементами, дубление фоторезиста свето- поглощающего покрытия производят методом 25 электронного экспонирования при потенциалемаски, меньшем потенциала экрана. Тираж 833 Подписное